公开(公告)号：CN108140558A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201780001245.8

申请日：2017-05-12

Applicant: 爱德万测试株式会社

Inventor： 山田章夫 ,  大川达朗 ,  黑川正树

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种向产生多个带电粒子束的多个柱部分配电子束控制数据的曝光装置及曝光数据结构。本发明提供一种曝光装置以及这种曝光装置用的曝光数据结构及电子束控制数据的创建方法，所述曝光装置包括：多个柱部，产生沿第一方向排列的多个带电粒子束；柱控制部，单独控制带电粒子束的照射时刻；转换部，以描述器件图案的配置坐标的设计数据为基础转换成曝光数据，所述曝光数据由具有个带电粒子束的宽度并沿第二方向延伸的带状区域进行而成的第二数据和基于第一方向的位置指定该第二数据的第一数据构成；第一存储部，存储曝光数据；以及分配部，依照曝光顺序重构曝光数据并分配给各个柱部。

公开(公告)号：CN105739246A

公开(公告)日：2016-07-06

申请号：CN201510673307.2

申请日：2015-10-16

Applicant: 爱德万测试株式会社

Inventor： 山田章夫 ,  菅谷慎二 ,  黑川正树 ,  濑山雅裕

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明组合光曝光技术及带电粒子束曝光技术而形成复杂且微细的图案。本发明提供一种曝光装置及曝光方法，该曝光装置对与试样上的线图对应的位置照射带电粒子束，且具备：射束产生部，在线图的宽度方向上产生照射位置不同的多个带电粒子束；扫描控制部，使多个带电粒子束的照射位置沿着线图的长度方向扫描；选择部，在线图上的长度方向的被指定的照射位置选择多个带电粒子束中的至少一个带电粒子束，使其应照射至所述试样；以及照射控制部，控制将所选择的至少一个带电粒子束照射至试样。

公开(公告)号：CN106098516A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610235948.4

申请日：2016-04-15

Applicant: 爱德万测试株式会社

Inventor： 山田章夫 ,  菅谷慎二 ,  黑川正树 ,  泷泽昌弘 ,  岩下龙马

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明实现一种多射束形成元件，其利用互补光刻法，能稳定地加工微细的线图案。本发明提供一种元件及应用这种元件的曝光装置，该元件是使射束成形并偏向的元件，具备：孔径层，具有使从元件的第1面侧入射的射束成形并通过的第1开孔；及偏向层，使通过孔径层的射束通过并偏向；且偏向层具有：第1电极部，具有与对应于第1开孔的偏向层内的射束通过空间相对的第1电极；及第2电极部，具有在偏向层内独立于相邻层并朝向射束通过空间延伸的延伸部、及在端部隔着射束通过空间而与第1电极对向的第2电极。