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公开(公告)号：CN119238226A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411773339.5
申请日：2024-12-05
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明涉及磨削加工领域，特别涉及一种磨削加工方法及装置。一种磨削加工方法，步骤如下：S1：用固态胶膜将待磨削工件固定在磨削台；S11：在过渡板形成固态胶膜；S12：将待磨削工件放置在固态胶膜，使待磨削工件通过固态胶膜固定在过渡板；S13：将过渡板固定在磨床的磨削台。S2：对待磨削工件进行磨削加工。本发明还涉及一种磨削加工装置，包括磨削机构和打胶机构；打胶机构包括固定在磨削台上的过渡板、向过渡板注入热熔胶流体的施胶枪和对待磨削工件进行加热的加热垫；待磨削工件通过固态胶膜固定在过渡板上，并通过磨削机构进行磨削加工。本发明的一种磨削加工方法及装置提高了单次磨削加工精度，实现了更好的平面度。
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公开(公告)号：CN115958471A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211700720.X
申请日：2022-12-28
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了本发明提供了一种光掩膜基板加工方法，光掩膜基板原材料为玻璃基板，加工方法包括：对玻璃基板进行磨边、磨棱、倒角、喷淋清洗，获得玻璃基板加工用测量数据，根据测量数据确定加工方案，使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削；磨削后使用抛光设备对玻璃基板依次进行粗抛与精抛，通过使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削，在快速改善原材料平面度的同时，逐步去除上一次磨削后玻璃基板表面的损伤层，在原材料沿X轴方向往复运动时，金刚石砂轮沿Y轴连续进刀，在玻璃基板行进轨迹类似W型，磨削后可以获得无走刀痕迹和台阶的均匀磨砂表面，对原材料要求不高，工艺流程简便，加工效率高，生产成本低，经济效用高。
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公开(公告)号：CN109047160A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201810890472.7
申请日：2018-08-07
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版玻璃基板的清洗方法，首先通过将玻璃基板浸入浓硫酸与过氧化氢的比例的取值范围为4:1至6:1的第一SPM洗剂中去除有机物类沾污；再通过将玻璃基板浸入中性无机洗剂与碱性无机洗剂的比例的取值范围为1:4至1:6的混合液中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较大的颗粒以及沾污；之后通过将所述玻璃基板浸入纯水中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较小的颗粒；最终将玻璃基板提拉出纯水以完成干燥脱水，从而全方面的清除玻璃基板表面的各种颗粒以及沾污。
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公开(公告)号：CN118990829A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410948970.8
申请日：2022-12-28
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光掩膜基板加工方法，其中，光掩膜基板原材料为玻璃基板，加工方法包括：对玻璃基板进行磨边、磨棱、倒角、喷淋清洗，获得玻璃基板加工用测量数据，根据测量数据确定加工方案，使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削；磨削后使用抛光设备对玻璃基板依次进行粗抛与精抛，通过使用不同精度金刚石砂轮依次进行不同精度磨削，在快速改善原材料平面度的同时，逐步去除上一次磨削后玻璃基板表面的损伤层，在原材料沿X轴方向往复运动时，金刚石砂轮沿Y轴连续进刀，在玻璃基板行进轨迹类似W型，磨削后可以获得无走刀痕迹和台阶的均匀磨砂表面，对原材料要求不高，工艺流程简便，加工效率高，生产成本低，经济效用高。
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公开(公告)号：CN118990137A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411177905.6
申请日：2024-08-27
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种超大尺寸玻璃基板面形修正方法以及加工装置，其中，所述超大尺寸玻璃基板面形修正方法包括以下步骤：对待加工件进行整体研磨和/或局部抛光，得到所需工件，所需工件的PV值≤10μm，且所需工件的TTV值≤10μm。本发明提供的超大尺寸玻璃基板面形修正方法，通过整体研磨和局部抛光，达到修正后的超大尺寸玻璃基面，PV值≤10μm、TTV值≤10μm的效果，并且通过自重研磨，解决了磨削工序没有理想基准面的难题，而且对待加工件的要求低，对待加工件没有面形精度的要求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117348346A
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202311362028.5
申请日：2023-10-20
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明公开了一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法，步骤包括涂布第一光刻胶，形成第一光刻胶层，第一光刻胶的光刻胶原液与稀释剂的体积比为第一稀释比例R1；烘烤第一光刻胶层，采用阶梯升温方式对第一光刻胶层进行烘烤，使第一光刻胶层成膜；在第一光刻胶层表面涂布第二光刻胶，形成第二光刻胶层，第二光刻胶的光刻胶原液与稀释剂的体积比为第二稀释比例R2；烘烤第二光刻胶层，采用阶梯升温方式对第二光刻胶层进行烘烤，使第二光刻胶层成膜；将烘烤处理过的玻璃基板放入洁净环境中使光刻胶和玻璃基板降至室温。本发明提供的厚层光刻胶的涂布烘烤方法，能够获得厚度大、胶面均匀、感光性好的厚层光刻胶。
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公开(公告)号：CN119369182A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202411564899.X
申请日：2024-11-05
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
IPC: B24B1/00 , B24B7/24 , B24B41/06 , B24B49/00 , B24B49/16 , B24B37/04 , B24B37/08 , B24B37/34 , B24B37/28
Abstract: 本发明涉及一种掩模基板玻璃的双面抛光方法，包括：使用双面抛光机对玻璃进行抛光，双面抛光机包括上抛光盘、下抛光盘、上抛光垫、下抛光垫、太阳轮、齿圈、若干个游星轮；在抛光时下抛光盘比上抛光盘转速快，下抛光盘与上抛光盘、齿圈和太阳轮的转动方向相反。本发明以在抛光过程中保持玻璃反面面型为中心低四周高的凹面型，阻止玻璃正面面型恶化为构思，有效提高玻璃抛光后的正面的平面度效果。
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公开(公告)号：CN119045274A
公开(公告)日：2024-11-29
申请号：CN202411152717.8
申请日：2024-08-21
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种光掩膜基板胶膜层的制备方法，所述制备方法包括以下步骤：步骤S1：对铬膜坯料进行清洗；步骤S2：用热板对铬膜坯料进行过烘烤；步骤S3：对铬膜坯料涂布增粘剂；步骤S4：对铬膜坯料涂布稀释剂；步骤S5：对铬膜坯料涂布光刻胶；步骤S6：对铬膜坯料进行EBR处理；步骤S7：对铬膜坯料烘烤坚膜处理，最终获得光掩膜基板。此方法通过改变铬膜层表面性质，增加疏水性，提升与光刻胶的润湿性和附着力，减少光刻胶用量，保障均匀性和效果，优化接触角与疏水性能，增强铬膜层与胶层粘附力，确保光刻线条质量，降低脱胶风险，大幅节约成本。
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公开(公告)号：CN118778364A
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202410949284.2
申请日：2024-07-16
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法，其中，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面镀有一层氧化薄膜，所述涂布烘烤方法包括：旋转玻璃基板，将光刻胶在玻璃基板的边缘往中心方向动态滴胶；涂布第一光刻胶，形成第一光刻胶层；烘烤第一光刻胶层，使第一光刻胶层成膜；在所述第一光刻胶层表面涂布第二光刻胶，形成第二光刻胶层，烘烤第二光刻胶层，采用阶梯升温方式对所述第二光刻胶层进行烘烤，使第二光刻胶层成膜；将烘烤处理过的玻璃基板放入洁净环境中使光刻胶和玻璃基板降至室温；第一稀释比例R1大于第二稀释比例R2。本发明提供的厚层光刻胶的涂布烘烤方法，能够获得厚度大、胶面均匀、感光性好的厚层光刻胶。
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公开(公告)号：CN109047160B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201810890472.7
申请日：2018-08-07
Applicant: 湖南普照信息材料有限公司
Abstract: 本发明公开了一种掩膜版玻璃基板的清洗方法，首先通过将玻璃基板浸入浓硫酸与过氧化氢的比例的取值范围为4:1至6:1的第一SPM洗剂中去除有机物类沾污；再通过将玻璃基板浸入中性无机洗剂与碱性无机洗剂的比例的取值范围为1:4至1:6的混合液中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较大的颗粒以及沾污；之后通过将所述玻璃基板浸入纯水中进行超声清洗可以去除玻璃基板表面较小的颗粒；最终将玻璃基板提拉出纯水以完成干燥脱水，从而全方面的清除玻璃基板表面的各种颗粒以及沾污。
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