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公开(公告)号：CN119124365A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202310688934.8
申请日：2023-06-12
Applicant: 湖北工业大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明涉及波前测量领域，尤其涉及一种四波横向剪切干涉测量系统的二维衍射光栅高精度对准方法,本发明结合自主搭建显微成像系统，实现了二维衍射光栅的高精度对准，同时优化设计显微成像系统，对准系统提供了x、y方向、纵向和旋转四个方向上的自由度，光路系统可以通过四个方向的移动和旋转进行二维衍射光栅对准，补偿光学元件对准产生的同轴度与平行度误差，显著提高二维衍射光栅对准的精确度与简便性，保证二维衍射光栅的衍射效率及各项性能，解决了μm微米级周期性光栅对准难度大对准精度不高的问题，提高四波横向剪切干涉波前测量仪的波前重构的效率与精确性。
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公开(公告)号：CN117409138A
公开(公告)日：2024-01-16
申请号：CN202311338701.1
申请日：2023-10-16
Applicant: 湖北工业大学
Abstract: 本申请涉及精密光学测量领域，特别涉及一种基于白光显微干涉的高信噪比三维重建方法及装置。本申请通过获取若干相移差相同的连续干涉图像，通过多次差分处理和移动平方求和重构原始信号，并采用二次多项式拟合获取零光程差估计位置，再结合高度转化公式得到被测物品的粗略形貌。由于本申请中零光程差位置信息由尽可能相邻的多幅图像信息获取，能够排除环境光和机器噪声对干涉信号的影响，因此能够准确定位零光程差位置。解决了现有技术中因环境影响造成的零光程差位置定位错误的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117804376A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202311836605.X
申请日：2023-12-28
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明属于形貌测量领域，并具体公开了一种基于白光显微干涉的形貌测量方法及系统，其包括：获取具有待测样品表面轮廓的白光干涉图像序列；确定白光干涉图像序列中各像素点强度最大值位置，即零光程差位置索引；基于零光程差位置索引，利用半波补偿法求取相位，并计算出样品形貌；基于零光程差位置索引，利用能量大小和能量集中度表征所有像素点；拟合得到能量集中度关于能量大小的最佳阈值曲线，从而判断噪点位置；对待测样品形貌上的各噪点进行校正，完成样品形貌测量。本发明能够有效的识别并校正低信噪比数据点，有效提高了白光显微干涉三维形貌的表面平整度，精准去除噪声点的同时最大限度地保留了原始真实数据。
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公开(公告)号：CN117804375A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202311833839.9
申请日：2023-12-28
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明属于波前校平领域，并具体公开了一种四波横向剪切干涉测量时的差分相位校平方法及系统，其包括如下步骤：S1、基于四波横向剪切干涉采集待测样品的干涉图，并获取差分相位；S2、基于差分相位，通过三点迭代拟合方法进行平面拟合，并确定拟合平面法向量；S3、根据拟合平面法向量确定旋转角；S4、根据所述旋转角对差分相位进行旋转校平。本发明可对差分相位进行准确校平，从而通过校平差分相位来减少、消除重建入射波前的倾斜与翘曲。
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公开(公告)号：CN119085481A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202310663109.2
申请日：2023-06-05
Applicant: 湖北工业大学
IPC: G01B9/02098 , G01B11/24
Abstract: 本发明涉及光学测量技术领域，尤其涉及一种基于菱形高斯窗函数的四波横向剪切干涉相位复原方法。首先，对四波横向剪切干涉图测量图进行二维离散傅里叶变换，再利用设计的菱形高斯窗函数对变换的频域信息进行滤波，以获取x和y方向的正负一级频谱；然后，将两个方向的正或负一级频谱移至零级频谱中心，再依次通过二维离散傅里叶逆变换、背景光去除以及反正切运算等即可得出x和y方向的差分相位；最后，利用傅里叶基底函数对x和y方向的差分相位进行最小二乘拟合，并将拟合得到的傅里叶系数重新代入基底函数，即可计算得出被测波前的相位复原结果。与采用其他常用的滤波窗函数相位提取时得到的重建PV误差进行对比分析表明，本发明能够去除对测量结果影响较大的离群点，从而具有较高的相位复原精度和对比度。
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公开(公告)号：CN117232430A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202311088537.3
申请日：2023-08-28
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明属于相位成像相关技术领域，并公开了一种基于定量相位显微成像的纳米结构三维形貌测量系统与方法。该测量系统包括光源滤波模块、可切换待测模块、显微镜模块、马赫‑曾德尔干涉仪模块和成像模块，其中，光源滤波模块用于产生分布均匀的高斯光束，可切换待测模块中包括两条并联的光路，分别用于将光线照射在可透射或不可透射的待测样品表面；显微镜模块用于将待测样品透射或反射的光进行显微放大；马赫‑曾德尔干涉仪模块用于将来自显微镜模块的光束分束，然后两束光产生干涉后合束进入成像模块中成像，以此获得由待测样品表面三维形貌形成的干涉图像；通过本发明，解决三维形貌测量过程成像模式单一，光路复杂的问题。
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公开(公告)号：CN209887677U
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201920308083.9
申请日：2019-03-12
Applicant: 湖北工业大学
Abstract: 本实用新型公开一种可排屑抽气式夹具，用于在非金属材料的钻孔过程中，将产生的粉尘或碎屑收集并抽出，包括上模和下模，上模与下模呈长方体状，上模设置有定位销，下模设置有定位孔，上模与下模通过定位销和定位孔扣合为一体，上模与下模之间加工有用于夹持待加工件的通孔；上模中设置有抽气孔、进气孔、引导孔，下模中设置有进气孔，引导孔用于引导钻头进给；抽气孔、进气孔、引导孔与通孔四者之间相互连通，连通处加工有一个空腔，所述空腔呈圆环状或球状，空腔的体积等于夹持在该空腔内部待加工工件体积的1.5~3倍，且空腔的厚度大于或等于进气孔直径，进气孔的进口处设置有可调节孔径大小的节气门。结构简单，便于安装和固定物件，成本低廉。
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