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公开(公告)号：CN1199726C
公开(公告)日：2005-05-04
申请号：CN03140525.8
申请日：2003-05-27
Applicant: 清华大学
Abstract: 含氮的二氧化钛光催化薄膜及其制备方法，涉及到半导体光催化技术领域，特别涉及到二氧化钛光催化薄膜技术领域。本发明的含氮的二氧化钛光催化薄膜，其特征在于，它含有氮元素，氮元素在所述薄膜中的质量百分比为0.1%～5%；该薄膜的制备方法，是采用磁控溅射方法，其特征在于，反应气体是高纯氧气和氮气的混合气体，其中氮气含量为5%～95%。该薄膜降低了半导体光催化剂的禁带宽度，使得薄膜具有对可见光的吸收能力，在可见光辐照下具有对有机污染物的催化降解能力，在紫外光辐照的条件下，相对于纯二氧化钛光催化薄膜其降解能力也有大幅度提高。
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公开(公告)号：CN1298883C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN200410000727.6
申请日：2004-01-16
Applicant: 清华大学
Abstract: 接触角可调的Ag/TiO2复合薄膜及其制备方法，涉及半导体光生亲水性能技术领域。其特征是，该薄膜是一种在二氧化钛薄膜表面沉积有纳米尺度的银颗粒的复合薄膜。该薄膜的制备方法是首先采用反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜，该方法能够有效控制薄膜晶体结构，提高了薄膜的亲水性能；然后在制备得到的二氧化钛薄膜上沉积具有纳米尺度的银颗粒，这样就制备得到能够在憎水和亲水之间自由调节的复合薄膜。Ag/TiO2复合薄膜是一种接触角在较大范围可变的薄膜材料，该薄膜在无紫外辐照的情况下表象为较强的憎水性能，可以用于防结雾场合；需要清理时可以用紫外辐照使其表面接触角大幅下降，利于清理；停止紫外辐照后此材料可以恢复其憎水性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1354042A
公开(公告)日：2002-06-19
申请号：CN01134335.4
申请日：2001-10-31
Applicant: 清华大学 , 北京市中科凯澜科技发展有限公司
CPC classification number: C23C14/083 , C23C14/0036
Abstract: 一种二氧化钛光催化空气净化薄膜及其制备方法,其特征是利用磁控溅射在玻璃、金属、陶瓷等载体上形成二氧化钛光催化空气净化薄膜,使用纯金属钛靶材和氧气的直接合成,并利用弧抑制电源防止纯金属钛靶材的中毒。其中二氧化钛薄膜形成的晶粒可沿载体的垂直方向或水平方向成长,晶粒粒径为10～100纳米,薄膜的厚度为20～100纳米。二氧化钛薄膜是由单一锐钛矿相组成或单一金红石相组成或是由锐钛矿相和金红石相的混合相组成,其中锐钛矿占50%～98%,金红石相占2%～50%。这种薄膜可以有效的对有害气体如甲醛、苯酚等产生降解作用。
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公开(公告)号：CN1557990A
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：CN200410000727.6
申请日：2004-01-16
Applicant: 清华大学
Abstract: 接触角可调的Ag/TiO2复合薄膜及其制备方法，涉及半导体光生亲水性能技术领域。其特征是，该薄膜是一种在二氧化钛薄膜表面沉积有纳米尺度的银颗粒的复合薄膜。该薄膜的制备方法是首先采用反应磁控溅射制备二氧化钛薄膜，该方法能够有效控制薄膜晶体结构，提高了薄膜的亲水性能；然后在制备得到的二氧化钛薄膜上沉积具有纳米尺度的银颗粒，这样就制备得到能够在憎水和亲水之间自由调节的复合薄膜。Ag/TiO2复合薄膜是一种接触角在较大范围可变的薄膜材料，该薄膜在无紫外辐照的情况下表象为较强的憎水性能，可以用于防结雾场合；需要清理时可以用紫外辐照使其表面接触角大幅下降，利于清理；停止紫外辐照后此材料可以恢复其憎水性能。
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公开(公告)号：CN1141178C
公开(公告)日：2004-03-10
申请号：CN01134335.4
申请日：2001-10-31
Applicant: 清华大学 , 北京市中科凯澜科技发展有限公司
CPC classification number: C23C14/083 , C23C14/0036
Abstract: 一种二氧化钛光催化空气净化薄膜及其制备方法，其特征是利用磁控溅射在玻璃、金属、陶瓷等载体上形成二氧化钛光催化空气净化薄膜，使用纯金属钛靶材和氧气的直接合成，并利用弧抑制电源防止纯金属钛靶材的中毒。其中二氧化钛薄膜形成的晶粒可沿载体的垂直方向或水平方向成长，晶粒粒径为10～100纳米，薄膜的厚度为20～100纳米。二氧化钛薄膜是由单一锐钛矿相组成或单一金红石相组成或是由锐钛矿相和金红石相的混合相组成，其中锐钛矿占50%～98%，金红石相占2%～50%。这种薄膜可以有效的对有害气体如甲醛、苯酚等产生降解作用。
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公开(公告)号：CN1454710A
公开(公告)日：2003-11-12
申请号：CN03140525.8
申请日：2003-05-27
Applicant: 清华大学
Abstract: 含氮的二氧化钛光催化薄膜及其制备方法，涉及到半导体光催化技术领域，特别涉及到二氧化钛光催化薄膜技术领域。本发明的含氮的二氧化钛光催化薄膜，其特征在于，它含有氮元素，氮元素在所述薄膜中的质量百分比为0.1％～5％；该薄膜的制备方法，是采用磁控溅射方法，其特征在于，反应气体是高纯氧气和氮气的混合气体，其中氮气含量为5％～95％。该薄膜降低了半导体光催化剂的禁带宽度，使得薄膜具有对可见光的吸收能力，在可见光辐照下具有对有机污染物的催化降解能力，在紫外光辐照的条件下，相对于纯二氧化钛光催化薄膜其降解能力也有大幅度提高。
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公开(公告)号：CN1413947A
公开(公告)日：2003-04-30
申请号：CN02156898.7
申请日：2002-12-20
Applicant: 清华大学
IPC: C04B35/453 , C04B35/622 , H01B5/00
Abstract: 一种锌镓氧化物陶瓷靶材及其制备方法和应用，属于光电材料技术领域。本发明用氧化锌粉末与氧化镓粉末相互混均匀；采用冷压方法成型；用常压、常气氛烧结成密实的块体，作为溅射靶材，并应用于锌镓氧化物透明导电薄膜的制备。该发明制作工艺简单、经济、制成的靶材成分均匀，性能稳定。应用该靶材制备透明导电薄膜具有工艺稳定、易于控制等特点。所制备的薄膜的光电性能优异，一致性好，且耐湿耐蚀。该薄膜应用于太阳能电池作为透明电极时，对电池材料无不良影响，并可提高器件的稳定性和耐久性。
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