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公开(公告)号：CN109042870A
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201810777766.9
申请日：2018-07-16
Applicant: 浙江工业大学
IPC: A23B9/08
CPC classification number: A23B9/08 , A23V2002/00 , A23V2300/10 , A23V2250/152 , A23V2200/10
Abstract: 本发明公开了一种高品质稻谷的干燥方法，在高效、均匀干燥稻谷的前提下，降低稻谷的碎米率、爆腰率，提高大米研磨品质并改善大米的烹饪特性，在减少稻谷干燥后所产生的裂纹、碎米的同时，有助于提高大米品质。
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公开(公告)号：CN117584297A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311851689.4
申请日：2023-12-29
Applicant: 杭州科技职业技术学院 , 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种碳化硅晶片加工切割设备，属于碳化硅晶片加工技术领域。包括引导单元和加工单元，将需要进行加工的碳化硅晶片由外凸出承接机构的三组分料机构上，此时碳化硅晶片能够沿着引导板的上端面向串联条处滑动，工作人员能够放置在垂直横向排列的三组不同引导板上方，不同高度的引导板运料最终抵达位置均不同，从而能够对不同加工需求的碳化硅晶片进行分类处理，因设置的边缘槽与第一支架形成的间隔位置对碳化硅晶片进行稳定夹持，此时碳化硅晶片正好受到第一支架的两面夹持，另一端受到边缘槽的上下两端边角处进行夹持，待分割一侧贯穿通过边缘槽后进入切割箱的内腔，使碳化硅晶片受到多方夹持保持其在受分割状态下的稳定性。
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公开(公告)号：CN115502870A
公开(公告)日：2022-12-23
申请号：CN202211294837.2
申请日：2022-10-21
Applicant: 浙江工业大学
Abstract: 本发明涉及一种碳化硅晶片抛光设备，包括抛光机械臂、晶片表面等离子软化处理装置、晶片表面抛光装置。抛光机械臂的晶片吸盘上设有晶片电极，晶片电极与晶片吸盘拾取的碳化硅晶片导通，晶片表面等离子软化处理装置包括脉冲电源、不锈钢电极。水基电解液在脉冲电压作用下与碳化硅晶片的表面发生等离子体活化改性反应生成软化层，再通过晶片表面抛光装置打磨去除碳化硅晶片表面上的软化层。本发明采用抛光机械臂、晶片表面等离子软化处理装置、晶片表面抛光装置相结合的自动化精密抛光工艺，相比现有主要依靠人工操作，缺乏专用的抛光设备的工艺方案具有抛光效率高、抛光效果更佳的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113510597B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110765327.8
申请日：2021-07-06
Applicant: 杭州科技职业技术学院 , 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石介电泳抛光机用抛光液添加装置，其在上抛光盘上设置主进液盘和循环进液盘，通过液体流道的设置可以同时输入新的以及循环回收的抛光液，主进液盘中新的抛光液靠内侧，循环进液盘中循环回收的抛光液靠外侧，合理的保证新旧抛光液参与抛光的时间差异，令新的抛光液更多的进行抛光，主进液盘和循环进液盘通过液体流道的设置，进行单进液管输入从而简化结构，圆周多位置出液孔的输出，对应上抛光盘上同步进行圆周多位置入液孔的出液，保证抛光液的均匀分布，提高对蓝宝石的均匀抛光效果，整体上在保证抛光质量的同时，更好的实现对抛光液的循环输入进行使用，降低抛光成本以及减少资源浪费。
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公开(公告)号：CN113458975B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110765328.2
申请日：2021-07-06
Applicant: 浙江工业大学 , 杭州科技职业技术学院
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石介电泳抛光机废液处理装置，包括下支架和可上下活动设置于下支架上的下抛光盘，下抛光盘通过下旋转轴外接驱动机构对下抛光盘进行驱动旋转，下部设置不随下抛光盘旋转的收集盘，收集盘在下抛光盘的外周边设置液体收集槽，液体收集槽在圆周方向均匀排列若干第一排液孔和第二排液孔，若干第一排液孔和第二排液孔在圆周方向上一一间隔设置，且相邻排液孔之间设置栅格板将液体收集槽内区域相间隔，第一排液孔下部连接循环液腔，该循环液腔内设置泵体，循环液腔的出口端连接循环液管，第二排液孔下部对外连接废液管。本发明将抛光液进行收集后进行循环使用以及排出，在保证抛光质量的同时，降低抛光成本和资源浪费。
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公开(公告)号：CN113510597A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110765327.8
申请日：2021-07-06
Applicant: 杭州科技职业技术学院 , 浙江工业大学
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石介电泳抛光机用抛光液添加装置，其在上抛光盘上设置主进液盘和循环进液盘，通过液体流道的设置可以同时输入新的以及循环回收的抛光液，主进液盘中新的抛光液靠内侧，循环进液盘中循环回收的抛光液靠外侧，合理的保证新旧抛光液参与抛光的时间差异，令新的抛光液更多的进行抛光，主进液盘和循环进液盘通过液体流道的设置，进行单进液管输入从而简化结构，圆周多位置出液孔的输出，对应上抛光盘上同步进行圆周多位置入液孔的出液，保证抛光液的均匀分布，提高对蓝宝石的均匀抛光效果，整体上在保证抛光质量的同时，更好的实现对抛光液的循环输入进行使用，降低抛光成本以及减少资源浪费。
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公开(公告)号：CN113458975A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110765328.2
申请日：2021-07-06
Applicant: 浙江工业大学 , 杭州科技职业技术学院
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石介电泳抛光机废液处理装置，包括下支架和可上下活动设置于下支架上的下抛光盘，下抛光盘通过下旋转轴外接驱动机构对下抛光盘进行驱动旋转，下部设置不随下抛光盘旋转的收集盘，收集盘在下抛光盘的外周边设置液体收集槽，液体收集槽在圆周方向均匀排列若干第一排液孔和第二排液孔，若干第一排液孔和第二排液孔在圆周方向上一一间隔设置，且相邻排液孔之间设置栅格板将液体收集槽内区域相间隔，第一排液孔下部连接循环液腔，该循环液腔内设置泵体，循环液腔的出口端连接循环液管，第二排液孔下部对外连接废液管。本发明将抛光液进行收集后进行循环使用以及排出，在保证抛光质量的同时，降低抛光成本和资源浪费。
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公开(公告)号：CN115502870B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202211294837.2
申请日：2022-10-21
Applicant: 杭州科技职业技术学院 , 浙江工业大学
Abstract: 本发明涉及一种碳化硅晶片抛光设备，包括抛光机械臂、晶片表面等离子软化处理装置、晶片表面抛光装置。抛光机械臂的晶片吸盘上设有晶片电极，晶片电极与晶片吸盘拾取的碳化硅晶片导通，晶片表面等离子软化处理装置包括脉冲电源、不锈钢电极。水基电解液在脉冲电压作用下与碳化硅晶片的表面发生等离子体活化改性反应生成软化层，再通过晶片表面抛光装置打磨去除碳化硅晶片表面上的软化层。本发明采用抛光机械臂、晶片表面等离子软化处理装置、晶片表面抛光装置相结合的自动化精密抛光工艺，相比现有主要依靠人工操作，缺乏专用的抛光设备的工艺方案具有抛光效率高、抛光效果更佳的特点。
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