公开(公告)号：CN106118495B

公开(公告)日：2019-01-08

申请号：CN201610545107.3

申请日：2016-07-12

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  牛新环 ,  张乐 ,  孙鸣

IPC: C09G1/18 ,  C23F3/04

Abstract: 本发明涉及一种用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液中各组分按重量百分比计：H2O20.3％,β‑羟已基乙二胺0.5‑5％,乙二胺四乙酸‑四‑四羟乙基乙二胺0.1‑0.3％,FA/0型表面活性剂0.1‑5％，pH无机酸调节剂0.8‑1.5％,余量为去离子水；所述碱性抛光液的pH值为9‑10；通过混合方式获得，不需要加入抑制剂，易清洗，有效克服了Ru与Cu之间的电位差，减小了电偶腐蚀电流密度，解决了它们之间严重电偶腐蚀问题，Ru与Cu之间的电偶腐蚀得到了很好的抑制。

公开(公告)号：CN106118495A

公开(公告)日：2016-11-16

申请号：CN201610545107.3

申请日：2016-07-12

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王辰伟 ,  刘玉岭 ,  牛新环 ,  张乐 ,  孙鸣

IPC: C09G1/18 ,  C23F3/04

CPC classification number: C09G1/18 ,  C23F3/04

Abstract: 本发明涉及一种用于抑制铜钌阻挡层电偶腐蚀的碱性抛光液及其制备方法，所述抛光液中各组分按重量百分比计：H2O2 0.3％,β‑羟已基乙二胺0.5‑5％,乙二胺四乙酸‑四‑四羟乙基乙二胺0.1‑0.3％,FA/0型表面活性剂0.1‑5％，pH无机酸调节剂0.8‑1.5％,余量为去离子水；所述碱性抛光液的pH值为9‑10；通过混合方式获得，不需要加入抑制剂，易清洗，有效克服了Ru与Cu之间的电位差，减小了电偶腐蚀电流密度，解决了它们之间严重电偶腐蚀问题，Ru与Cu之间的电偶腐蚀得到了很好的抑制。