公开(公告)号：CN106033709B

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201510109734.8

申请日：2015-03-13

Applicant: 比亚迪股份有限公司

Inventor： 徐纪哲 ,  王骞 ,  尹达 ,  冯子汉 ,  陈王龙

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 为克服现有技术中去除晶圆背面原生氧化层的方法工序复杂、碎片率高的问题，本发明提供了一种酸洗蚀刻方法，包括如下步骤；S1、提供一工作台，工作台内部具有工作腔，所述工作台上表面具有连通工作腔的酸洗口；将晶圆置于工作台上，所述晶圆具有原生氧化层的背面朝下，并且覆盖所述酸洗口；所述晶圆待蚀刻的部位位于所述酸洗口内；S2、在所述晶圆背面形成水膜；S3、在所述工作腔内形成氢氟酸酸雾，使所述氢氟酸酸雾溶于所述水膜，通过内部溶解有氢氟酸的水膜对所述晶圆背面进行蚀刻处理。同时，本发明还公开了采用上述酸洗蚀刻方法的清洗机。本发明提供的酸洗蚀刻方法不需要贴膜和剪膜两道工序，简化了工艺流程，提高了生产效率，并且碎片率低。

公开(公告)号：CN106033709A

公开(公告)日：2016-10-19

申请号：CN201510109734.8

申请日：2015-03-13

Applicant: 比亚迪股份有限公司

Inventor： 徐纪哲 ,  王骞 ,  尹达 ,  冯子汉 ,  陈王龙

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

Abstract: 为克服现有技术中去除晶圆背面原生氧化层的方法工序复杂、碎片率高的问题，本发明提供了一种酸洗蚀刻方法，包括如下步骤；S1、提供一工作台，工作台内部具有工作腔，所述工作台上表面具有连通工作腔的酸洗口；将晶圆置于工作台上，所述晶圆具有原生氧化层的背面朝下，并且覆盖所述酸洗口；所述晶圆待蚀刻的部位位于所述酸洗口内；S2、在所述晶圆背面形成水膜；S3、在所述工作腔内形成氢氟酸酸雾，使所述氢氟酸酸雾溶于所述水膜，通过内部溶解有氢氟酸的水膜对所述晶圆背面进行蚀刻处理。同时，本发明还公开了采用上述酸洗蚀刻方法的清洗机。本发明提供的酸洗蚀刻方法不需要贴膜和剪膜两道工序，简化了工艺流程，提高了生产效率，并且碎片率低。