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公开(公告)号：CN112123163A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201910556029.0
申请日：2019-06-25
申请人： 武汉科技大学
摘要： 本发明公开了一种三维曲面抛光装置，包括箱体、转轴和框架，所述箱体的下端固定装配有转轴，所述框架位于箱体的上方，所述卡接结构与齿条相啮合，所述转轴的下端固定装配有滑板，所述滑板的下端设有支台，所述滑板与支台相贴合，所述支台的左右两侧均贯穿固定有支脚，所述支台的左右两侧均转动装配有转轮，所述拉绳贯穿支脚，所述拉绳与滑板固定装配，所述支台的下端左右两侧均固定装配有支撑结构，所述支撑结构与拉绳紧密贴合，所述箱体的下端左右两侧均固定装配有限位结构，本发明提供一种三维曲面抛光装置，可以很好的保证抛光效果，同时避免原料的损坏以及变形，进行多方位多角度的抛光，保证抛光更全面。
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公开(公告)号：CN110990754A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911165226.6
申请日：2019-11-25
申请人： 武汉科技大学
IPC分类号： G06F17/10
摘要： 本发明公开了一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法，首先利用平行光照射，与晶圆片上颗粒直接作用的入射光记为A，与晶圆片上光滑表面作用的入射光记为B；A与颗粒作用产生散射光，一部分向下散射继续与超光滑表面作用的散射光记为D，一部分向上散射被探测器收集到的散射光记为C；B与光滑表面作用产生的散射光，通过窗函数筛选出继续与颗粒作用的散射光记为E，未被中筛选出的散射光被探测器收集记为F；最后叠加得到的六种散射场来获得颗粒缺陷下的散射场。本发明解决了纳米级颗粒缺陷无法识别的问题，并且通过得到的颗粒缺陷产生的散射场信息，如偏振，光强等，提高了颗粒缺陷检测的识别率和芯片的良率。
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公开(公告)号：CN110990754B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN201911165226.6
申请日：2019-11-25
申请人： 武汉科技大学
IPC分类号： G06F17/10
摘要： 本发明公开了一种基于光散射的晶圆表面颗粒缺陷的散射场计算方法，首先利用平行光照射，与晶圆片上颗粒直接作用的入射光记为A，与晶圆片上光滑表面作用的入射光记为B；A与颗粒作用产生散射光，一部分向下散射继续与超光滑表面作用的散射光记为D，一部分向上散射被探测器收集到的散射光记为C；B与光滑表面作用产生的散射光，通过窗函数筛选出继续与颗粒作用的散射光记为E，未被中筛选出的散射光被探测器收集记为F；最后叠加得到的六种散射场来获得颗粒缺陷下的散射场。本发明解决了纳米级颗粒缺陷无法识别的问题，并且通过得到的颗粒缺陷产生的散射场信息，如偏振，光强等，提高了颗粒缺陷检测的识别率和芯片的良率。
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公开(公告)号：CN111161233A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201911352833.3
申请日：2019-12-25
申请人： 武汉科技大学
摘要： 本发明公开了一种用于冲孔皮革缺陷检测方法及系统，涉及皮革缺陷检测领域。该方法包括：对冲孔皮革的缺陷进行分类，分为全局缺陷和局部缺陷；获取预设数量的冲孔皮革的原始图像；分别对每张所述原始图像进行切割，得到每张所述原始图像的切割框集合；根据所述全局缺陷和所述局部缺陷从所述切割框集合中选取目标切割框，作为每张所述原始图像的训练样本，得到训练集；根据所述训练集对预设的缺陷检测算法模型进行训练；根据训练后的所述缺陷检测算法模型对待检测的冲孔皮革的缺陷进行检测。本发明适用于皮革的检测，能够解决检测方法计算量大的问题，达到准确快速检测缺陷类别的效果。
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