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公开(公告)号：CN102770936B
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：CN201080052526.4
申请日：2010-10-05
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
Inventor： S·克拉斯尼策尔
CPC classification number: H01J37/32431 , H01L21/67201
Abstract: 本发明涉及一种真空处理腔室，其具有用于在所述腔室中构造磁场的线圈装置，其中所述线圈装置包括至少一个第一部分线圈和一个第二部分线圈，其中所述第一部分线圈和第二部分线圈在横截面中如此并排地优选放置在一个平面中，从而使得所述第一线圈的至少各一个部分区段基本上遵循所述第二线圈的部分区段延伸，其中所述第一部分区段与第二部分区段的间距比部分线圈的以及必要时更小的部分线圈的横截面小至少一个数量级。
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公开(公告)号：CN104246967A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201280065357.7
申请日：2012-10-08
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
CPC classification number: H03K3/012 , C23C14/3485 , C23C14/352 , C23C14/54 , H01J37/3467
Abstract: 本发明涉及一种用于提供用于PVD雾化阴极的功率脉冲的方法，PVD雾化阴极包括功率吸收部件和部分阴极，其中在发生器的功率建立间隔期间在功率吸收部件上降低功率并且接着在部分阴极上降低功率，其中如此切换，使得不必中断从提供功率的发生器提取功率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102223956B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN200980147115.0
申请日：2009-11-11
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
CPC classification number: B05D1/322 , B05D1/60 , B05D5/08 , C23C14/564
Abstract: 本发明涉及一种在涂覆之前待应用于在涂覆设备中的附面上的预处理方法。在此，在附面上施加抗附着层，该抗附着层即使在涂覆材料沉淀在其上之后也可简单地去除。由此，显著地简化了在涂覆过程之后的涂覆设备的清洁。
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公开(公告)号：CN104272429A
公开(公告)日：2015-01-07
申请号：CN201280069085.8
申请日：2012-11-23
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
Inventor： S·克拉斯尼策尔
CPC classification number: C23C14/3485 , C23C14/0094 , H01J37/3467 , H01J37/3485
Abstract: 本发明涉及一种用于反应溅射的方法，其中借助离子轰击，材料从第一靶子的表面脱离并且过渡到气相，其中在该靶子上如此以脉冲方式施加负电压，使得在靶子表面上产生电流密度大于0.5A/cm2的电流，以便过渡到气相的材料至少部分被离子化并且其中构建反应气体流，并且反应气体与靶子表面的材料反应，其特征在于，如此选择电压脉冲的持续时间，使得在电压脉冲期间靶子表面在电流流动的一个或者多个位置大部分时间至少部分地用由反应气体和靶子材料组成的化合物覆盖，并且因此靶子表面处于第一中间状态，以及该覆盖在电压脉冲结束时小于电压脉冲开始时，因此靶子表面在电压脉冲结束时处于第二中间状态。
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公开(公告)号：CN104160470A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201280063780.3
申请日：2012-11-23
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/3464 , C23C14/3485 , C23C14/3492 , C23C14/542 , H01J37/3417 , H01J37/3467
Abstract: 本发明涉及一种HIPIMS方法，通过该方法能够在涂敷室的高度上沉积均匀的层。在此使用两个分阴极。根据本发明，单独选择对这些分阴极施加的各个功率脉冲区间的长度，并且这样在涂敷室的高度上实现希望的涂层厚度轮廓。
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公开(公告)号：CN102770936A
公开(公告)日：2012-11-07
申请号：CN201080052526.4
申请日：2010-10-05
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
Inventor： S·克拉斯尼策尔
CPC classification number: H01J37/32431 , H01L21/67201
Abstract: 本发明涉及一种真空处理腔室，其具有用于在所述腔室中构造磁场的线圈装置，其中所述线圈装置包括至少一个第一部分线圈和一个第二部分线圈，其中所述第一部分线圈和第二部分线圈在横截面中如此并排地优选放置在一个平面中，从而使得所述第一线圈的至少各一个部分区段基本上遵循所述第二线圈的部分区段延伸，其中所述第一部分区段与第二部分区段的间距比部分线圈的以及必要时更小的部分线圈的横截面小至少一个数量级。
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公开(公告)号：CN102223956A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200980147115.0
申请日：2009-11-11
Applicant: 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
CPC classification number: B05D1/322 , B05D1/60 , B05D5/08 , C23C14/564
Abstract: 本发明涉及一种在涂覆之前待应用于在涂覆设备中的附面上的预处理方法。在此，在附面上施加抗附着层，该抗附着层即使在涂覆材料沉淀在其上之后也可简单地去除。由此，显著地简化了在涂覆过程之后的涂覆设备的清洁。
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