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公开(公告)号:CN1760774A
公开(公告)日:2006-04-19
申请号:CN200510114015.1
申请日:2005-10-13
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: H01L21/67248 , G05D23/1935 , H01L21/67103
Abstract: 一种控制方法、温度控制方法、温度调节器,容易地进行用于以抑制温度偏差的均匀的温度对半导体晶圆(1)进行热处理的调整作业。利用温度传感器(6a)~(6c)计测改变各沟道的设定温度时的半导体晶圆(1)的温度变化,将半导体晶圆(1)的各沟道间的干涉程度作为干涉矩阵而预先求出,使用该干涉矩阵的逆矩阵算出校正值,以使半导体晶圆(1)达到所希望的温度,利用该运算值校正设定温度。
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公开(公告)号:CN100454184C
公开(公告)日:2009-01-21
申请号:CN200510114015.1
申请日:2005-10-13
Applicant: 欧姆龙株式会社
CPC classification number: H01L21/67248 , G05D23/1935 , H01L21/67103
Abstract: 一种控制方法、温度控制方法、温度调节器,容易地进行用于以抑制温度偏差的均匀的温度对半导体晶圆(1)进行热处理的调整作业。利用温度传感器(6a)~(6c)计测改变各沟道的设定温度时的半导体晶圆(1)的温度变化,将半导体晶圆(1)的各沟道间的干涉程度作为干涉矩阵而预先求出,使用该干涉矩阵的逆矩阵算出校正值,以使半导体晶圆(1)达到所希望的温度,利用该运算值校正设定温度。
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