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公开(公告)号：CN113466183B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202110352030.9
申请日：2021-03-31
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01N21/552 , G01N21/31 , G01N21/59
Abstract: 本公开提供了一种光谱分析装置，其包括检测器和处理器。所述检测器检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光，所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上。所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息，并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱。所述处理器：计算出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长；基于所包含的物质的吸收带计算出所包含的物质的峰值吸光度；并且基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算出所包含的物质与所述样品的比率。
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公开(公告)号：CN114062286B
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202110882296.4
申请日：2021-08-02
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01N21/31
Abstract: 本公开提供了一种气体分析系统，该气体分析系统包括：光发射元件，该光发射元件发射由预定的调制频率调制的激光；光接收元件，该光接收元件：接收已经穿过测量目标气体的激光；在接收激光后，输出具有N阶频率的接收信号，该N阶频率为预定的调制频率的n倍，其中n为不小于2的整数；以及信号处理设备，该信号处理设备：通过从具有N阶频率的第一分量中去除第二分量来计算第三分量，其中第二分量是在激光从光发射元件到光接收元件的光路上产生的光学干涉噪声的分量并且具有与第一分量相同的频率；并且基于第三分量的大小计算测量目标气体的浓度。
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公开(公告)号：CN114062286A
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN202110882296.4
申请日：2021-08-02
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01N21/31
Abstract: 本公开提供了一种气体分析系统，该气体分析系统包括：光发射元件，该光发射元件发射由预定的调制频率调制的激光；光接收元件，该光接收元件：接收已经穿过测量目标气体的激光；在接收激光后，输出具有N阶频率的接收信号，该N阶频率为预定的调制频率的n倍，其中n为不小于2的整数；以及信号处理设备，该信号处理设备：通过从具有N阶频率的第一分量中去除第二分量来计算第三分量，其中第二分量是在激光从光发射元件到光接收元件的光路上产生的光学干涉噪声的分量并且具有与第一分量相同的频率；并且基于第三分量的大小计算测量目标气体的浓度。
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公开(公告)号：CN104419935B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201410421139.3
申请日：2014-08-25
IPC: C23F4/00 , C23C16/44 , H01L21/335 , G01N27/414
Abstract: 本发明的一个实施方式的金刚石薄膜的表面处理方法中，根据需要的金刚石薄膜的表面特性，进行在不在金刚石薄膜的表面上沉积氟碳化合物的沉积膜的情况下将金刚石薄膜的氢终端的一部分取代为氟终端的第一取代处理、以及一边在金刚石薄膜的表面上沉积氟碳化合物的沉积膜一边将金刚石薄膜的氢终端的一部分取代为氟终端的第二取代处理中的任意一者的处理。本发明还提供晶体管的制造方法和传感器元件。
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公开(公告)号：CN119534402A
公开(公告)日：2025-02-28
申请号：CN202411134214.8
申请日：2024-08-19
Applicant: 横河电机株式会社
Abstract: 本发明涉及一种分光分析装置以及分光分析方法。本发明涉及的分光分析装置(1)具有：照射部(10)，其使照射光向被测定对象照射；受光部(40)，其接受基于照射光的来自被测定对象的反射光；以及控制部(80)，其基于反射光而对被测定对象的光学特性进行分析，控制部(80)获取包含将照射光向被测定对象引导的观察窗(W)在内的测定环境的环境信息，根据环境信息而对表示光学特性的参数进行校正。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114729882A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202080078426.2
申请日：2020-10-20
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01N21/41
Abstract: 在本公开所涉及的分光分析装置(1)中，控制部(40)基于分光光谱中的、仅产生表面等离激元的共振光谱的第一波段中的第一分光光谱的信息来获取样品(S)的折射率信息，基于获取到的折射率信息，在分光光谱中的、产生共振光谱以及样品(S)的吸收光谱的第二波段中的第二分光光谱中，决定共振光谱的峰值波长与吸收光谱的峰值波长相互一致的、由照射部(10)照射的照射光(L1)相对于膜(M)的入射角度，并从基于所决定的入射角度得到的第二分光光谱的信息来分析样品(S)的状态。
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公开(公告)号：CN100462702C
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200410096539.8
申请日：2004-11-30
Applicant: 横河电机株式会社
CPC classification number: G01L9/0051 , G01L9/0054 , G01L19/145
Abstract: 本发明是关于一种压力感应器及压力感应器的制造方法，一个压力感应器中，具有一个底座，该底座上有一个孔，其上施加压力，并具有电气绝缘及机械绝缘的作用；一个感应器，包括连接于该孔的膜片，及一个用于将作用于该膜片的应变转化成一个电信号的应变计；该感应器被组装于该底座上，该底座具有一定的厚度，以保证当被施加一个静态压力时，该应变不会发生变化。
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公开(公告)号：CN113466183A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110352030.9
申请日：2021-03-31
Applicant: 横河电机株式会社
IPC: G01N21/552 , G01N21/31 , G01N21/59
Abstract: 本公开提供了一种光谱分析装置，其包括检测器和处理器。所述检测器检测通过用辐照光辐照包含物质的样品而获得的测量光，所述样品设置于在其上产生表面等离激元的膜上。所述测量光包括关于所述样品的光谱的信息，并且所述信息包括所述表面等离激元的共振光谱和所述样品的吸收光谱。所述处理器：计算出产生所述共振光谱和所述吸收光谱的波长带中的峰值波长；基于所包含的物质的吸收带计算出所包含的物质的峰值吸光度；并且基于所述峰值波长和所述峰值吸光度计算出所包含的物质与所述样品的比率。
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公开(公告)号：CN104419935A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410421139.3
申请日：2014-08-25
IPC: C23F4/00 , C23C16/44 , H01L21/335 , G01N27/414
CPC classification number: H01L21/042 , C23C16/27 , C23C16/56 , G01N27/4145 , H01L21/3065 , H01L29/66045
Abstract: 本发明的一个实施方式的金刚石薄膜的表面处理方法中，根据需要的金刚石薄膜的表面特性，进行在不在金刚石薄膜的表面上沉积氟碳化合物的沉积膜的情况下将金刚石薄膜的氢终端的一部分取代为氟终端的第一取代处理、以及一边在金刚石薄膜的表面上沉积氟碳化合物的沉积膜一边将金刚石薄膜的氢终端的一部分取代为氟终端的第二取代处理中的任意一者的处理。本发明还提供晶体管的制造方法和传感器元件。
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