一种用于IGBT产品的磷扩散方法

    公开(公告)号:CN109841516A

    公开(公告)日:2019-06-04

    申请号:CN201711222289.1

    申请日:2017-11-29

    Abstract: 本发明提供一种用于IGBT产品的磷扩散方法,其包括以下步骤:S1,采用RCA工艺清洗IGBT硅片;S2,将清洗后的IGBT硅片置于快速热处理机台中,通入氮气;S3,将置于快速热处理机台中的IGBT硅片升温至第一温度,通入氧气,在所述IGBT硅片的表面形成氧化层;S4,在所述第一温度下,通入氧气和携磷源气体对经氧化处理的IGBT硅片进行高温掺杂;S5,将高温掺杂得到的IGBT硅片降温至第二温度;S6,在所述第二温度下,对降温后的IGBT硅片进行低温掺杂;S7,将低温掺杂后的IGBT硅片冷却,得到磷掺杂的IGBT硅片。本发明时间短,效率高,热预算小,可获得结深浅和符合磷掺杂浓度要求的IGBT产品。

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