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发明公开
多调光掩模及其修正方法无效

公开(公告)号：CN101655661A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200910149587.1

申请日：2009-07-06

Applicant: 株式会社SK电子

Inventor： 加藤和男 , 三宅充纮 , 美作昌宏

IPC: G03F1/00 , G03F1/14

Abstract: 本发明涉及多调光掩模及其修正方法。在多调光掩模的修正工序中，在必要的范围防止形成修正半透膜时可能发生的透过率的异常部的产生。本发明的多调光掩模(10)是在透明基板上设有透光部、遮光部、半透光部。其中，半透光部由半透膜图形(4a)形成。该半透膜包含利用激光熔断形成的厚膜部，并且在所述厚膜部设有透过率调节区域。

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