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公开(公告)号：CN108602915B
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201780007821.X
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F32/08 , C08F244/00 , C08F8/08 , C08K5/14
Abstract: 本发明涉及基于环状烯烃的共聚物及其制备方法。更具体地，本发明涉及以预定比率包含三种具有特定官能团的重复单元的基于环状烯烃的共聚物，并且上述共聚物表现出低介电特征，因此可以应用于半导体基材、印刷电路板等。
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公开(公告)号：CN108602915A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780007821.X
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社LG化学
IPC: C08F32/08 , C08F244/00 , C08F8/08 , C08K5/14
Abstract: 本发明涉及基于环状烯烃的共聚物及其制备方法。更具体地，本发明涉及以预定比率包含三种具有特定官能团的重复单元的基于环状烯烃的共聚物，并且上述共聚物表现出低介电特征，因此可以应用于半导体基材、印刷电路板等。
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公开(公告)号：CN105555751A
公开(公告)日：2016-05-04
申请号：CN201480048675.1
申请日：2014-08-01
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: C07C67/54 , C07C2602/42 , C07C69/734 , C07C69/65
Abstract: 本发明提供光反应性化合物的纯化方法和光反应物化合物。根据本发明的纯化方法，可以以高纯度纯化光敏和热敏的光反应性化合物，从而聚合得到具有改进的物理性质的光反应性聚合物。
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公开(公告)号：CN102216364A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN201080003200.2
申请日：2010-01-12
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: G02F1/133711 , C08F232/08 , G02F1/133788 , Y10T428/10 , Y10T428/1005
Abstract: 本发明涉及一种光反应性降冰片烯聚合物、该聚合物的制备方法、和使用该聚合物的取向层，其中所述光反应性降冰片烯聚合物包含具有卤素取代基团、特别是氟取代基团的光反应性官能团，从而使取向层内产生组分梯度而提高取向率、取向性和粘合性。
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公开(公告)号：CN108495873B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201780007831.3
申请日：2017-07-19
Applicant: 株式会社LG化学
Abstract: 本发明涉及基于环状烯烃的二元共聚物及其制备方法。更具体地，本发明涉及以预定比率包含两种具有特定官能团的重复单元的基于环状烯烃的二元共聚物，以及上述共聚物表现出低介电特征，因此可以应用于半导体基材、印刷电路板等。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN102216364B
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201080003200.2
申请日：2010-01-12
Applicant: 株式会社LG化学
CPC classification number: G02F1/133711 , C08F232/08 , G02F1/133788 , Y10T428/10 , Y10T428/1005
Abstract: 本发明涉及一种光反应性降冰片烯聚合物、该聚合物的制备方法、和使用该聚合物的取向层，其中所述光反应性降冰片烯聚合物包含具有卤素取代基团、特别是氟取代基团的光反应性官能团，从而使取向层内产生组分梯度而提高取向率、取向性和粘合性。
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