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公开(公告)号：CN104067353B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201380006560.1
申请日：2013-01-18
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: H05K1/0274 , C23C14/086 , C23C14/10 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C14/5806 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H01L31/022475 , H01L31/1884 , H01L51/442 , H01L51/5215 , H01L51/5234 , H01L2251/306 , H01L2251/308 , H05K1/092 , H05K2201/0329 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/265
Abstract: 本发明涉及一种带有透明电极的基板，该基板在透明膜基材的至少一面具有透明电极层。透明膜基材在透明电极层侧的表面具有以氧化物为主成分的透明电介质层。在一个实施方式中，透明电极层为结晶度为80％以上的结晶质透明电极层。在该实施方式中，结晶质透明电极层的电阻率为3.5×10‑4Ω·cm以下，膜厚为15nm～40nm，氧化铟的含量为87.5％～95.5％，载流子密度为4×1020/cm3～9×1020/cm3，且优选带有透明电极的基板的利用热机械分析测定的热收缩起始温度为75℃～120℃。
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公开(公告)号：CN107210092A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680008183.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: G06F3/041 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2309/105 , B32B2457/208 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H01B5/14 , H01B13/0036
Abstract: 本发明提供可提高防晃眼特性和蚀刻特性这两者的带导电层的基板、其制造方法、触摸面板用带透明电极的基板。一种带导电层的基板(Fa)，其是在透明膜基板(1)的至少单面上依次形成有薄膜基底层(2)、金属氧化物层(3)和第1金属层(4)的带导电层的基板，其特征在于，上述薄膜基底层(2)是以镍及铜或它们的氧化物作为主要成分的层，上述金属氧化物层(3)是以镍和铜的氧化物作为主要成分的层，第1金属层(4)是以金、银、铜中的至少1种作为主要成分的层，满足下述的关系式(1)～(3)：(1)上述薄膜基底层(2)的膜厚为20nm以下，(2)上述金属氧化物层(3)的膜厚为80nm以下，(3)上述薄膜基底层(2)的膜厚≤上述金属氧化物层(3)的膜厚。
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公开(公告)号：CN104067353A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201380006560.1
申请日：2013-01-18
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: H05K1/0274 , C23C14/086 , C23C14/10 , C23C14/3407 , C23C14/3414 , C23C14/5806 , G06F3/041 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H01L31/022475 , H01L31/1884 , H01L51/442 , H01L51/5215 , H01L51/5234 , H01L2251/306 , H01L2251/308 , H05K1/092 , H05K2201/0329 , Y02E10/549 , Y02P70/521 , Y10T428/265
Abstract: 本发明涉及一种带有透明电极的基板，该基板在透明膜基材的至少一面具有透明电极层。透明膜基材在透明电极层侧的表面具有以氧化物为主成分的透明电介质层。在一个实施方式中，透明电极层为结晶度为80％以上的结晶质透明电极层。在该实施方式中，结晶质透明电极层的电阻率为3.5×10-4Ω·cm以下，膜厚为15nm～40nm，氧化铟的含量为87.5％～95.5％，载流子密度为4×1020/cm3～9×1020/cm3，且优选带有透明电极的基板的利用热机械分析测定的热收缩起始温度为75℃～120℃。
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公开(公告)号：CN114649442A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111553303.2
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社钟化
Abstract: 提供一种能实现太阳能电池的低成本化和性能降低的抑制的、太阳能电池的制造方法。一种太阳能电池的制造方法，为背面电极型的太阳能电池(1)的制造方法，包含：在半导体基板(11)的背面侧形成第1半导体层材料膜的工序；对第1半导体层材料膜的表面进行氧化而形成第1氧化处理层的工序；形成掩模的工序；使用掩模而形成图案化后的第1半导体层(25)和第1氧化处理层的工序；除去掩模的工序；以及，清洗半导体基板(11)的表面的工序；第1氧化处理在掩模除去工序中保护第1半导体层(25)免受除去掩模的溶液的影响的同时第1氧化处理在清洗工序中被清洗半导体基板(11)的表面的溶液所除去。
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公开(公告)号：CN114649441A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202111551835.2
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社钟化
IPC: H01L31/18 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 提供一种可以实现图案化的工艺的简略化并抑制性能降低的太阳能电池的制造方法。一种太阳能电池的制造方法，包含如下工序：层材料膜形成工序，在主面侧具有微细的凹凸结构的半导体基板(11)的主面侧形成第1半导体层的材料膜(25Z、23Z)；抗蚀剂形成工序，在半导体基板(11)的主面侧的一部分区域中的第1半导体层的材料膜(25Z、23Z)上，形成抗蚀剂(90)；层形成工序，以抗蚀剂(90)为掩模，在一部分区域形成图案化后的第1半导体层。抗蚀剂形成工序中，使用图案印刷法，印刷包含树脂材料(91)和无机材料(92)的印刷材料并使其固化，从而形成抗蚀剂(90)，无机材料(92)的主成分粒子为扁平形状，主成分粒子的最大粒子长度比凹凸结构的最短顶点距离大。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107210092B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201680008183.9
申请日：2016-02-18
Applicant: 株式会社钟化
CPC classification number: G06F3/041 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B15/20 , B32B2307/202 , B32B2307/412 , B32B2309/105 , B32B2457/208 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H01B5/14 , H01B13/0036
Abstract: 本发明提供可提高防晃眼特性和蚀刻特性这两者的带导电层的基板、其制造方法、触摸面板用带透明电极的基板。一种带导电层的基板(Fa)，其是在透明膜基板(1)的至少单面上依次形成有薄膜基底层(2)、金属氧化物层(3)和第1金属层(4)的带导电层的基板，其特征在于，上述薄膜基底层(2)是以镍及铜或它们的氧化物作为主要成分的层，上述金属氧化物层(3)是以镍和铜的氧化物作为主要成分的层，第1金属层(4)是以金、银、铜中的至少1种作为主要成分的层，满足下述的关系式(1)～(3)：(1)上述薄膜基底层(2)的膜厚为20nm以下，(2)上述金属氧化物层(3)的膜厚为80nm以下，(3)上述薄膜基底层(2)的膜厚≤上述金属氧化物层(3)的膜厚。
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公开(公告)号：CN114450808B
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202080067000.7
申请日：2020-09-23
Applicant: 株式会社钟化
IPC: H01L31/18 , H01L31/0224
Abstract: 本发明提供一种能够简化透明电极层的形成的太阳能电池的制造方法。太阳能电池的制造方法依次包含：在基板(11)的表面侧形成导电型半导体层(25、35)的工序、在导电型半导体层(25、35)上形成透明导电膜的工序、在导电型半导体层(25、35)上形成金属电极层(29、39)的工序、以及使透明导电膜图案化而形成透明电极层(28、38)的工序。金属电极层形成工序中，印刷印刷材料并使其固化，在金属电极层(29、39)的周边形成树脂材料分布不均而成的树脂膜(40)，金属电极层(29、39)中，上层金属电极层(29u、39u)的印刷材料中含有的金属材料的比例比下层金属电极层(29l、39l)的印刷材料中含有的金属材料的比例更少，透明电极层形成工序中，将金属电极层(29)及其周边的树脂膜(40)和金属电极层(39)及其周边的树脂膜(40)作为掩模，使透明导电膜图案化。
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公开(公告)号：CN114649441B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202111551835.2
申请日：2021-12-17
Applicant: 株式会社钟化
IPC: H01L31/18 , H01L21/027 , H01L21/033
Abstract: 提供一种可以实现图案化的工艺的简略化并抑制性能降低的太阳能电池的制造方法。一种太阳能电池的制造方法，包含如下工序：层材料膜形成工序，在主面侧具有微细的凹凸结构的半导体基板(11)的主面侧形成第1半导体层的材料膜(25Z、23Z)；抗蚀剂形成工序，在半导体基板(11)的主面侧的一部分区域中的第1半导体层的材料膜(25Z、23Z)上，形成抗蚀剂(90)；层形成工序，以抗蚀剂(90)为掩模，在一部分区域形成图案化后的第1半导体层。抗蚀剂形成工序中，使用图案印刷法，印刷包含树脂材料(91)和无机材料(92)的印刷材料并使其固化，从而形成抗蚀剂(90)，无机材料(92)的主成分粒子为扁平形状，主成分粒子的最大粒子长度比凹凸结构的最短顶点距离大。
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公开(公告)号：CN114450808A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202080067000.7
申请日：2020-09-23
Applicant: 株式会社钟化
IPC: H01L31/18 , H01L31/0224
Abstract: 本发明提供一种能够简化透明电极层的形成的太阳能电池的制造方法。太阳能电池的制造方法依次包含：在基板(11)的表面侧形成导电型半导体层(25、35)的工序、在导电型半导体层(25、35)上形成透明导电膜的工序、在导电型半导体层(25、35)上形成金属电极层(29、39)的工序、以及使透明导电膜图案化而形成透明电极层(28、38)的工序。金属电极层形成工序中，印刷印刷材料并使其固化，在金属电极层(29、39)的周边形成树脂材料分布不均而成的树脂膜(40)，金属电极层(29、39)中，上层金属电极层(29u、39u)的印刷材料中含有的金属材料的比例比下层金属电极层(29l、39l)的印刷材料中含有的金属材料的比例更少，透明电极层形成工序中，将金属电极层(29)及其周边的树脂膜(40)和金属电极层(39)及其周边的树脂膜(40)作为掩模，使透明导电膜图案化。
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公开(公告)号：CN115461877A
公开(公告)日：2022-12-09
申请号：CN202180031120.6
申请日：2021-04-27
Applicant: 株式会社钟化
IPC: H01L31/0224 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种太阳能电池，即使实现制造工艺的简化，也能够抑制太阳能电池的性能下降以及抑制可靠性下降。太阳能电池(1)是在第一区域形成有第一半导体层(25)及第一金属电极层(29)，并在第二区域形成有第二半导体层及第二金属电极层的背面电极型，该太阳能电池(1)具备树脂膜(41)，该树脂膜(41)配置于第一金属电极层(29)(及第二金属电极层)中的第一区域与第二区域的边界侧的端部，第一金属电极层(29)(及第二金属电极层)具有基底层(29l)与镀敷层(29u)，基底层(29l)具有与半导体基板(11)的凹凸构造对应的凹凸构造，基底层(29l)中的凹凸构造的山部与镀敷层(29u)接触，在基底层(29l)的端部中的凹凸构造的谷部与镀敷层(29u)之间夹设有树脂膜(41)。
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