公开(公告)号：CN103998231A

公开(公告)日：2014-08-20

申请号：CN201380004346.2

申请日：2013-01-11

申请人： 株式会社钟化

发明人： 沓水真琴 ,  西川泰司 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  稻田敬 ,  稻田卓

IPC分类号： B32B9/00 ,  B32B3/24 ,  B32B7/08 ,  B32B15/04 ,  C01B31/04 ,  C23C28/00

CPC分类号： F28F21/02 ,  B23B35/00 ,  B23K26/384 ,  C01B32/20 ,  C23C28/00 ,  F28F21/089 ,  Y10T428/12361 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24339 ,  Y10T428/30

摘要： 本发明提供一种石墨复合膜，其是包含在表面上形成有金属层的石墨膜的石墨复合膜，可抑制金属层从石墨膜上的剥离。本发明的石墨复合膜的特征在于，其是在石墨膜的至少单面上形成有金属层的石墨复合膜，在所述石墨膜中形成有多个贯穿孔，按照与形成于所述石墨膜的表面上的所述金属层连接的方式在所述贯穿孔内形成金属层，且所述贯穿孔内的所述金属层从所述石墨膜的单面至相反侧的面为止连续地形成，贯穿孔外径间距离为0.6mm以下，且所述贯穿孔内的金属的面积相对于所述石墨复合膜的面积的比例为1.4％以上。

公开(公告)号：CN105683088A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201480058525.9

申请日：2014-11-28

申请人： 株式会社钟化

发明人： 小林干明 ,  西川泰司 ,  稻田敬 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  沓水真琴

IPC分类号： C01B31/04

CPC分类号： C01B32/20

摘要： 本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对使用含有70摩尔％以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔％以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。

公开(公告)号：CN103998231B

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201380004346.2

申请日：2013-01-11

申请人： 株式会社钟化

发明人： 沓水真琴 ,  西川泰司 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  稻田敬 ,  稻田卓

IPC分类号： B32B9/00 ,  B32B3/24 ,  B32B7/08 ,  B32B15/04 ,  C01B31/04 ,  C23C28/00

CPC分类号： F28F21/02 ,  B23B35/00 ,  B23K26/384 ,  C01B32/20 ,  C23C28/00 ,  F28F21/089 ,  Y10T428/12361 ,  Y10T428/24273 ,  Y10T428/24339 ,  Y10T428/30

摘要： 本发明提供一种石墨复合膜，其是包含在表面上形成有金属层的石墨膜的石墨复合膜，可抑制金属层从石墨膜上的剥离。本发明的石墨复合膜的特征在于，其是在石墨膜的至少单面上形成有金属层的石墨复合膜，在所述石墨膜中形成有多个贯穿孔，按照与形成于所述石墨膜的表面上的所述金属层连接的方式在所述贯穿孔内形成金属层，且所述贯穿孔内的所述金属层从所述石墨膜的单面至相反侧的面为止连续地形成，贯穿孔外径间距离为0.6mm以下，且所述贯穿孔内的金属的面积相对于所述石墨复合膜的面积的比例为1.4％以上。

公开(公告)号：CN110291039B

公开(公告)日：2022-10-18

申请号：CN201880011275.1

申请日：2018-02-05

申请人： 株式会社钟化

发明人： 稻叶启介 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  沓水真琴 ,  西川泰司

IPC分类号： C01B32/205

摘要： 本发明中，提供在面内单方向上具备更高的热扩散性的石墨膜及其制造方法。石墨膜(3)具备：膜面内的热扩散率最高的方向即第1轴方向(1)、及在膜面内垂直于该第1轴方向(1)的第2轴方向(2)，所述第1轴方向(1)上的热扩散率除以所述第2轴方向(2)上的热扩散率而得的值是1.020以上且1.300以下。

公开(公告)号：CN109071232B

公开(公告)日：2022-09-23

申请号：CN201780023529.7

申请日：2017-04-12

申请人： 株式会社钟化

发明人： 片山觉嗣 ,  太田雄介 ,  丸谷尚志 ,  西川泰司

IPC分类号： C01B32/20 ,  B65H75/34

摘要： 提供一种如下卷状石墨片：即使沿着纵向、倾斜朝向配置、或施加有振动、卷绕偏移、即卷侧端面的凹凸也难以增大。一种卷状石墨片，其是将长度为1m以上的石墨片卷绕于棒状体而成的，在对所述棒状体固定并将所述石墨片的长度方向的端部沿着所述卷的截面圆的切线方向以1.5N/cm的力牵拉了时，该端部沿着牵拉方向移动的距离是0mm以上且5mm以下。

公开(公告)号：CN103958405A

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：CN201280058698.1

申请日：2012-10-23

申请人： 株式会社钟化

发明人： 太田雄介 ,  沓水真琴 ,  稻田敬 ,  片山觉嗣 ,  西川泰司

IPC分类号： C01B31/04

CPC分类号： C01B31/04 ,  C01B32/20 ,  H01L23/373 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24628 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明中，实施一边对原料石墨膜施压一边加热至2000℃以上来进行热处理的矫正处理步骤，从而通过该矫正处理来控制石墨膜的松弛。通过在矫正处理步骤中使用表面状态相异的多个内芯，能够制作一种在一张膜中具有两种以上发挥各自效果的松弛的石墨膜。

公开(公告)号：CN105683088B

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：CN201480058525.9

申请日：2014-11-28

申请人： 株式会社钟化

发明人： 小林干明 ,  西川泰司 ,  稻田敬 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  沓水真琴

IPC分类号： C01B32/205

CPC分类号： C01B32/20

摘要： 本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对使用含有70摩尔％以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔％以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。

公开(公告)号：CN103764558B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201280040904.6

申请日：2012-08-17

申请人： 株式会社钟化

发明人： 太田雄介 ,  稻田敬 ,  沓水真琴 ,  西川泰司 ,  片山觉嗣

IPC分类号： C01B31/04

CPC分类号： C01B31/04 ,  C01B32/20 ,  C04B35/522 ,  C04B35/524 ,  C04B35/62218 ,  C04B2235/6562 ,  H01L23/373 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24628 ,  Y10T428/24653 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明通过实施松弛控制步骤，能获得形状得到了控制的石墨膜。该松弛控制步骤为：在自高分子膜的热分解开始温度起至高分子膜的松弛控制温度为止的温度范围下，控制高分子膜的宽度方向上的两端部的温度、以及高分子膜的宽度方向上的中央部的温度。

公开(公告)号：CN103958405B

公开(公告)日：2015-12-02

申请号：CN201280058698.1

申请日：2012-10-23

申请人： 株式会社钟化

发明人： 太田雄介 ,  沓水真琴 ,  稻田敬 ,  片山觉嗣 ,  西川泰司

IPC分类号： C01B31/04

CPC分类号： C01B31/04 ,  C01B32/20 ,  H01L23/373 ,  H01L2924/0002 ,  Y10T428/24628 ,  H01L2924/00

摘要： 本发明中，实施一边对原料石墨膜施压一边加热至2000℃以上来进行热处理的矫正处理步骤，从而通过该矫正处理来控制石墨膜的松弛。通过在矫正处理步骤中使用表面状态相异的多个内芯，能够制作一种在1张膜中具有2种以上发挥各自效果的松弛的石墨膜。

公开(公告)号：CN105102200A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：CN201480006911.3

申请日：2014-01-30

申请人： 株式会社钟化

发明人： 沓水真琴 ,  太田雄介 ,  片山觉嗣 ,  稻田敬 ,  小林干明 ,  西川泰司

IPC分类号： B29C45/14 ,  B32B9/04

CPC分类号： B32B9/007 ,  B29C45/0005 ,  B29C45/14 ,  B29C45/14811 ,  B29C2045/0012 ,  B29K2707/04 ,  B29L2009/00 ,  B32B7/02 ,  B32B9/04 ,  B32B9/045 ,  B32B27/308 ,  B32B27/38 ,  B32B27/42 ,  B32B38/00 ,  B32B2307/51 ,  B32B2457/00 ,  C08J5/042

摘要： 为了防止在制造由石墨膜层积体和树脂所一体形成的树脂成形体时发生石墨膜层积体错位，使用包含以下结构的石墨膜层积体：250℃下的弹性模数为7.0×104Pa以上5.0×107Pa以下的第一固定层与石墨膜的至少一方主面相接触。