石墨薄膜的制造方法
摘要:
本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法,其特征在于:对使用含有70摩尔%以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔%以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜,在2400℃以上的温度下进行热处理。
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