发明授权
- 专利标题: 石墨薄膜的制造方法
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申请号: CN201480058525.9申请日: 2014-11-28
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公开(公告)号: CN105683088B公开(公告)日: 2018-11-16
- 发明人: 小林干明 , 西川泰司 , 稻田敬 , 太田雄介 , 片山觉嗣 , 沓水真琴
- 申请人: 株式会社钟化
- 申请人地址: 日本大阪府
- 专利权人: 株式会社钟化
- 当前专利权人: 株式会社钟化
- 当前专利权人地址: 日本大阪府
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈建全
- 优先权: 2013-246366 2013.11.28 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/081610 2014.11.28
- 国际公布: WO2015/080264 JA 2015.06.04
- 进入国家日期: 2016-04-25
- 主分类号: C01B32/205
- IPC分类号: C01B32/205
摘要:
本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法,其特征在于:对使用含有70摩尔%以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔%以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜,在2400℃以上的温度下进行热处理。
公开/授权文献
- CN105683088A 石墨薄膜的制造方法 公开/授权日:2016-06-15