碳质膜的制造方法、及石墨膜的制造方法、以及辊状高分子膜及辊状碳质膜

    公开(公告)号:CN103380082A

    公开(公告)日:2013-10-30

    申请号:CN201280008559.8

    申请日:2012-03-26

    IPC分类号: C01B31/04 C01B31/02

    摘要: 本发明的课题在于,在利用高分子热分解法的长尺寸(辊状)的碳质膜的制造中,抑制碳质膜的熔合。一种碳质膜的制造方法,其特征在于,其是经由将高分子膜在卷成辊状的状态下进行热处理的工序来制造碳质膜的方法,在低于该高分子膜的热分解开始温度的温度下制成下述的辊状高分子膜后进行热处理,所述辊状高分子膜具有高分子膜间的间隙,所述间隙满足下述关系:关于辊状高分子膜全体而算出的、将相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得到的值即Ts/Tf为0.16以上且1.50以下。另外,作为间隙的形成方法,在将高分子膜卷成辊状时,将衬纸同时卷取,然后抽出所述衬纸,通过使用上述方法,对抑制碳质膜的熔合具有效果。

    碳质膜的制造方法及石墨膜的制造方法

    公开(公告)号:CN103764555B

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201280041428.X

    申请日:2012-07-25

    IPC分类号: C01B31/02 C01B31/04

    CPC分类号: C01B31/04 C01B32/20

    摘要: 本发明的课题在于,在基于高分子热分解法制造辊状的碳质膜时,抑制碳质膜熔合。在经过以将高分子膜卷成辊状的状态进行热处理的工序来制造碳质膜的方法中,在该高分子膜的热分解起始温度以上、且相对于热处理开始前高分子膜的重量的重量减少率为40%的温度以下的温度时,为下述辊状高分子膜:(2-1)具有满足以下关系的高分子膜间的间隙:关于辊状高分子膜整体计算出的相邻的该高分子膜间的间隙的厚度即Ts除以该高分子膜的厚度即Tf而得的值即Ts/Tf为0.33~1.50,和/或(2-2)在辊状高分子膜的50%截面圆内具有空间,50%截面圆内的空间所占的面积相对于50%截面圆的截面积为25%以上。

    石墨膜的制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103415467B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201280011482.X

    申请日:2012-03-26

    IPC分类号: C01B31/04

    摘要: 在本发明中,通过限制在以下温度范围内对高分子膜实施特殊的热处理,能够抑制在其后的石墨化处理时产生发泡,且即使提高石墨化升温速度也可以获得优质的石墨膜,其中,所述温度范围是指,高分子膜分解初期的从热分解起始温度以上的温度即升温下限值起、至高分子膜的热分解中间温度以下的温度即升温上限值为止的温度范围。

    石墨膜的制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103415467A

    公开(公告)日:2013-11-27

    申请号:CN201280011482.X

    申请日:2012-03-26

    IPC分类号: C01B31/04

    摘要: 在本发明中,通过限制在以下温度范围内对高分子膜实施特殊的热处理,能够抑制在其后的石墨化处理时产生发泡,且即使提高石墨化升温速度也可以获得优质的石墨膜,其中,所述温度范围是指,高分子膜分解初期的从热分解起始温度以上的温度即升温下限值起、至高分子膜的热分解中间温度以下的温度即升温上限值为止的温度范围。