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公开(公告)号：CN111132577B
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN201880061024.4
申请日：2018-09-20
Applicant: 株式会社荏原制作所 , 汉阳大学ERICA产学协力团
Abstract: 本发明提供PVA刷子的清洗方法。上述PVA刷子的清洗方法可包括准备PVA刷子的阶段、用包含有机物的清洗溶液将上述PVA刷子内的硅氧烷(siloxane)化合物去除的阶段、及对上述PVA刷子施加振动以去除上述PVA刷子内的杂质的阶段。
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公开(公告)号：CN111132577A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201880061024.4
申请日：2018-09-20
Applicant: 株式会社荏原制作所 , 汉阳大学ERICA产学协力团
Abstract: 本发明提供PVA刷子的清洗方法。上述PVA刷子的清洗方法可包括准备PVA刷子的阶段、用包含有机物的清洗溶液将上述PVA刷子内的硅氧烷(siloxane)化合物去除的阶段、及对上述PVA刷子施加振动以去除上述PVA刷子内的杂质的阶段。
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公开(公告)号：CN111868889B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN201980019193.6
申请日：2019-02-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B08B1/12 , B08B3/02 , B08B3/04
Abstract: 提供一种能够在短时间内进行高效的清洗工具的自我清洗的基板清洗装置。基板清洗装置具备：清洗工具，该清洗工具用于与基板的表面接触而对基板进行清洗；自我清洗部件，该自我清洗部件用于与清洗工具接触而对清洗工具进行自我清洗；清洗工具旋转机构，该清洗工具旋转机构用于使清洗工具旋转；清洗工具保持机构，该清洗工具保持机构对清洗工具进行保持，能够将清洗工具按压于基板，并且能够将清洗工具按压于自我清洗部件。另外，基板清洗装置具备控制部，该控制部以使得在对清洗工具进行自我清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的自我清洗时转矩成为规定转矩的方式控制清洗工具向自我清洗部件的按压力，该规定转矩是在清洗工具对基板进行清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的基板清洗时转矩以上的转矩。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101218665B
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN200680024513.X
申请日：2006-09-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 滨田聪美
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , H01L21/67046
Abstract: 本发明提供一种清洁元件、基片清洁装置和基片处理装置，其从清洁元件中排出的污染物数量减少，防止在受清洁的基片的逆向污染并以稳定的方式保持对基片的高度清洁力。本目标由在将清洁液体供应到受清洁的基片表面上的同时利用基片表面和与其接触的清洁元件之间的相对运动来对基片表面清洁的基片清洁装置的清洁元件来完成，清洁元件包括由防水材料制成的芯部(23a)，芯部(23a)的表面由多孔聚合物材料覆盖以限定覆层(23b)。多孔聚合物材料可以从由PVA聚合物、丙烯酸聚合物、其他加聚物、丙烯氨基化合物聚合物、聚氧乙烯聚合物、聚醚聚合物、缩聚物、乙烯聚合物吡咯烷酮、polystyrene aurfonic acid、氨基甲酸乙酯树脂和聚氨酯树脂所构成的组中选择。
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公开(公告)号：CN119361483A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411520161.3
申请日：2019-02-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种能够在短时间内进行高效的清洗工具的自我清洗的基板清洗装置。基板清洗装置具备：用于与基板的表面接触而对基板进行清洗的清洗工具；用于与清洗工具接触而对清洗工具进行自我清洗的自我清洗部件；用于使清洗工具旋转的清洗工具旋转机构；对清洗工具进行保持，能够将清洗工具按压于基板，并且能够将清洗工具按压于自我清洗部件的清洗工具保持机构。另外，基板清洗装置具备控制部，该控制部以使得在对清洗工具进行自我清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的自我清洗时转矩成为规定转矩的方式控制清洗工具向自我清洗部件的按压力，该规定转矩是在清洗工具对基板进行清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的基板清洗时转矩以上的转矩。
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公开(公告)号：CN101218665A
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN200680024513.X
申请日：2006-09-07
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 滨田聪美
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , H01L21/67046
Abstract: 本发明提供一种清洁元件、基片清洁装置和基片处理装置，其从清洁元件中排出的污染物数量减少，防止在受清洁的基片的逆向污染并以稳定的方式保持对基片的高度清洁力。本目标由在将清洁液体供应到受清洁的基片表面上的同时利用基片表面和与其接触的清洁元件之间的相对运动来对基片表面清洁的基片清洁装置的清洁元件来完成，清洁元件包括由防水材料制成的芯部(23a)，芯部(23a)的表面由多孔聚合物材料覆盖以限定覆层(23b)。多孔聚合物材料可以从由PVA聚合物、丙烯酸聚合物、其他加聚物、丙烯氨基化合物聚合物、聚氧乙烯聚合物、聚醚聚合物、缩聚物、乙烯聚合物吡咯烷酮、polystyrene aurfonic acid、氨基甲酸乙酯树脂和聚氨酯树脂所构成的组中选择。
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公开(公告)号：CN119361484A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411520163.2
申请日：2019-02-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 提供一种能够在短时间内进行高效的清洗工具的自我清洗的基板清洗装置。基板清洗装置具备：用于与基板的表面接触而对基板进行清洗的清洗工具；用于与清洗工具接触而对清洗工具进行自我清洗的自我清洗部件；用于使清洗工具旋转的清洗工具旋转机构；对清洗工具进行保持，能够将清洗工具按压于基板，并且能够将清洗工具按压于自我清洗部件的清洗工具保持机构。另外，基板清洗装置具备控制部，该控制部以使得在对清洗工具进行自我清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的自我清洗时转矩成为规定转矩的方式控制清洗工具向自我清洗部件的按压力，该规定转矩是在清洗工具对基板进行清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的基板清洗时转矩以上的转矩。
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公开(公告)号：CN111868889A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019193.6
申请日：2019-02-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: H01L21/304 , B08B1/00 , B08B3/02 , B08B3/04
Abstract: 提供一种能够在短时间内进行高效的清洗工具的自我清洗的基板清洗装置。基板清洗装置具备：清洗工具，该清洗工具用于与基板的表面接触而对基板进行清洗；自我清洗部件，该自我清洗部件用于与清洗工具接触而对清洗工具进行自我清洗；清洗工具旋转机构，该清洗工具旋转机构用于使清洗工具旋转；清洗工具保持机构，该清洗工具保持机构对清洗工具进行保持，能够将清洗工具按压于基板，并且能够将清洗工具按压于自我清洗部件。另外，基板清洗装置具备控制部，该控制部以使得在对清洗工具进行自我清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的自我清洗时转矩成为规定转矩的方式控制清洗工具向自我清洗部件的按压力，该规定转矩是在清洗工具对基板进行清洗时清洗工具旋转机构使清洗工具旋转的基板清洗时转矩以上的转矩。
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