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公开(公告)号：CN119487387A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202480003069.1
申请日：2024-03-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
Abstract: 本发明提供一种能够检测镀覆装置的密封部件的接触部位的电阻的技术。检测装置(1)具备：板部件(60)，其构成为在对密封部件(50)的接触部位(51)的电阻进行检测的电阻检测时被支架保持，并且具有在电阻检测时在被支架保持的情况下与接触部位对置的规定面(61)；第一电极(70)，其构成为配置于板部件的规定面，在电阻检测时与接触部位接触；第二电极(71)，其构成为配置于板部件的规定面，在电阻检测时与接触部位中的和第一电极所接触的部位不同的部位接触；以及电阻检测器(80)，其构成为与第一电极及第二电极电连接，并且在电阻检测时检测第一电极与第二电极之间的电阻，由此检测接触部位的电阻。
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公开(公告)号：CN113748231B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202080031583.8
申请日：2020-05-25
Applicant: 株式会社荏原制作所
IPC: C25D7/12 , C25D21/12 , H01L21/288
Abstract: 本发明涉及镀覆方法、镀覆装置、存储程序的非易失性存储介质。一种方法，是用于进行镀覆的方法，包括：准备第一面以及第二面具有不同的图案的基板的工序；镀覆工序，对上述基板的上述第一面以及上述第二面分别供给第一镀覆电流密度的电流以及第二镀覆电流密度的电流，以分别在上述第一面以及上述第二面形成镀覆膜；以及在上述第一面以及上述第二面的任意的面的镀覆先完成后，对上述镀覆先完成的面供给比在镀覆中供给到上述镀覆先完成的面的上述第一镀覆电流密度或上述第二镀覆电流密度小的电流密度的保护电流。
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公开(公告)号：CN116419991B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202180075320.1
申请日：2021-06-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
IPC: C25D17/10
Abstract: 本发明提供一种镀覆装置以及镀覆方法，无需物理/机械构造而防止或缓和电场的绕行。根据一个实施方式，提供一种镀覆装置，具备：基板保持架，构成为保持基板；镀覆槽，构成为收容保持了上述基板的上述基板保持架，该镀覆槽具备上述基板的第一面侧的第一槽和上述基板的第二面侧的第二槽，上述第一槽与上述第二槽经由间隙连通；第一阳极电极，配置于上述镀覆槽的上述第一槽；第一电源，构成为向上述基板与上述第一阳极电极之间供给镀覆电流；辅助阳极电极，配置于上述间隙的上述第一槽侧；辅助阴极电极，配置于上述间隙的上述第二槽侧；以及辅助电源，构成为向上述辅助阳极电极与上述辅助阴极电极之间供给辅助电流。
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公开(公告)号：CN119522300A
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202480003285.6
申请日：2024-03-28
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
Abstract: 本发明提高基板支架的清洗度的检测精度。镀覆装置包括：镀覆槽，其构成为收容镀覆液；基板支架(440)，其具有用于向基板供电的接触部件(494‑4)、和配置于接触部件(494‑4)的附近的电极部件(494‑6)；清洗部件，其具有构成为对基板支架(440)的配置有接触部件(494‑4)的内部区域排出清洗液的清洗喷嘴(472a)；电源(495)，其构成为在接触部件(494‑4)与电极部件(494‑6)之间施加电压；电流计(496)，其构成为对在接触部件(494‑4)与电极部件(494‑6)之间流动的电流进行测量；以及控制部(499)，其使检测器(497)动作，该检测器(497)构成为基于在使用清洗部件清洗基板支架(440)的内部区域时由电流计(496)测量出的电流，对基板支架(440)的内部区域的清洗度进行检测。
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公开(公告)号：CN118256977A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410266455.1
申请日：2021-06-18
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提供一种镀覆装置，用于对基板进行镀覆，该镀覆装置具备：阳极，其配置为与上述基板对置；和中间遮罩，其在上述基板与上述阳极之间配置于上述基板侧，具有供从上述阳极向上述基板的电场通过的第1中央开口，该中间遮罩在中间遮罩的内部空间具有配置于上述第1中央开口的周围的辅助阳极，上述辅助阳极的面积为上述阳极的面积的1/5以下。
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公开(公告)号：CN116419991A
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202180075320.1
申请日：2021-06-01
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
IPC: C25D17/10
Abstract: 本发明提供一种镀覆装置以及镀覆方法，无需物理/机械构造而防止或缓和电场的绕行。根据一个实施方式，提供一种镀覆装置，具备：基板保持架，构成为保持基板；镀覆槽，构成为收容保持了上述基板的上述基板保持架，该镀覆槽具备上述基板的第一面侧的第一槽和上述基板的第二面侧的第二槽，上述第一槽与上述第二槽经由间隙连通；第一阳极电极，配置于上述镀覆槽的上述第一槽；第一电源，构成为向上述基板与上述第一阳极电极之间供给镀覆电流；辅助阳极电极，配置于上述间隙的上述第一槽侧；辅助阴极电极，配置于上述间隙的上述第二槽侧；以及辅助电源，构成为向上述辅助阳极电极与上述辅助阴极电极之间供给辅助电流。
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公开(公告)号：CN115997049A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180053463.2
申请日：2021-01-08
Applicant: 株式会社荏原制作所
Inventor： 高桥直人
IPC: C25D17/08
Abstract: 本发明抑制或防止镀覆液侵入基板支架的被密封的空间，并且早期发现镀覆液侵入了的情况。一种基板支架，用于保持基板，并使基板与镀覆液接触来进行镀覆，其中，上述基板支架具备：内部空间，其在通过上述基板支架保持了上述基板的状态下，以相对于上述基板支架的外部进行了密封的状态收容上述基板的外周部；第1通路，其使上述基板支架的外部与上述内部空间连通，而向上述内部空间导入液体；以及检测器，其配置于上述内部空间，用于在向上述内部空间导入了上述液体的状态下，监视在镀覆中流入上述液体的电流或上述液体的电阻，由此检测镀覆液向上述内部空间的泄漏。
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公开(公告)号：CN119710872A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202411838702.7
申请日：2022-06-27
Applicant: 株式会社荏原制作所
Abstract: 本发明提高镀覆于多边形基板的膜的面内均匀性。镀覆装置具备：镀覆槽；基板支架，构成为保持多边形基板；阳极，配置于上述镀覆槽内，以便与上述基板支架所保持的基板对置；以及阳极遮罩，划定与上述多边形基板的外形对应的开口。阳极遮罩具有：第一遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第一边对应的第一开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第一凸部；及第二遮罩部件，在上述开口中的与上述多边形基板的第二边对应的第二开口边的中央部，划定朝向该开口的中央突出的第二凸部，上述阳极遮罩构成为能够调整上述第一遮罩部件与上述第二遮罩部件的相互的距离。
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