-
公开(公告)号：CN106914703B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201611186186.X
申请日：2016-12-20
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本发明涉及光加工装置，其目的在于改善输送部间歇性输送加工对象物时发生的停止位置偏离造成的加工位置偏离。本发明的光加工装置具有向加工区域(36)照射加工光(L)的光源(11)、向输送方向(B)间歇输送加工对象物(35)而使加工对象物上的被加工部分依次送入加工区域的输送部(32)、以及在被加工部分停止在加工区域上的状态下根据加工数据控制工光加工被加工部分的加工控制部(40)，进一步具有在被加工部分停止在加工区域上时检测加工对象物上的检测用标记(37)的位置的位置检测部(33、34)，加工控制部(40)根据位置检测部的检测结果，补偿输送部输送的加工对象物的停止位置偏离造成的加工位置偏离。
-
公开(公告)号：CN106475681B
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201610735236.9
申请日：2016-08-25
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/082 , B23K26/0622 , B23K26/067 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/16 , B23K26/362 , B23K26/402
Abstract: 本发明涉及光加工装置和光加工物的生产方法，其目的在于方便利用以光扫描装置来使得加工对象物的光扫描位置发生移动的光加工装置对较大的加工对象物实施加工处理。本发明的光加工装置具有光源(11)、用于扫描光源光的光扫描装置(21)、以及用于将受到所述光扫描部扫描的光会聚到加工对象物(35)上的聚光部(22)，其特征在于，该聚光部(11)搭载于相对于加工对象物(35)移动的移动部(25)，而所述光源未搭载于该移动部(25)。
-
公开(公告)号：CN106475681A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610735236.9
申请日：2016-08-25
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/082 , B23K26/0622 , B23K26/067 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/16 , B23K26/362 , B23K26/402
CPC classification number: B23K26/082 , B23K26/0622 , B23K26/067 , B23K26/083 , B23K26/16 , B23K26/362 , B23K26/402 , B23K26/702
Abstract: 本发明涉及光加工装置和光加工物的生产方法，其目的在于方便利用以光扫描装置来使得加工对象物的光扫描位置发生移动的光加工装置对较大的加工对象物实施加工处理。本发明的光加工装置具有光源(11)、用于扫描光源光的光扫描装置(21)、以及用于将受到所述光扫描部扫描的光会聚到加工对象物(35)上的聚光部(22)，其特征在于，该聚光部(11)搭载于相对于加工对象物(35)移动的移动部(25)，而所述光源未搭载于该移动部(25)。
-
公开(公告)号：CN101458392B
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：CN200810186816.2
申请日：2008-12-15
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 公开的光扫描装置包括配置为发射激光束的光源单元；配置为偏转来自光源单元的激光束的摆动镜；配置为将偏转的激光束聚焦在目标面上的扫描/成像光学系统；以及配置为在激光束的扫描区域中接收激光束的多个光接收元件，摆动镜的位置被调节为以致各个光接收元件的输出信号中的输出脉冲之间的时间间隔变为在光接收元件之间大致相同和/或输出脉冲的宽度变为在光接收元件之间大致相同。本发明还提供包括如上所述的光扫描装置的图像形成设备。
-
公开(公告)号：CN101458392A
公开(公告)日：2009-06-17
申请号：CN200810186816.2
申请日：2008-12-15
Applicant: 株式会社理光
Abstract: 公开的光扫描装置包括配置为发射激光束的光源单元；配置为偏转来自光源单元的激光束的摆动镜；配置为将偏转的激光束聚焦在目标面上的扫描/成像光学系统；以及配置为在激光束的扫描区域中接收激光束的多个光接收元件，摆动镜的位置被调节为以致各个光接收元件的输出信号中的输出脉冲之间的时间间隔变为在光接收元件之间大致相同和/或输出脉冲的宽度变为在光接收元件之间大致相同。本发明还提供包括如上所述的光扫描装置的图像形成设备。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN206519655U
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201621403006.4
申请日：2016-12-20
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型涉及光加工装置，其目的在于改善输送部间歇性输送加工对象物时发生的停止位置偏离造成的加工位置偏离。本实用新型的光加工装置具有向加工区域(36)照射加工光(L)的光源(11)、向输送方向(B)间歇输送加工对象物(35)而使加工对象物上的被加工部分依次送入加工区域的输送部(32)、进一步具有位置检测部(33、34)，该位置检测部被设置在与输送方向(B)相垂直的宽度方向上的一端端部一方，用于在加工对象物(35)上的被加工部分停止在加工区域(36)上时，检测该加工对象物上的检测用标记(37)的位置。
-
公开(公告)号：CN106914703A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611186186.X
申请日：2016-12-20
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/362 , B23K26/082 , B23K26/064 , B23K26/70
CPC classification number: B23K26/064 , B23K26/0643 , B23K26/082 , B23K26/361 , B23K26/702
Abstract: 本发明涉及光加工装置，其目的在于改善输送部间歇性输送加工对象物时发生的停止位置偏离造成的加工位置偏离。本发明的光加工装置具有向加工区域(36)照射加工光(L)的光源(11)、向输送方向(B)间歇输送加工对象物(35)而使加工对象物上的被加工部分依次送入加工区域的输送部(32)、以及在被加工部分停止在加工区域上的状态下根据加工数据控制工光加工被加工部分的加工控制部(40)，进一步具有在被加工部分停止在加工区域上时检测加工对象物上的检测用标记(37)的位置的位置检测部(33、34)，加工控制部(40)根据位置检测部的检测结果，补偿输送部输送的加工对象物的停止位置偏离造成的加工位置偏离。
-
公开(公告)号：CN106914698A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611194659.0
申请日：2016-12-21
Applicant: 株式会社理光
IPC: B23K26/00 , B23K26/064 , B23K26/082 , B23K26/38
CPC classification number: B23K26/00 , B23K26/0643 , B23K26/0648 , B23K26/082 , B23K26/38
Abstract: 本发明涉及光加工装置，其目的在于有效利用通过光扫描装置来使得加工对象物的光照射位置发生移动的光加工装置对大型加工对象物进行加工处理。本发明的光加工装置具备发射加工光的光源(11)以及扫描光源发射的加工光的光扫描部(21)，进一步具备：移动部(22)，用于移动将受到所述光扫描部扫描的加工光射到加工对象物(35)的被加工面上的加工光射出部(22)；以及，加工控制部(40)，用于在对加工对象物(35)的被加工面上的多个被加工部分分别实施加工的各个停止位置上，停止移动部(22)移动的状态下，控制用加工光射出部(22)射出的加工光，对加工对象物(35)上的各个被加工面的被加工部分实施加工。
-
公开(公告)号：CN103072385B
公开(公告)日：2015-05-06
申请号：CN201210345728.9
申请日：2012-09-13
Applicant: 株式会社理光
Inventor： 中岛智宏
IPC: B41J2/44
Abstract: 本发明涉及光打印头以及成像装置，其目的在于提供一种能够减小光打印头宽度并同时确保可对应高密度且高速写入的高速输送信号质量的光打印头。该光打印头具备设有多个光源(102)以及电极导线的有机EL基板(101)、使光束在被照射面上成像的透镜阵列(105)、保持有机EL基板和透镜阵列并具有接触成像装置面板的突起接触部(106a)的框体(106)、保持框体并具有驱动控制电路(150)以及信号导线的打印基板(107)、以及在平行于打印基板表面的方向上对打印基板施加向着被照射面的作用力以使突起接触部接触成像装置面板的作用力施加单元，打印基板保持框体，使得其基板表面平行于透镜阵列光轴且电极导线连接信号导线。
-
公开(公告)号：CN103364946A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310096399.3
申请日：2013-03-25
Applicant: 株式会社理光
CPC classification number: G03G15/04036 , G03G15/0435 , G03G21/1666
Abstract: 本发明涉及曝光装置以及图像形成装置，其目的在于提供一种能够改善机械性外来不利影响抵抗强度的曝光装置。本发明的曝光装置具备光学框体(2300)，该光学框体(2300)的底板(2301)表面和底板(2301)背面上分别形成多条以等间隔排设的漕(2307a)，底板表面的漕(2307a)的中心位置与底板背面的漕(2307a)的中心位置之间互相偏离，偏离量为漕间间隔的1/2倍。对于薄型化光学框体，该结构不仅不会带来重量增加和原料费用上升，而且有利于提高光学框体的抗振性能，进而改善光扫描装置的机械性外来不利影响抵抗强度。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
13
records
(took 0.017 seconds)
