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公开(公告)号：CN1160660C
公开(公告)日：2004-08-04
申请号：CN97121412.3
申请日：1997-09-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G06K11/00
CPC classification number: G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
Abstract: 本发明公开了一种图形检测方法和装置，该方法和装置在对于具有二维多重设置性的位置和仅具有沿X方向、Y方向的重复性的部分混合在一起的图形，作为若干个对象物进行检测中，简单的进行坐标指定即可检测出缺陷，对着眼点(101)和只离开重复的诸如102a～102d的比较点进行十字形比较，将与任何一个都不相同的部分作为候选缺陷选取出来，这样便可以通过对具有二维重复部分、具有沿X方向或Y方向的重复性的位置进行检测的将孤立点等的沿X方向和Y方向不具有重复性的部分作为候选缺陷选取出来。
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公开(公告)号：CN1182921A
公开(公告)日：1998-05-27
申请号：CN97121412.3
申请日：1997-09-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G06K11/00
CPC classification number: G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/30148
Abstract: 本发明公开了一种图形检测方法和装置,该方法和装置在对于具有二维多重设置性的位置和仅具有沿X方向、Y方向的重复性的部分混合在一起的图形,作为若干个对象物进行检测中,简单的进行坐标指定即可检测出缺陷,对着眼点(101)和只离开重复的诸如102a～102d的比较点进行十字形比较,将与任何一个都不相同的部分作为候选缺陷选取出来,这样便可以通过对具有二维重复部分、具有沿X方向或Y方向的重复性的位置进行检测的将弧立点等的沿X方向和Y方向不具有重复性的部分作为候选缺陷选取出来。
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公开(公告)号：CN1211834C
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：CN01135769.X
申请日：2001-10-17
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L21/027 , H01L21/70 , G03F1/16 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70616 , G03F1/84 , G03F3/10
Abstract: 在同一洁净室内提供有每个遮光图形都由有机膜制成的光掩模制作区和半导体集成电路器件制造区。光掩模的制作和半导体集成电路器件的制造共用制造和检查设备。
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公开(公告)号：CN1349246A
公开(公告)日：2002-05-15
申请号：CN01135769.X
申请日：2001-10-17
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: H01L21/027 , H01L21/70 , G03F1/16 , G03F7/00
CPC classification number: G03F7/70616 , G03F1/84 , G03F3/10
Abstract: 在同一洁净室内提供有每个遮光图形都由有机膜制成的光掩模制作区和半导体集成电路器件制造区。光掩模的制作和半导体集成电路器件的制造共用制造和检查设备。
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