高纯度异丙醇及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112771016A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201980062444.9

    申请日:2019-09-30

    Abstract: 本发明提供一种高纯度异丙醇,其中,碳原子数为7~12的缩醛化合物的浓度以质量基准计为100ppb以下,进行了在氮气气氛下于80℃加热4小时的加速试验的情况下,就前述缩醛化合物的浓度而言,相对于该加热前的值而言增加量在30倍以内,且以质量基准计维持为100ppb以下的值。另外,提供如上所述的高纯度异丙醇的制造方法。

    半导体清洗液及半导体清洗液的制造方法

    公开(公告)号:CN118742996A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202380022672.X

    申请日:2023-02-07

    Abstract: 提供一种包含异丙醇的半导体清洗液,其中,叔丁醇相对异丙醇的质量比为1ppm以下。另外,提供一种半导体清洗液的制造方法,其包括第一蒸馏工序,其中,将作为杂质包含叔丁醇的粗异丙醇水溶液供给至第一蒸馏塔的原料供给段,从前述第一蒸馏塔的塔顶抽出第一馏出液并且从前述第一蒸馏塔的塔底抽出第一塔釜残液,前述第一馏出液包含沸点比异丙醇低的低沸点杂质,在前述第一蒸馏工序中,以从前述第一蒸馏塔的原料供给段起至塔顶为止的段之中的、以理论塔板数计为3段以上的段中的液相中的水的含有率成为15质量%以上的方式,从前述第一蒸馏塔的外部向前述第一蒸馏塔的与原料供给段相比以理论塔板计靠上2段以上的规定的段供给含有水的流体。

    半导体处理液及其制造方法

    公开(公告)号:CN115335966B

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202180022829.X

    申请日:2021-03-30

    Abstract: 本发明提供半导体处理液及其制造方法,所述半导体处理液为包含高纯度异丙醇的半导体处理液,在SUS304制容器内于50℃、氮气氛下保管了60天时的下述式(1)表示的氧杂环戊烷化合物的浓度以相对于异丙醇而言的质量基准计为25ppb以下。式中,R1及R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~3的烷基,R1及R2的碳原子数合计为3以下。R3表示氢原子或异丙基。

    无机固体的表面碳量测定方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117836623A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202280057448.X

    申请日:2022-08-31

    Abstract: 无机固体的表面碳量测定方法,其特征在于,在含氧气氛下对收容于密闭容器中的无机固体进行加热并使表面燃烧,利用气相色谱法对该燃烧后的容器气氛中的二氧化碳量进行分析,根据所得分析结果求出所述无机固体表面的碳量,其中,所述密闭容器构造优选为其壁面的一部分向外方向延伸而形成延伸部,在该延伸部的外端面设有能够利用盖材开闭的无机固体的出入口,在该盖材的与所述延伸部外端的壁面的接触面上夹设有合成橡胶制定型密封材料。

    半导体处理液及其制造方法

    公开(公告)号:CN115335966A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202180022829.X

    申请日:2021-03-30

    Abstract: 本发明提供半导体处理液及其制造方法,所述半导体处理液为包含高纯度异丙醇的半导体处理液,在SUS304制容器内于50℃、氮气氛下保管了60天时的下述式(1)表示的氧杂环戊烷化合物的浓度以相对于异丙醇而言的质量基准计为25ppb以下。式中,R1及R2各自独立地表示氢原子或碳原子数为1~3的烷基,R1及R2的碳原子数合计为3以下。R3表示氢原子或异丙基。

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