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公开(公告)号:CN115136323A
公开(公告)日:2022-09-30
申请号:CN202180014587.X
申请日:2021-02-17
IPC: H01L29/786 , C23C16/36 , C23C16/42 , C23C16/50 , H01L21/31 , H01L21/316 , H01L21/336
Abstract: 本发明之晶体管具有闸极电极、闸极绝缘膜、半导体膜、源极电极及汲极电极,且上述闸极绝缘膜系交替积层SiOx膜与SiCyNz膜而成之积层膜,构成上述积层膜之膜之总数为3层以上18层以下,构成上述积层膜之各膜之膜厚为25nm以上150nm以下。
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公开(公告)号:CN104919078B
公开(公告)日:2017-05-24
申请号:CN201480004940.6
申请日:2014-01-22
Applicant: 株式会社尼康
IPC: C23C14/06
CPC classification number: G03F7/2041 , C04B35/52 , G03F7/11 , G03F7/70341 , Y10T428/24322 , Y10T428/265 , Y10T428/31678 , Y10T442/10
Abstract: 一种施加于基材表面的功能性被膜,包含掺杂有Ti的四面体非晶碳的膜(ta‑C:Ti膜)。
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公开(公告)号:CN104919078A
公开(公告)日:2015-09-16
申请号:CN201480004940.6
申请日:2014-01-22
Applicant: 株式会社尼康
IPC: C23C14/06
CPC classification number: G03F7/2041 , C04B35/52 , G03F7/11 , G03F7/70341 , Y10T428/24322 , Y10T428/265 , Y10T428/31678 , Y10T442/10
Abstract: 一种施加于基材表面的功能性被膜,包含掺杂有Ti的四面体非晶碳的膜(ta-C:Ti膜)。
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公开(公告)号:CN105026606A
公开(公告)日:2015-11-04
申请号:CN201480012651.0
申请日:2014-04-28
Applicant: 株式会社尼康
IPC: C23C14/06 , H01L21/316 , H01L21/318 , H01L21/363
CPC classification number: C23C14/0676 , C23C14/0641 , C23C14/08 , C23C14/083 , C23C14/325 , C23C14/34 , H01L21/02381 , H01L21/02422 , H01L21/02483 , H01L21/02491 , H01L21/02507 , H01L21/02565 , H01L21/02631
Abstract: 本发明提供一种控制化合物膜中氮含量的化合物膜的制造方法,该化合物膜的制造方法中,在载置于成膜室的基板上形成层叠的覆膜,其中,在基板上交替层叠第1化合物层和第2化合物层,所述第1化合物层含有选自金属元素和半金属元素中的1种以上的元素和氧元素,其利用过滤电弧离子镀法形成,所述第2化合物层含有所述1种以上的元素和氮元素,其利用溅射法形成。
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