公开(公告)号：CN1717776A

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN200380104398.3

申请日：2003-12-10

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白井健

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B1/10

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

Abstract: 浸渍曝光装置具有将图形的像投影在晶片W上的投影光学系统PL和向投影光学系统PL末端的光学元件4与晶片W间供给液体7的装置5。为了防止由液体7引起的侵蚀，光学元件4的表面形成了由氧化物构成的耐侵蚀性膜。即使以浸渍状态进行步进重复方式这样的统一曝光和步进扫描方式这样的扫描型曝光，也能够长时间维持投影光学系统的所期望的性能。

公开(公告)号：CN100440432C

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：CN200480024324.3

申请日：2004-08-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白井健 ,  国分崇生 ,  石泽均 ,  村上敦信

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  G02B13/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

Abstract: 一种在曝光装置中被使用的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，其中，在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。

公开(公告)号：CN1842892A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200480024324.3

申请日：2004-08-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 白井健 ,  国分崇生 ,  石泽均 ,  村上敦信

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G02B7/02 ,  G02B13/00

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G02B1/105 ,  G02B1/14 ,  G03F7/70875 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983

Abstract: 一种在曝光装置中被使用的光学元件，所述曝光装置用曝光束照明掩模并经投影光学系统将所述掩模的图形转印到基板上，且使规定的液体介入到所述基板的表面与所述投影光学系统之间，其中，在所述投影光学系统的所述基板一侧的透过光学元件的表面上具备第1防止溶解构件。