公开(公告)号：CN100487860C

公开(公告)日：2009-05-13

申请号：CN200480037202.8

申请日：2004-12-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 西井康文 ,  白石健一 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一种台装置(PST)被提供以：支撑器(PH)，其具有支撑衬底(P)的衬底支撑表面(33A)；台(52)，其支撑和移动支撑器(PH)；以及回收装置(60)，其被布置在支撑器(PH)附近，并且具有亲液部分(3、5)，其中每一个的至少一部分是亲液性的，其利用亲液部分(3、5)来回收液体(1)。结果，防止了液体渗透到衬底和支撑器之间的空间中，即使在通过用液体填充投射光学系统和衬底之间的空间来执行曝光处理时也是如此。

公开(公告)号：CN100565799C

公开(公告)日：2009-12-02

申请号：CN200680017294.2

申请日：2006-07-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 水谷刚之 ,  奥村正彦 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70975

Abstract: 曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。

公开(公告)号：CN101180707A

公开(公告)日：2008-05-14

申请号：CN200680017294.2

申请日：2006-07-11

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 水谷刚之 ,  奥村正彦 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70733 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70975

Abstract: 曝光装置(EX)，具备第1载台(WST)、及第2载台(MST)。维护装置(55)，在保持于第1载台的晶片(W)的曝光处理中执行第2载台(MST)的维护。

公开(公告)号：CN1894773A

公开(公告)日：2007-01-10

申请号：CN200480037202.8

申请日：2004-12-15

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 西井康文 ,  白石健一 ,  河野博高

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70341

Abstract: 一种台装置PST被提供以：支撑器PH，其具有支撑衬底P的衬底支撑表面33A；台52，其支撑和移动支撑器PH；以及回收装置60，其被布置在支撑器PH附近，并且具有亲液部分3、5，其中每一个的至少一部分是亲液性的，其利用亲液部分3、5来回收液体1。结果，防止了液体渗透到衬底和支撑器之间的空间中，即使在通过用液体填充投射光学系统和衬底之间的空间来执行曝光处理时也是如此。