公开(公告)号：CN101184988A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018783.X

申请日：2006-11-29

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 大森健雄 ,  深泽和彦 ,  广濑秀男

IPC: G01N21/956 ,  G01B11/30 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01N21/956 ,  G01N21/21 ,  G01N21/55 ,  G03F7/70625

Abstract: 在本发明中，通过减弱基底层的影响，成功地执行表面上的重复图案的缺陷检测。为了获得上述目标，本发明包括：单元13，其利用照明光L1照射样品20的表面上的重复图案的；单元11、12，其将由入射平面在表面上的方向和重复图案的重复方向所形成的角设置为零以外的预定值，所述入射平面包括照明光的照射方向、表面的法线1A；光探测单元14，其在照射照明光时探测从重复图案生成的规则的反射光，并输出关于规则的反射光的光强度的信息；以及探测单元15，其基于从光探测单元输出的信息，探测重复图案的缺陷。此外，由入射平面在表面上的方向和重复方向所形成的角φ、由照明光的照射方向和表面的法线所形成的角θ、照明光的波长λ以及重复图案的节距p满足条件式(λ/[2cos(θ·sinφ)]＞p)。