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公开(公告)号：CN104737279B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201380053966.5
申请日：2013-10-02
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/368 , B05D3/12 , G02F1/13 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G02F1/133305 , G02F1/1303
Abstract: 一种薄膜形成装置，在基板的表面形成薄膜，具有：供给部，其将含有薄膜材料的溶媒的液滴供给至基板的表面；形状变形部，其使基板的表面上的液滴的形状以从一个方向朝向另一个方向延伸的方式变形；除去部，其对从一个方向朝向另一个方向延伸了的液滴除去溶媒。
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公开(公告)号：CN1150601C
公开(公告)日：2004-05-19
申请号：CN00802085.X
申请日：2000-03-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/04 , B24B49/12
Abstract: 透明窗板(31)装配在制造于抛光垫(21)中的孔中。透明窗板(31)的上部与用作抛光垫(21)的抛光表面的上部之间存在距离a。抛光时，支撑晶片的抛光头借助于加压机构压到抛光垫上，抛光垫(21)和透明窗板(31)被压缩。然而，所说距离a在一基准值之上保持恒定。透明窗板(31)的上部从抛光体(21)的上部凹下，因此，在修整期间，透明窗板(31)的表面不会被划伤，所以可以延长抛光垫的寿命。
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公开(公告)号：CN102666323A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080048800.0
申请日：2010-11-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 基板处理装置具备：处理部，其对基板进行规定的处理；和基板保持部，其相对处理部移动，并且在形成基板的被处理面的同时对基板进行保持。
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公开(公告)号：CN104737279A
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201380053966.5
申请日：2013-10-02
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/368 , B05D3/12 , G02F1/13 , H01L21/336 , H01L29/786 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: G02F1/133305 , G02F1/1303
Abstract: 一种薄膜形成装置，在基板的表面形成薄膜，具有：供给部，其将含有薄膜材料的溶媒的液滴供给至基板的表面；形状变形部，其使基板的表面上的液滴的形状以从一个方向朝向另一个方向延伸的方式变形；除去部，其对从一个方向朝向另一个方向延伸了的液滴除去溶媒。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102666323B
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201080048800.0
申请日：2010-11-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B65G49/06 , H01L21/677 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC classification number: H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
Abstract: 基板处理装置具备：处理部，其对基板进行规定的处理；和基板保持部，其相对处理部移动，并且在形成基板的被处理面的同时对基板进行保持。
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公开(公告)号：CN1312742C
公开(公告)日：2007-04-25
申请号：CN200310117928.X
申请日：2000-03-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
Abstract: 一种用于抛光机的抛光垫，在上述抛光机中，抛光工件在抛光垫与抛光工件之间置入抛光剂的状态下通过使上述抛光垫与抛光工件之间产生相对运动而受到抛光，上述抛光垫的特征在于，在该抛光垫的表面上周期性地或非周期性地形成两种或多种不同类型的凹凸形结构。还提出了使用本发明抛光垫的抛光机和使用这种抛光机制造半导体器件的方法。
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公开(公告)号：CN1551303A
公开(公告)日：2004-12-01
申请号：CN200310117928.X
申请日：2000-03-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/26
Abstract: 一种用于抛光机的抛光盘，在上述抛光机中，抛光工件在抛光盘与抛光工件之间置入抛光剂的状态下通过使上述抛光盘与抛光工件之间产生相对运动而受到抛光，上述抛光盘的特征在于，在该抛光盘的表面上周期性地或非周期性地形成两种或多种不同类型的凹凸形结构。还提出了使用本发明抛光盘的抛光机和使用这种抛光机制造半导体器件的方法。
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公开(公告)号：CN1345264A
公开(公告)日：2002-04-17
申请号：CN00805734.6
申请日：2000-03-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/26
Abstract: 一种非泡沫型材料制成的用于化学机械抛光(CMP)机的硬质抛光盘,在该抛光盘的表面上组合地形成螺旋形槽或同心圆环形槽和栅格式槽,这些槽的交叉角为2°或更大些,使抛光盘表面上没有曲率半径≤50μm的刃边,因此不产生毛边,抛光工件不会出现划痕,从而提高了抛光速度。
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公开(公告)号：CN1322374A
公开(公告)日：2001-11-14
申请号：CN00802085.X
申请日：2000-03-14
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/304 , B24B37/04
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/013 , B24B49/04 , B24B49/12
Abstract: 透明窗板(31)装配在制造于抛光垫(21)中的孔中。透明窗板(31)的上部与用作抛光垫(21)的抛光表面的上部之间存在距离a。抛光时,支撑晶片的抛光头借助于加压机构压到抛光垫上,抛光垫(21)和透明窗板(31)被压缩。然而,所说距离a在一基准值之上保持恒定。透明窗板(31)的上部从抛光体(21)的上部凹下,因此,在修整期间,透明窗板(31)的表面不会被划伤,所以可以延长抛光垫的寿命。
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