曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN113267964A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110570852.4

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 下山隆司

    Abstract: 液晶曝光装置,设有保持基板(P)之基板保持具(34),具备测量系,该测量系具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置,根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息,测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息,多个读头,在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺,将使用该移转之读头以控制基板保持具之移动之修正信息,根据至少三个读头之测量信息来取得。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN113267964B

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202110570852.4

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 下山隆司

    Abstract: 液晶曝光装置,设有保持基板(P)之基板保持具(34),具备测量系统,该测量系统具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置,根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息,测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息,多个读头,在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺,将使用该移转之读头以控制基板保持具之移动之修正信息,根据至少三个读头之测量信息来取得。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN108139689A

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201680057223.9

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 下山隆司

    CPC classification number: G03F7/20 H01L21/68

    Abstract: 液晶曝光装置,设有保持基板(P)之基板保持具(34),具备测量系,该测量系具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置,根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息,测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息,多个读头,在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺,将使用该移转之读头读头以控制基板保持具之移动之修正信息,根据至少三个读头之测量信息来取得。

    曝光装置及曝光方法、以及平面显示器制造方法

    公开(公告)号:CN108139689B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN201680057223.9

    申请日:2016-09-29

    Inventor: 下山隆司

    Abstract: 液晶曝光装置,设有保持基板(P)之基板保持具(34),具备测量系统,该测量系统具有在X轴方向彼此分离配置之多个标尺(52)、对标尺照射测量光束且能在Y轴方向移动之多个读头(66x,66y)、以及测量多个读头在Y轴方向之位置信息之测量装置,根据至少三个读头之测量信息与前述测量装置之测量信息,测量基板保持具在水平面内3自由度方向之位置信息,多个读头,在基板保持具往X轴方向之移动中从多个标尺中之一个脱离且移至与该一个标尺相邻之另一标尺,将使用该移转之读头读头以控制基板保持具之移动之修正信息,根据至少三个读头之测量信息来取得。

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