单体、光致抗蚀剂用树脂、光致抗蚀剂用树脂组合物以及图案形成方法

    公开(公告)号:CN114206954A

    公开(公告)日:2022-03-18

    申请号:CN202080055728.8

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 本发明提供一种提高在有机溶剂中的溶解性、水解性、水解后在水中的溶解性,并且对树脂赋予更高的耐热性的单体。一种光致抗蚀剂用树脂,该光致抗蚀剂用树脂包含下述式(Y)所示的聚合单元[式中,Rh表示卤素原子或具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基。R1是与环键合的取代基,表示卤素原子、任选地具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基、羟基部分任选地被保护基团保护且任选地具有卤素原子的碳原子数1~6的羟基烷基、任选地形成盐的羧基、或取代氧基羰基。A表示碳原子数1~6的亚烷基、氧原子、硫原子、或未键合。m为R1的个数,表示0~8的整数。X表示吸电子取代基,n为X的个数,表示1~9的整数。B表示单键或连接基团。与聚合物链键合的COOB‑基的立体位置任选地为内型、外型之一。]。

    单体、光致抗蚀剂用树脂、光致抗蚀剂用树脂组合物以及图案形成方法

    公开(公告)号:CN114206954B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202080055728.8

    申请日:2020-06-18

    Abstract: 本发明提供一种提高在有机溶剂中的溶解性、水解性、水解后在水中的溶解性,并且对树脂赋予更高的耐热性的单体。一种光致抗蚀剂用树脂,该光致抗蚀剂用树脂包含下述式(Y)所示的聚合单元#imgabs0#[式中,Rh表示卤素原子或具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基。R1是与环键合的取代基,表示卤素原子、任选地具有卤素原子的碳原子数1~6的烷基、羟基部分任选地被保护基团保护且任选地具有卤素原子的碳原子数1~6的羟基烷基、任选地形成盐的羧基、或取代氧基羰基。A表示碳原子数1~6的亚烷基、氧原子、硫原子、或未键合。m为R1的个数,表示0~8的整数。X表示吸电子取代基,n为X的个数,表示1~9的整数。B表示单键或连接基团。与聚合物链键合的COOB‑基的立体位置任选地为内型、外型之一。]。

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