公开(公告)号：CN110895383A

公开(公告)日：2020-03-20

申请号：CN201910862591.6

申请日：2019-09-12

Applicant: 株式会社大赛璐

Inventor： 江口明良 ,  上原和浩 ,  丸山孝

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/18 ,  C08F220/28 ,  C07D307/33 ,  C07D307/935

Abstract: 本发明的目的在于提供在形成耐溶胀性优异的光致抗蚀剂用树脂时有用的单体。本发明的光致抗蚀剂用树脂包含下述式(Y)所示的聚合单元，(式(Y)中，RX表示卤原子或被卤原子取代的碳原子数为1～6的烷基，A1表示单键或连接基团，当A1表示连接基团时，A1和RX1任选相互键合而形成环，RX1表示氢原子、碳原子数为1～6的烷基、或碳原子数为2～6的烯基，n表示0～5的整数，当n为2以上时，RX1任选相同或不同，任选相互键合而形成环，m表示1～4的整数)。

公开(公告)号：CN114206954B

公开(公告)日：2024-03-29

申请号：CN202080055728.8

申请日：2020-06-18

Applicant: 株式会社大赛璐

Inventor： 江口明良 ,  上原和浩 ,  古川正义 ,  丸山孝

IPC: C08F120/36 ,  C08F220/32 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种提高在有机溶剂中的溶解性、水解性、水解后在水中的溶解性，并且对树脂赋予更高的耐热性的单体。一种光致抗蚀剂用树脂，该光致抗蚀剂用树脂包含下述式(Y)所示的聚合单元#imgabs0#[式中，Rh表示卤素原子或具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基。R1是与环键合的取代基，表示卤素原子、任选地具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基、羟基部分任选地被保护基团保护且任选地具有卤素原子的碳原子数1～6的羟基烷基、任选地形成盐的羧基、或取代氧基羰基。A表示碳原子数1～6的亚烷基、氧原子、硫原子、或未键合。m为R1的个数，表示0～8的整数。X表示吸电子取代基，n为X的个数，表示1～9的整数。B表示单键或连接基团。与聚合物链键合的COOB‑基的立体位置任选地为内型、外型之一。]。

公开(公告)号：CN114206954A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080055728.8

申请日：2020-06-18

Applicant: 株式会社大赛璐

Inventor： 江口明良 ,  上原和浩 ,  古川正义 ,  丸山孝

IPC: C08F120/36 ,  C08F220/32 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种提高在有机溶剂中的溶解性、水解性、水解后在水中的溶解性，并且对树脂赋予更高的耐热性的单体。一种光致抗蚀剂用树脂，该光致抗蚀剂用树脂包含下述式(Y)所示的聚合单元[式中，Rh表示卤素原子或具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基。R1是与环键合的取代基，表示卤素原子、任选地具有卤素原子的碳原子数1～6的烷基、羟基部分任选地被保护基团保护且任选地具有卤素原子的碳原子数1～6的羟基烷基、任选地形成盐的羧基、或取代氧基羰基。A表示碳原子数1～6的亚烷基、氧原子、硫原子、或未键合。m为R1的个数，表示0～8的整数。X表示吸电子取代基，n为X的个数，表示1～9的整数。B表示单键或连接基团。与聚合物链键合的COOB‑基的立体位置任选地为内型、外型之一。]。