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公开(公告)号:CN101319295A
公开(公告)日:2008-12-10
申请号:CN200810092245.6
申请日:2008-04-17
Applicant: 株式会社中山制钢所
CPC classification number: C22C38/02 , C21D6/002 , C21D6/008 , C21D8/0226 , C21D8/0263 , C21D8/0426 , C21D9/48 , C21D2211/001 , C21D2211/002 , C21D2211/008 , C22C38/001 , C22C38/04 , C22C38/44
Abstract: 本发明涉及高强度热轧钢板及其制备方法。本发明提供具有更高强度和优异可加工性的新型高强度、含Si-Cr的热轧钢板,以及制备所述钢板的方法。可以通过将原始奥氏体颗粒尺寸控制为10微米或更小,并正确选择卷绕温度,来获得高强度钢板。获得的钢板包括体积分数为5%-20%的残余奥氏体相、体积分数等于或小于10%的马氏体相、和剩余体积分数的贝氏体相。残余奥氏体颗粒的颗粒尺寸为1微米或更小,残余奥氏体颗粒均匀分散。
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公开(公告)号:CN1458867A
公开(公告)日:2003-11-26
申请号:CN02800719.0
申请日:2002-01-29
CPC classification number: B21B1/26 , B21B3/02 , B21B13/142 , B21B27/10 , B21B37/74 , B21B45/002 , B21B45/0218 , B21B45/0242 , B21B45/0251 , B21B45/0263 , B21B45/0281 , B21B2267/065 , B21B2269/04 , B21B2269/14 , C21D8/0226
Abstract: 本发明的热轧设备具有:设置在前段中的轧机;设置在后段中的多机架轧机,它包括直径小于600mm的等效辊径的一对异径工作辊的异径辊轧机或者包括具有直径小于600mm的一对工作辊的超细辊轧机;一个冷却轧件的冷却装置,该冷却装置设置在后段的至少两架轧机的出口侧。该热轧设备能够顺利地制成细晶热轧钢板。
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公开(公告)号:CN1275711C
公开(公告)日:2006-09-20
申请号:CN02800719.0
申请日:2002-01-29
CPC classification number: B21B1/26 , B21B3/02 , B21B13/142 , B21B27/10 , B21B37/74 , B21B45/002 , B21B45/0218 , B21B45/0242 , B21B45/0251 , B21B45/0263 , B21B45/0281 , B21B2267/065 , B21B2269/04 , B21B2269/14 , C21D8/0226
Abstract: 本发明提供一种轧制轧件地制造结晶晶粒直径不到5μm的细晶钢板的热轧设备,它包括:设置在前段中的轧机;设置在后段中的多机架轧机,多机架轧机具有带有等效辊径不到600mm的一对异径工作辊的异径辊轧机或带有各自直径不到600mm的一对工作辊的超细辊轧机,在所述异径辊轧机中,所述一对异径工作辊里的仅一个工作辊被驱动,在所述超细辊轧机中,所述一对工作辊中的两个工作辊被驱动;设置在包括所述后段的最终机架的至少两个机架的轧机出口侧的冷却装置,冷却装置通过冷却该轧件防止精细组织在轧制后引起晶粒长大。本发明的制造方法利用上述热轧设备来轧制轧件,一边通过冷却装置冷却轧件以便在轧制后防止精细组织引起晶粒长大,一边使在轧制设备后段中的轧件累积应变为0.9或更大。
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公开(公告)号:CN101319295B
公开(公告)日:2012-05-30
申请号:CN200810092245.6
申请日:2008-04-17
Applicant: 株式会社中山制钢所
CPC classification number: C22C38/02 , C21D6/002 , C21D6/008 , C21D8/0226 , C21D8/0263 , C21D8/0426 , C21D9/48 , C21D2211/001 , C21D2211/002 , C21D2211/008 , C22C38/001 , C22C38/04 , C22C38/44
Abstract: 本发明涉及高强度热轧钢板及其制备方法。本发明提供具有更高强度和优异可加工性的新型高强度、含Si-Cr的热轧钢板,以及制备所述钢板的方法。可以通过将原始奥氏体颗粒尺寸控制为10微米或更小,并正确选择卷绕温度,来获得高强度钢板。获得的钢板包括体积分数为5%-20%的残余奥氏体相、体积分数等于或小于10%的马氏体相、和剩余体积分数的贝氏体相。残余奥氏体颗粒的颗粒尺寸为1微米或更小,残余奥氏体颗粒均匀分散。
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