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公开(公告)号:CN114059099A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202110871348.8
申请日:2021-07-30
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种金属离子回收装置、利用其的电极制造方法及制造装置,从电极图案的蚀刻中使用的废蚀刻液有效地回收金属离子后进行再生,并连续循环到显示器用电极制造工艺的蚀刻工艺以供再利用,从而可以增加蚀刻液的使用寿命。
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公开(公告)号:CN114059099A
公开(公告)日:2022-02-18
申请号:CN202110871348.8
申请日:2021-07-30
Applicant: 株式会社东进世美肯
Abstract: 本发明涉及一种金属离子回收装置、利用其的电极制造方法及制造装置,从电极图案的蚀刻中使用的废蚀刻液有效地回收金属离子后进行再生,并连续循环到显示器用电极制造工艺的蚀刻工艺以供再利用,从而可以增加蚀刻液的使用寿命。