公开(公告)号：CN102789126A

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：CN201210053889.0

申请日：2012-03-02

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 奥田健太郎 ,  冈本阳介 ,  桥本隆希 ,  佐藤英典

IPC: G03F1/44

CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/26 ,  G03F1/44

Abstract: 本发明的后述的实施方式涉及光掩模及其制造方法。光掩模具备：基板；膜部，设置在上述基板的表面上，具有比上述基板的光透射率低的光透射率；图案，设置在上述膜部表面上，被转印到被转印体上；以及检测标记，在上述膜部上设置有多个，透射光的强度被抑制，以便抑制向上述被转印体的转印。

公开(公告)号：CN102789126B

公开(公告)日：2016-04-13

申请号：CN201210053889.0

申请日：2012-03-02

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 奥田健太郎 ,  冈本阳介 ,  桥本隆希 ,  佐藤英典

IPC: G03F1/44

CPC classification number: G03F1/42 ,  G03F1/26 ,  G03F1/44

Abstract: 本发明的后述的实施方式涉及光掩模及其制造方法。光掩模具备：基板；膜部，设置在上述基板的表面上，具有比上述基板的光透射率低的光透射率；图案，设置在上述膜部表面上，被转印到被转印体上；以及检测标记，在上述膜部上设置有多个，透射光的强度被抑制，以便抑制向上述被转印体的转印。