检查装置以及焊接装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113506236A

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN202110189870.8

    申请日:2021-02-18

    Abstract: 提供能够更适当地检查焊接状态的检查装置以及焊接装置。实施方式的检查装置具备摄像部和处理部。摄像部取得在第一条件下对第一焊接部进行摄像而得到的第一图像数据、以及在与所述第一条件不同的第二条件下对所述第一焊接部进行摄像而得到的第二图像数据,所述第一焊接部包括第一非焊接区域、第二非焊接区域、以及所述第一非焊接区域与所述第二非焊接区域之间的第一焊接区域。处理部根据基于所述第一图像数据对所述第一非焊接区域与所述第一焊接区域的第一边界进行检测而得到的结果、和基于所述第二图像数据对所述第一焊接区域与所述第二非焊接区域的第二边界进行检测而得到的结果,进行针对所述第一焊接部的第一检查。

    判定装置、判定系统、判定方法、程序以及存储介质

    公开(公告)号:CN118742919A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202280091958.9

    申请日:2022-02-18

    Abstract: 实施方式的判定装置基于多个像素单位的像素值与多个阈值之间的各个比较来判定在包含多个像素单位的图像中拍摄到的物品的合格与否。判定装置执行将多个阈值分别设定为初始值的第一处理。判定装置执行第二处理,第二处理基于多个阈值来判定在多个合格品图像的至少一部分拍摄到的物品的合格与否。判定装置执行第三处理,第三处理在判定为多个合格品图像中的一个以上合格品图像中拍摄到的物品不合格的情况下,放宽多个阈值的至少一部分。判定装置重复第二处理及第三处理从而调整多个阈值,直至在第二处理中判定为多个合格品图像各自的物品为合格品为止。

    检查装置、检查系统以及检查程序

    公开(公告)号:CN113340917A

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN202110147280.9

    申请日:2021-02-03

    Abstract: 本发明提供检查装置、检查系统以及检查程序,能够应对多种产品的检查且提高检查精度。检查装置具备:图像取得部,对于作为检查对象的旋转体、且是在旋转方向上具有两个以上相同图案的上述旋转体,取得沿着上述旋转方向对规定的角度范围进行拍摄而得到的图像;以及图像处理部,基于上述旋转体的上述旋转方向的图案的周期,针对每个上述图案将上述图像中的一个上述图案与其他上述图案进行比较,由此对上述旋转体的缺陷进行检测。

    光掩模及其制造方法
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102789126B

    公开(公告)日:2016-04-13

    申请号:CN201210053889.0

    申请日:2012-03-02

    CPC classification number: G03F1/42 G03F1/26 G03F1/44

    Abstract: 本发明的后述的实施方式涉及光掩模及其制造方法。光掩模具备:基板;膜部,设置在上述基板的表面上,具有比上述基板的光透射率低的光透射率;图案,设置在上述膜部表面上,被转印到被转印体上;以及检测标记,在上述膜部上设置有多个,透射光的强度被抑制,以便抑制向上述被转印体的转印。

    判定装置、判定系统、判定方法以及存储介质

    公开(公告)号:CN115841436A

    公开(公告)日:2023-03-24

    申请号:CN202210215767.0

    申请日:2022-03-07

    Abstract: 提供能够自动地决定针对图像的处理的条件的判定装置、判定系统、判定方法及存储介质。判定装置使用拍摄到物品的图像来判定物品的合格与否,重复进行包含第一~第四处理的处理组,基于多个条件各自的评价,决定多个条件中的一个。在第一处理中,从包含多个规定有使用的通道及前处理的条件的条件数据中选择任一条件。在第二处理中,将所选择的条件分别应用于多个图像,取得多个处理图像。在第三处理中,基于分别比较多个处理图像各自包含的多个像素单位和多个阈值的结果,判定在各处理图像中拍摄到的物品合格与否。在第四处理中,使用选自针对各合格品图像及各不合格品图像各自的物品合格与否的判定结果的一个以上,决定针对所选择的条件的评价。

    光掩模及其制造方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102789126A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201210053889.0

    申请日:2012-03-02

    CPC classification number: G03F1/42 G03F1/26 G03F1/44

    Abstract: 本发明的后述的实施方式涉及光掩模及其制造方法。光掩模具备:基板;膜部,设置在上述基板的表面上,具有比上述基板的光透射率低的光透射率;图案,设置在上述膜部表面上,被转印到被转印体上;以及检测标记,在上述膜部上设置有多个,透射光的强度被抑制,以便抑制向上述被转印体的转印。

Patent Agency Ranking