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公开(公告)号：CN119894603A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202480003946.5
申请日：2024-01-31
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 混合离子交换树脂的阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的分离再生方法通过由分离塔、阳离子交换树脂再生塔、浓碱比重分离塔(阴离子交换树脂高度分离塔)、以及对阴离子交换树脂和NaOH溶液(阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的中间比重的溶液)进行混合的混合槽构成的结构来进行。在分离工序中取出的阴离子交换树脂中混入了少量的阳离子交换树脂。因此，将该阴离子交换树脂投入到混合槽中，去除水分后，注入NaOH溶液并浸渍。该NaOH溶液设定为阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的中间比重。并且，将阴离子交换树脂与NaOH溶液一起输送至浓碱比重分离塔。如果是这种阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的分离再生方法，能够利用浓碱比重分离法将阴离子交换树脂与阳离子交换树脂进行分离直至极低的精度。
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公开(公告)号：CN110234608A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201780084670.8
申请日：2017-03-09
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小川祐一
Abstract: 导电性水溶液制造装置(1)具有在供给作为原料水的超纯水(W)的主配管(11)的中途上设置的离子交换装置(2)、在该主配管(11)的离子交换装置(2)的下游侧合流的供给管(12)、以及导电性赋予物质供给装置(3)。对于离子交换装置(2)中填充的离子交换体而言，例如，在导电性赋予物质是氨的情况下，上述离子是阳离子，也就是说，是铵离子(NH4+)，因此，优选填充阳离子交换树脂。此外，在导电性赋予物质是二氧化碳的情况下，上述离子是阴离子，也就是说，是碳酸氢离子(HCO3-)或碳酸离子(CO32-)，因此，优选填充阴离子交换树脂。所述导电性水溶液制造装置能够以稳定的浓度制造导电性水溶液，对于浓度的变更追随性优异。
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公开(公告)号：CN104584198B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201380043869.8
申请日：2013-08-19
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: H01L21/304 , B08B3/08 , C23G1/10 , H01L21/306
CPC classification number: H01L21/02068 , B08B3/10 , B08B3/102 , C11D3/3947 , C11D11/0047 , C11D11/0064 , C25B1/285 , C25B15/08 , C25F1/00 , H01L21/28088 , H01L21/32134 , H01L21/67017
Abstract: 实现对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板(100)进行有效的清洗，而不会损伤TiN或硅化层。对于至少露出一部分TiN的经硅化处理后的半导体基板进行清洗时，具有以下工序：过硫酸生成工序，该过硫酸生成工序将清洗用硫酸溶液流通至电解部(2)，并使之循环，通过在所述电解部(2)发生的电解反应，生成规定浓度的过硫酸；溶液混合工序，该溶液混合工序将过硫酸生成工序中获得的含有过硫酸的硫酸溶液和含有一种以上的卤化物离子的卤化物溶液在不流通至电解部(2)的状态下进行混合，混合后生成含有过硫酸的氧化剂浓度为0.001～2mol/L的混合溶液；加热工序，该加热工序对混合溶液进行加热；以及清洗工序，该清洗工序运送加热后的混合溶液，使之接触半导体基板(100)并进行清洗。
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公开(公告)号：CN101981242B
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：CN200980111052.3
申请日：2009-03-25
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: D04H1/4282 , D04H1/4318 , D04H1/4326 , D04H1/72 , D01D1/02 , D01D5/00 , C02F1/28 , B01D39/16 , B01D71/32 , B01D71/34 , B01J20/26
CPC classification number: D01D5/0038 , B01D39/1623 , B01D2239/0631 , B01D2239/10 , B01J20/26 , B01J20/28023 , B01J47/127 , C02F1/42 , C02F2103/04 , D01F6/48 , D04H1/728 , D04H3/02 , Y10T442/637
Abstract: 本发明涉及一种含有非电解质聚合物与电解质聚合物且兼具双方性质及优点的杂化聚合物纤维体及其制造方法、和包含该杂化聚合物纤维体的的过滤器。在喷出口(1)与靶(相反表面部)(3)之间，以喷出口(1)侧为正、靶(3)侧为负的方式，施加电压，自喷出口(1)使非电解质聚合物及电解质聚合物的混合溶液朝向靶(3)喷出，在靶(3)上聚集含有非电解质聚合物与电解质聚合物的杂化聚合物纤维体(2)。使用该杂化聚合物纤维体(2)用作流体过滤用的过滤器。
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公开(公告)号：CN119855649A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380064526.3
申请日：2023-09-15
Applicant: 栗田工业株式会社
Abstract: 作为利用浓碱比重分离塔(3)将混入到阴离子交换树脂中的阳离子交换树脂进行分离的第一NaOH水溶液，回收使用在阴离子交换树脂再生塔(4)中使用后的第二NaOH水溶液，由此，能够削减NaOH水溶液的使用量并且高精度地进行阴离子交换树脂的再生。如果是这种混合离子交换树脂中的阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的分离再生方法，能够削减利用浓碱比重分离法将混合离子交换树脂的阴离子交换树脂和阳离子交换树脂进行分离时的NaOH溶液的使用量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110225891A
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201780084672.7
申请日：2017-03-09
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小川祐一
Abstract: 本发明的氨水溶液制造装置，通过从氨供给装置向从超纯水制造装置供给的超纯水中供给氨并使氨溶解来制造稀氨水溶液，并将该稀氨水溶液供给至使用点。在此，超纯水制造装置具有供给电阻值为18MΩcm以上、金属离子浓度为1ng/L以下、尤其是0.1ng/L以下的超纯水W的能力。然后，从氨供给装置向超纯水W中添加氨来制造稀氨水。该氨水溶液制造装置，适合于制造氨(铵离子)浓度为100mg/L以下、尤其是50mg/L以下的稀氨水。这种氨水溶液制造装置，能够以稳定的浓度制造氨水溶液，对浓度的改变的追随性优异。
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公开(公告)号：CN108603299A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780010114.6
申请日：2017-03-07
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小川祐一
IPC: C25B15/08 , C25B1/30 , C25B9/18 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种过硫酸溶液制造供给装置及方法，其能缩短半导体晶片清洗装置中的过硫酸溶液的更换时间。在通过第1电解系统(20)向清洗槽(11)循环供给过硫酸溶液的期间，水和硫酸导入第2电解系统的贮存槽(41)，并且通过泵(44)、配管(45)、电解单元(50)、气液分离器(52)、配管(53)而循环，由此生成过硫酸。在进行化学变化时，在从第1电解系统(20)排液之后，将贮存槽(41)内的过硫酸溶液移送至贮存槽(22)。
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公开(公告)号：CN105009258B
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201480011208.1
申请日：2014-02-28
Applicant: 栗田工业株式会社
Inventor： 小川祐一
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02068 , B08B3/08 , C11D3/3947 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D11/0047 , H01L21/32134 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: 一种从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体基板的清洗方法，该方法能够不损伤Al或硅化物膜、Si系绝缘膜、Si系基板等而进行有效的清洗。该方法是从具有以Si为构成成分的层的半导体基板上除去铂和/或铂合金的半导体基板的清洗方法，包括：使含有以硝酸和/或过氧化氢为主要溶质的第1溶液与所述半导体基板接触而进行清洗的第1清洗工序，和使含有包含氧化剂的硫酸溶液和卤化物、且温度为25～100℃的第2溶液与经过第1清洗工序的所述半导体基板接触而进行清洗的第2清洗工序。
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公开(公告)号：CN119855650A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380065492.X
申请日：2023-09-15
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: B01J49/09
Abstract: 本发明的混合离子交换树脂的阴离子交换树脂和阳离子交换树脂的分离再生方法由分离塔、阳离子交换树脂再生塔以及浓碱比重分离塔这三个塔构成。在分离塔中的分离工序中，对阴离子交换树脂和阳离子交换树脂进行分离。将分离出的阴离子交换树脂输送至浓碱比重分离塔，利用阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的中间比重的高浓度的NaOH水溶液将混入的阳离子交换树脂分离并去除，并且进行再生处理。另外，将分离塔中的分离工序中分离出的阳离子交换树脂输送至阳离子交换塔，注入HCl溶液从而对阳离子交换树脂进行再生。如果是这种混合离子交换树脂的阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的分离再生方法，则能够在不增加初始成本的情况下利用浓碱比重分离法精度良好地进行阴离子交换树脂与阳离子交换树脂的分离。
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公开(公告)号：CN113557078A
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN202080020215.3
申请日：2020-02-18
Applicant: 栗田工业株式会社
IPC: B01F1/00 , B01F3/08 , B01F5/00 , B01F15/04 , H01L21/304
Abstract: 稀药液制造装置(1)具有从药液储槽供给药液(S)的柱塞泵以及药液供给管(3)。药液供给管(3)的末端为药液(S)的注入点(11)。该药液供给管(3)经由穿孔接头(13)插入到作为第一配管的超纯水流路(12)的径向的大致中央。而且，在比作为注入点(11)的穿孔接头(13)更靠下游侧设有作为电导率测量机构的电导率计(14)，其与前述控制机构(图中未示出)连接，根据电导率计(14)的测定值，能够控制柱塞泵(4)。只要是这种稀药液制造装置，能够以简单的结构稳定地制造极低酸、碱等浓度的稀药液。
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