用于半导体器件的引线框架

    公开(公告)号:CN100483707C

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200580000327.8

    申请日:2005-04-19

    Abstract: 一种用于半导体器件的Pd-PPF结构的引线框架,包括内引线和外引线,其中构成所述引线框架的衬底的整个表面或至少所述外引线具有复合镀层,所述复合镀层包括由在构成所述引线框架的所述衬底的所述整个表面上或在至少所述外引线上沉积的基于Ni的镀层构成的下层,在所述下层的上表面上沉积的厚度为0.005至0.01μm的Pd或Pd合金镀层,以及在所述Pd或Pd合金镀层的上表面上沉积的厚度为0.02至0.1μm的Au镀层。当通过利用无铅的基于Sn-Zn焊料或任何其它无铅焊料在封装衬底上安装半导体器件时,改善了所述引线框架与所述无铅的基于Sn-Zn的焊料或任何其它无铅焊料之间的润湿性,从而改善了所述半导体器件的封装特性。

    用于半导体器件的引线框架

    公开(公告)号:CN1774803A

    公开(公告)日:2006-05-17

    申请号:CN200580000327.8

    申请日:2005-04-19

    Abstract: 一种用于半导体器件的Pd-PPF结构的引线框架,包括内引线和外引线,其中构成所述引线框架的衬底的整个表面或至少所述外引线具有复合镀层,所述复合镀层包括由在构成所述引线框架的所述衬底的所述整个表面上或在至少所述外引线上沉积的基于Ni的镀层构成的下层,在所述下层的上表面上沉积的厚度为0.005至0.01μm的Pd或Pd合金镀层,以及在所述Pd或Pd合金镀层的上表面上沉积的厚度为0.02至0.1μm的Au镀层。当通过利用无铅的基于Sn-Zn焊料或任何其它无铅焊料在封装衬底上安装半导体器件时,改善了所述引线框架与所述无铅的基于Sn-Zn的焊料或任何其它无铅焊料之间的润湿性,从而改善了所述半导体器件的封装特性。

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