一种低余晖X射线闪烁体膜的制备及应用

    公开(公告)号:CN118064841B

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN202410464729.8

    申请日:2024-04-18

    摘要: 本发明提供一种低余晖X射线闪烁体膜的制备及应用,其包括以下步骤,制备闪烁体原料:按摩尔质量比100:0.1:(0.1‑10)取CsI、TlI和CuI,添加球磨助剂和稳定剂,进行球磨制备CsI:Tl:Cu闪烁体;将CsI:Tl:Cu闪烁体除杂干燥后进行蒸镀;闪烁体蒸镀:以CsI:Tl:Cu闪烁体为蒸发源,采用单源蒸镀即可获得均匀的闪烁体膜层。本发明对原料进行球磨处理生成稳定高纯度的化合物,减小蒸镀过程成膜的不均匀性,并采用亚铜离子掺杂可以大幅降低现有商用的CsI:Tl闪烁体余晖。

    一种无重金属毒性X射线闪烁体膜的制备及应用

    公开(公告)号:CN118460958A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410464741.9

    申请日:2024-04-18

    摘要: 本发明提供一种无重金属毒性X射线闪烁体膜的制备及应用,该制备方法包括,制备Cs3Cu2I5:Mn化合物:取CsI和CuI和锰离子化合物超声搅拌离心清洗预处理后,高温烧结获得Cs3Cu2I5:Mn化合物,研磨后作为单源蒸镀原料进行蒸镀;闪烁体蒸镀:以Cs3Cu2I5:Mn化合物为蒸发源,在基板表面蒸镀;闪烁体封装:使用阻水阻氧的阻隔膜材料对闪烁体膜进行封装即可。本发明通过引入Mn2+掺杂,结合超声搅拌提高闪烁体的产率和发光效率,实现了无毒性金属元素的使用,同时实现了多元素蒸镀时采用单源蒸镀的稳定工艺,大大降低了多源蒸镀的能耗和不均匀性,成像性能优异,可以做到大面积、高厚度批量化制备,满足现有商业化尺寸需求。

    一种提高X光射线探测器帧率的方法、系统及介质

    公开(公告)号:CN118612370A

    公开(公告)日:2024-09-06

    申请号:CN202411080338.2

    申请日:2024-08-08

    摘要: 本申请实施例提供了一种提高X光射线探测器帧率的方法、系统及介质,该方法包括:接收采集指令,基于采集指令动态采集X光影像,将X光影像进行单帧分割;将若干个单帧图像按照采集时间节点进行排序,得到图像组合,设定压缩窗口参数,得到窗口内的像素数据信息,基于动态压缩算法将压缩窗口内的第一帧图像动态压缩,基于图像间对比压缩算法将上一帧图像与当前帧图像进行对比压缩,得到一次压缩结果,根据像素数据信息对一次压缩结果进行二次压缩,将生成的N个压缩图像传输至上位机保存;本发明可以显著提高探测器的成像及出图帧率,适用范围非常的广,对图像的质量可以做到不损失丢失任何图像信息。

    一种低余晖X射线闪烁体膜的制备及应用

    公开(公告)号:CN118064841A

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202410464729.8

    申请日:2024-04-18

    摘要: 本发明提供一种低余晖X射线闪烁体膜的制备及应用,其包括以下步骤,制备闪烁体原料:按摩尔质量比100:0.1:(0.1‑10)取CsI、TlI和CuI,添加球磨助剂和稳定剂,进行球磨制备CsI:Tl:Cu闪烁体;将CsI:Tl:Cu闪烁体除杂干燥后进行蒸镀;闪烁体蒸镀:以CsI:Tl:Cu闪烁体为蒸发源,采用单源蒸镀即可获得均匀的闪烁体膜层。本发明对原料进行球磨处理生成稳定高纯度的化合物,减小蒸镀过程成膜的不均匀性,并采用亚铜离子掺杂可以大幅降低现有商用的CsI:Tl闪烁体余晖。