公开(公告)号：CN102741972B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201080062696.0

申请日：2010-12-10

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 王亚新 ,  李石建 ,  弗里茨·雷德克 ,  约翰·帕克斯 ,  阿尔图尔·科利奇 ,  衡石·亚历山大·尹 ,  塔里克·苏万·德菲利佩 ,  米哈伊尔·科罗利克

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/288 ,  C23C18/1642 ,  C23C18/1689 ,  C23C18/1872 ,  H01L21/76849

Abstract: 用于通过包括集成无电沉积工艺的工艺处理衬底的方法和系统包括在无电沉积模块中处理所述衬底的表面以用沉积流体在所述衬底的导电特征上方沉积层。接着在所述无电沉积模块中用漂洗流体漂洗所述衬底的所述表面。所述漂洗是受控的以防止所述表面的去湿使得由所述漂洗流体限定的转移膜仍然被涂布在所述衬底的所述表面上。所述衬底从所述无电沉积模块被移除，同时将所述转移膜保持在所述衬底的所述表面上。所述衬底的所述表面上的所述转移膜防止所述衬底的所述表面的干燥使得所述移除是湿润的。所述衬底一旦从所述无电沉积模块被移除，其便被移动到后沉积模块中，同时在所述衬底的所述表面上保持所述转移膜。

公开(公告)号：CN102741972A

公开(公告)日：2012-10-17

申请号：CN201080062696.0

申请日：2010-12-10

Applicant: 朗姆研究公司

Inventor： 王亚新 ,  李石建 ,  弗里茨·雷德克 ,  约翰·帕克斯 ,  阿尔图尔·科利奇 ,  衡石·亚历山大·尹 ,  塔里克·苏万·德菲利佩 ,  米哈伊尔·科罗利克

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/288 ,  C23C18/1642 ,  C23C18/1689 ,  C23C18/1872 ,  H01L21/76849

Abstract: 用于通过包括集成无电沉积工艺的工艺处理衬底的方法和系统包括在无电沉积模块中处理所述衬底的表面以用沉积流体在所述衬底的导电特征上方沉积层。接着在所述无电沉积模块中用漂洗流体漂洗所述衬底的所述表面。所述漂洗是受控的以防止所述表面的去湿使得由所述漂洗流体限定的转移膜仍然被涂布在所述衬底的所述表面上。所述衬底从所述无电沉积模块被移除，同时将所述转移膜保持在所述衬底的所述表面上。所述衬底的所述表面上的所述转移膜防止所述衬底的所述表面的干燥使得所述移除是湿润的。所述衬底一旦从所述无电沉积模块被移除，其便被移动到后沉积模块中，同时在所述衬底的所述表面上保持所述转移膜。