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公开(公告)号:CN104797419B
公开(公告)日:2018-02-23
申请号:CN201380029777.4
申请日:2013-05-31
Applicant: 昭和电工株式会社 , NCC纳诺责任有限公司
CPC classification number: C23C30/00 , B41M3/006 , H05K1/036 , H05K1/0373 , H05K1/0393 , H05K1/095 , H05K3/1283 , H05K2201/0195 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明涉及在基础膜(10)上通过具有Tg(玻璃化转变温度)为120℃或更高、更优选200℃或更高的耐热性树脂形成涂层(12),并且通过在涂层(12)的表面上印刷包含导电粒子的印刷复合材料而形成功能薄膜(14),从而形成油墨层。功能薄膜(14)通过光辐照进行加热烧结,由此形成导电层。
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公开(公告)号:CN107584709B
公开(公告)日:2020-04-03
申请号:CN201710717275.0
申请日:2012-03-28
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
Abstract: 本发明涉及以能量有效方式干燥薄膜的方法。公开了一种以选择性方式最小吸收薄膜的热处理方法。两个邻近设置的吸收痕迹与薄膜热接触地被构图。脉冲的辐射源被用来加热两个吸收痕迹,薄膜通过两个吸收痕迹间的传导而被热处理。该方法可被用来制造薄膜晶体管(TFT),其中薄膜是半导体而吸收体是TFT的源极和漏极。
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公开(公告)号:CN102947013A
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN201180015046.5
申请日:2011-04-08
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
IPC: B05D3/06
CPC classification number: B29C35/10 , B29C35/0805 , H01B7/423 , H01L21/67115 , H05B41/34 , H05K1/095 , H05K3/1283 , H05K2203/1545
Abstract: 公开了一种用于使用来自闪光灯的脉冲光热处理低温基板上的材料的方法和装置。将材料传送通过闪光灯。由脉宽调制来形成光脉冲,以设计脉冲的形状从而在基板上生成热梯度,使材料能够被加热到超出基板的最大加工温度而不会损坏。其整形的脉冲速率与传送系统的传送速度同步。通过使用来自反馈传感器的信息,重新计算热梯度以实时地改变脉冲形状,用于实时地优化随后的固化而不对固化装置断电。组合的脉冲整形和同步允许设计在传送方向上均匀固化的样品的温度分布。
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公开(公告)号:CN109715386B
公开(公告)日:2022-06-10
申请号:CN201680086490.9
申请日:2016-06-06
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
Abstract: 公开了使聚合物膜与承载板分层的方法和装置。承载板为至少部分透明的并且其上沉积了吸光材料的像素化图案层,在所述像素化图案层上沉积一层反光材料。待分层的聚合物膜沉积在反光材料层上。接着,使用脉冲光源从与聚合物膜相反的面通过承载板照射以加热吸光材料层。吸光材料层的被加热区域又通过吸光材料层与聚合物膜之间的界面上的传导而加热聚合物膜,由此通过其热分解而由聚合物膜产生气体,这使聚合物膜从承载板上释放。
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公开(公告)号:CN104992901A
公开(公告)日:2015-10-21
申请号:CN201510261174.8
申请日:2011-06-02
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
IPC: H01L21/268 , H01L21/336
CPC classification number: H01L21/428 , B29C35/0266 , B29C35/0272 , B29C35/0805 , B29C2035/0855 , B29C2035/0877 , H01L21/02422 , H01L21/02439 , H01L21/02532 , H01L21/02667 , H01L21/02686 , H01L21/02689 , H01L27/1281 , H01L27/1285 , H01L29/66742 , H01L29/66757 , H01L29/78603 , H01L21/268 , H01L29/6675
Abstract: 本发明涉及用于提供在低温衬底上的薄膜的横向热处理方法。公开了一种用于以选择性方式热处理最小化吸收薄膜的方法。构图热接触薄膜的两个紧邻的吸收痕。使用脉冲辐射源加热两个吸收痕,并且通过在两个吸收痕之间的传导热处理薄膜。此方法可用于制造薄膜晶体管(TFT),在其中薄膜是半导体并且吸收器是TFT的源极和漏极。
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公开(公告)号:CN107584709A
公开(公告)日:2018-01-16
申请号:CN201710717275.0
申请日:2012-03-28
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
Abstract: 本发明涉及以能量有效方式干燥薄膜的方法。公开了一种以选择性方式最小吸收薄膜的热处理方法。两个邻近设置的吸收痕迹与薄膜热接触地被构图。脉冲的辐射源被用来加热两个吸收痕迹,薄膜通过两个吸收痕迹间的传导而被热处理。该方法可被用来制造薄膜晶体管(TFT),其中薄膜是半导体而吸收体是TFT的源极和漏极。
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公开(公告)号:CN104020657A
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201410242013.X
申请日:2009-04-01
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
IPC: G03G19/00
CPC classification number: H05K3/1283 , B05D3/06 , F26B3/343 , H05B41/34 , H05B41/38 , H05K1/095 , H05K1/097 , H05K2203/1545
Abstract: 本发明涉及用于高速固化在低温衬底上的薄膜的方法和装置。公开了一种用于高速热加工在低温衬底上的薄膜的固化装置。所述固化装置包括频闪头、频闪控制模块和传送器控制模块。所述频闪控制模块控制由在所述频闪头上的闪光灯产生的脉冲组的功率、持续时间和重复速率。根据速度信息,所述传送器控制模块与所述频闪控制模块一起提供在所述脉冲组的所述重复速率与所述衬底在所述频闪头下方移动的速度之间的实时同步。
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公开(公告)号:CN102217429B
公开(公告)日:2013-11-13
申请号:CN200980145384.3
申请日:2009-10-19
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
Inventor: K·A·施罗德
IPC: H05K1/09
CPC classification number: H05K3/105 , C23C18/1601 , C23C18/1658 , C23C18/1667 , C23C18/31 , H05K1/0393 , H05K2203/087 , H05K2203/1157 , H05K2203/125 , H05K2203/1545
Abstract: 公开了一种用于使低温基底上的薄膜在反应气氛内反应的方法。所述薄膜包含可还原的金属氧化物,并且所述反应气氛包含诸如氢或甲烷的还原气体。所述低温基底可以为聚合物、塑料或纸。使用来自高强度频闪系统的多个光脉冲将所述金属氧化物还原成金属并且如果适用则烧结所述金属。
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公开(公告)号:CN102959876A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201180015047.X
申请日:2011-04-07
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
IPC: H04B3/00
CPC classification number: B29C35/10 , B29C35/0805 , H01B7/423 , H01L21/67115 , H05B41/34 , H05K1/095 , H05K3/1283 , H05K2203/1545
Abstract: 本发明公开了一种用于固化薄膜的装置。所述装置包括:计算机控制系统、传送系统、闪光灯控制器以及闪光灯。所述固化装置还包括连接在所述闪光灯和所述闪光灯控制器之间的高平均功率、低电感电缆。所述低电感电缆直径较小并且比现有技术更具有挠性,并且包括:以常规六方密堆配置交织的至少一个液体冷却线路和多个前向和返回路径线缆,使得每个线缆邻接到至少一个冷却线路和相反极性的至少一个线缆。
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公开(公告)号:CN109715386A
公开(公告)日:2019-05-03
申请号:CN201680086490.9
申请日:2016-06-06
Applicant: NCC纳诺责任有限公司
Abstract: 公开了使聚合物膜与承载板分层的方法和装置。承载板为至少部分透明的并且其上沉积了吸光材料的像素化图案层,在所述像素化图案层上沉积一层反光材料。待分层的聚合物膜沉积在反光材料层上。接着,使用脉冲光源从与聚合物膜相反的面通过承载板照射以加热吸光材料层。吸光材料层的被加热区域又通过吸光材料层与聚合物膜之间的界面上的传导而加热聚合物膜,由此通过其热分解而由聚合物膜产生气体,这使聚合物膜从承载板上释放。
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