公开(公告)号：CN101116037B

公开(公告)日：2010-06-23

申请号：CN200680004369.3

申请日：2006-02-09

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  寺尾浩一

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/16 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  G02B5/20 ,  C09D9/00

CPC classification number: C09D9/005 ,  G02B5/20 ,  G03F7/168 ,  G03F7/422

Abstract: 本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。

公开(公告)号：CN101116037A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200680004369.3

申请日：2006-02-09

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  寺尾浩一

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/16 ,  G03F7/42 ,  H01L21/027 ,  G02B5/20 ,  C09D9/00

CPC classification number: C09D9/005 ,  G02B5/20 ,  G03F7/168 ,  G03F7/422

Abstract: 本发明涉及一种用于清除含颜料的光敏组合物的光敏组合物清除液。该光敏组合物清除液包含亚烷基二醇单烷基醚、芳烃以及一种或多种选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的溶剂。所述光敏组合物清除液具有优异的光敏组合物清除性能。

公开(公告)号：CN1318043A

公开(公告)日：2001-10-17

申请号：CN00801394.2

申请日：2000-07-13

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  本田芳弘

IPC: C07C29/141 ,  C07C31/27 ,  C07C33/26 ,  C07C45/75 ,  C07C47/46 ,  C07C45/69 ,  C07C47/42 ,  C07C47/453 ,  B01J27/135 ,  B01J23/04

CPC classification number: C07C47/46 ,  B01J27/135 ,  C07C29/141 ,  C07C29/16 ,  C07C45/69 ,  C07C45/75 ,  C07C2601/14 ,  C07C47/42 ,  C07C31/276

Abstract: 本发明涉及以无水四卤化锡为催化剂、以β－取代－α,β－不饱和醛和链状共轭二烯为原料的第尔斯－阿尔德反应制得的1－羟甲基－3－环己烯－1－甲醛化合物的步骤为必要步骤的2位上具有取代基的1,1－环己烷二甲醇化合物的制备方法及其制备中间体的制备方法。由本发明获得的2位上具有取代基的1,1－环己烷二甲醇化合物可作为聚酯、不饱和聚酯、醇酸树脂、聚氨酯、环氧树脂、丙烯酸树脂的原料或官能性有机化合物的原料使用。

公开(公告)号：CN102200699A

公开(公告)日：2011-09-28

申请号：CN201110135461.6

申请日：2004-12-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  清水孝二

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/16

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/325

Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。

公开(公告)号：CN101223483B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200680026390.3

申请日：2006-07-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  寺尾浩一

IPC: G03F7/42 ,  G02B5/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种用于光敏性组合物的清除溶液，用于除去含颜料的光敏性组合物，该溶液含有脂环酮、亚烷基二醇单烷基醚和/或醇和任选地含有乙酸酯。所述清除溶液具有优异的光敏性组合物清除性能。

公开(公告)号：CN1231437C

公开(公告)日：2005-12-14

申请号：CN02806838.6

申请日：2002-03-22

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 门脇靖 ,  金田昌人 ,  内田博

IPC: C07C29/00 ,  B01J23/00

CPC classification number: B01J37/0201 ,  B01J21/08 ,  B01J23/70 ,  B01J23/75 ,  B01J23/755 ,  B01J25/00 ,  B01J25/02 ,  C07C29/132 ,  C07C31/205

Abstract: 本发明涉及一种催化剂，包含选自周期表第V族元素、第VI族元素、第VII族元素、第VIII族元素、第IX族元素、第X族元素和第XI族元素的至少一种元素，用于使通式(1)所示环氧醇在选自醚、酯、芳烃化合物、脂环烃化合物和脂族烃化合物的至少一种溶剂存在下进行氢解反应。利用该催化剂可有效地生产高纯度的两端羟基封端的二醇。

公开(公告)号：CN101044435B

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN200680000164.8

申请日：2006-02-09

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人

IPC: G03F7/16 ,  G02B5/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  G03F7/42 ,  C09D9/00

CPC classification number: C09D9/005 ,  G03F7/168

Abstract: 本发明涉及用于除去含有颜料的感光性组合物的感光性组合物除去液，其含有从烷撑二醇单烷基醚羧酸酯类、烷氧基羧酸酯类及脂环状酮类中选出的至少一种溶剂，和从链状酰胺类、环状酰胺类、含硫化合物和环状酯类中选出的至少一种溶剂，以及根据需要含有碳原子数为9以上的芳香族烃类。该感光性组合物除去液对感光性组合物的除去性能优良。

公开(公告)号：CN101044435A

公开(公告)日：2007-09-26

申请号：CN200680000164.8

申请日：2006-02-09

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人

IPC: G03F7/16 ,  G02B5/20 ,  G03F7/26 ,  H01L21/027 ,  G03F7/42 ,  C09D9/00

CPC classification number: C09D9/005 ,  G03F7/168

Abstract: 本发明涉及用于除去含有颜料的感光性组合物的感光性组合物除去液，其含有从烷撑二醇单烷基醚羧酸酯类、烷氧基羧酸酯类及脂环状酮类中选出的至少一种溶剂，和从链状酰胺类、环状酰胺类、含硫化合物和环状酯类中选出的至少一种溶剂，以及根据需要含有碳原子数为9以上的芳香族烃类。该感光性组合物除去液对感光性组合物的除去性能优良。

公开(公告)号：CN1894629B

公开(公告)日：2011-07-13

申请号：CN200480037241.8

申请日：2004-12-14

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  三河泰广 ,  清水孝二

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/00 ,  C11D7/24 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/168 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/325

Abstract: 一种光敏组合物去除剂，用于除去未固化光敏组合物，该去除剂含有1到80质量％的至少一种分子中有9个或更多个碳原子的芳香烃。所述光敏组合物去除剂还含有无质子极性溶剂以及非无质子极性溶剂的其他溶剂。所述光敏组合物去除剂对于除去沉积在基质周围、边缘或背面处不需要的未固化光敏组合物或除去沉积在用于在玻璃基底、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的方法中的系统部件或设备表面的未固化光敏组合物有效。所述光敏组合物去除剂优选用于在生产液晶显示器、有机EL显示器的方法中在在基底上形成光敏组合物层的方法中使用的含有颜料的光敏组合物。

公开(公告)号：CN101223483A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200680026390.3

申请日：2006-07-11

Applicant: 昭和电工株式会社

Inventor： 金田昌人 ,  寺尾浩一

IPC: G03F7/42 ,  G02B5/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种用于光敏性组合物的清除溶液，用于除去含颜料的光敏性组合物，该溶液含有脂环酮、亚烷基二醇单烷基醚和/或醇和任选地含有乙酸酯。所述清除溶液具有优异的光敏性组合物清除性能。