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公开(公告)号:CN102859638A
公开(公告)日:2013-01-02
申请号:CN201180021657.0
申请日:2011-04-27
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
CPC classification number: H01J37/32724 , H01J37/32348 , H01J37/3255 , H01J61/52 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种用于表面的DBD等离子体处理的平面电极,所述平面电极包括提高到高压的金属壳体(8),所述壳体配有工作部分(2),所述工作部分用于布置成平行于待处理表面(27)。该工作部分(2)在外部覆以绝缘材料板(4),所述绝缘材料板由一聚合物层(6)固定于工作部分。工作部分(2)的内表面与金属壳体(8)一起形成热交换器,所述热交换器连接于冷却流体(10)在其中流通的二次冷却回路(34)。
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公开(公告)号:CN102668721A
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201080053108.7
申请日:2010-11-23
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32348 , C23C16/50 , C23C16/507 , C23C16/545 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2242/1005
Abstract: 本发明涉及用于通过能够产生丝状等离子体的介质阻挡放电来处理基体的表面的装置,该装置包括反应室,反应室包括混合物,混合物的成分使得在接触等离子体后混合物分解并产生能够在基体上大部分或全部沉积成涂层的化学品种,其中之一带有高压AC的至少两个电极布置在反应室中,所述至少两个电极位于基体的两侧,至少一介质阻挡(DBD)布置在所述至少两个电极之间,并且所述装置包括具有次级电路的THT/HF变压器,其中,一直流电源(DC)串联插在次级电路中,使得在等离子体中产生的呈正电离子或负电离子形式的化学品种被靶基体有选择地吸引并且被带有相应电荷的电极排斥,所述靶基进入反应室中并且布置在所述至少两个电极之间。
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公开(公告)号:CN102083554B
公开(公告)日:2012-08-29
申请号:CN200980126120.3
申请日:2009-07-16
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: B08B7/00
CPC classification number: B08B7/0035 , H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32376 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种用于基片(2)的表面制备方法,它包括把基片(2)引入反应室(6,106)中,或者使所述基片移动穿过反应室(6,106)。电介质档板(14,114)被置于电极(1,10,110)之间。产生高频电压,以产生丝状等离子体(12,112)。分子(8,108)被引入反应室(6,106)中。当与等离子体接触时,所述分子产生与基片的表面反应的活性物质。采用与设备的电感器并联放置的可调电感器(L),以减小产生的电压和电流之间的相移,和增大其间电流在等离子体(12,112)中流动的时间。
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公开(公告)号:CN102859638B
公开(公告)日:2016-09-21
申请号:CN201180021657.0
申请日:2011-04-27
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
CPC classification number: H01J37/32724 , H01J37/32348 , H01J37/3255 , H01J61/52 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种用于表面的DBD等离子体处理的平面电极,所述平面电极包括提高到高压的金属壳体(8),所述壳体配有工作部分(2),所述工作部分用于布置成平行于待处理表面(27)。该工作部分(2)在外部覆以绝缘材料板(4),所述绝缘材料板由一聚合物层(6)固定于工作部分。工作部分(2)的内表面与金属壳体(8)一起形成热交换器,所述热交换器连接于冷却流体(10)在其中流通的二次冷却回路(34)。
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公开(公告)号:CN102668721B
公开(公告)日:2015-04-29
申请号:CN201080053108.7
申请日:2010-11-23
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H01J37/32348 , C23C16/50 , C23C16/507 , C23C16/545 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2242/1005
Abstract: 本发明涉及用于通过能够产生丝状等离子体的介质阻挡放电来处理基体的表面的装置,该装置包括反应室,反应室包括混合物,混合物的成分使得在接触等离子体后混合物分解并产生能够在基体上大部分或全部沉积成涂层的化学品种,其中之一带有高压AC的至少两个电极布置在反应室中,所述至少两个电极位于基体的两侧,至少一介质阻挡(DBD)布置在所述至少两个电极之间,并且所述装置包括具有次级电路的VHV/HF变压器,其中,一直流电源(DC)串联插在次级电路中,使得在等离子体中产生的呈正电离子或负电离子形式的化学品种被靶基体有选择地吸引并且被带有相应电荷的电极排斥,所述靶基进入反应室中并且布置在所述至少两个电极之间。
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公开(公告)号:CN102084030B
公开(公告)日:2013-07-24
申请号:CN200980126092.5
申请日:2009-07-16
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: C23C16/509 , C23C16/54 , C03C17/00
CPC classification number: C23C16/509 , C03C17/002 , C03C2218/365 , C23C16/54
Abstract: 一种在基片(2)的两侧同时沉积膜的方法,它包含把基片(2)引入反应室(106、206)中,或者使所述基片移动通过反应室(106、206),在所述室中放置至少两个电极(110、210)。在所述两个电极(110、210)之间放置至少一个电介质挡板(14、114)。与包含所述至少两个电极的电路并联地在变压器的次级电路中放置可调电感器(L)。产生高频电压,所述电压可在所述至少两个电极(110、210)之间的基片的两侧产生丝状等离子体(112、212)。
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公开(公告)号:CN113366141A
公开(公告)日:2021-09-07
申请号:CN201980090261.8
申请日:2019-12-17
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/32 , C23C16/455 , C23C16/503 , C23C16/513 , C23C16/54 , H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种金属基板,其包含具有包括在80与400nm之间的厚度、包含在5与30原子%之间的碳的基于氧化硅的层。本发明还包括一种用于通过PECVD在金属基板上沉积具有包括在80与400nm之间的厚度、包含在5与30原子%之间的碳的基于氧化硅的层的方法。
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公开(公告)号:CN102084030A
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN200980126092.5
申请日:2009-07-16
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: C23C16/509 , C23C16/54 , C03C17/00
CPC classification number: C23C16/509 , C03C17/002 , C03C2218/365 , C23C16/54
Abstract: 一种在基片(2)的两侧同时沉积膜的方法,它包含把基片(2)引入反应室(106、206)中,或者使所述基片移动通过反应室(106、206),在所述室中放置至少两个电极(110、210)。在所述两个电极(110、210)之间放置至少一个电介质挡板(14、114)。与包含所述至少两个电极的电路并联地在变压器的次级电路中放置可调电感器(L)。产生高频电压,所述电压可在所述至少两个电极(110、210)之间的基片的两侧产生丝状等离子体(112、212)。
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公开(公告)号:CN102083554A
公开(公告)日:2011-06-01
申请号:CN200980126120.3
申请日:2009-07-16
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: B08B7/00
CPC classification number: B08B7/0035 , H01J37/32009 , H01J37/32348 , H01J37/32376 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
Abstract: 一种用于基片(2)的表面制备方法,它包括把基片(2)引入反应室(6,106)中,或者使所述基片移动穿过反应室(6,106)。电介质档板(14,114)被置于电极(1,10,110)之间。产生高频电压,以产生丝状等离子体(12,112)。分子(8,108)被引入反应室(6,106)中。当与等离子体接触时,所述分子产生与基片的表面反应的活性物质。采用与设备的电感器并联放置的可调电感器(L),以减小产生的电压和电流之间的相移,和增大其间电流在等离子体(12,112)中流动的时间。
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公开(公告)号:CN119630832A
公开(公告)日:2025-03-14
申请号:CN202380052093.X
申请日:2023-07-25
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: C23C16/40 , H05H1/46 , H01J37/32 , C23C16/503
Abstract: 本发明涉及一种带有装饰性涂层的聚合物基材,所述装饰性涂层包括硼掺杂的硅氧化物的保护顶层,其中,所述硼掺杂的硅氧化物包含Si、O、B、H、和OH基团,其中,硼含量在4原子%至12原子%之间。本发明还包括一种用于在聚合物基材上通过线性中空阴极型PECVD沉积硼掺杂的硅氧化物层的方法,所述硼掺杂的硅氧化物层包括Si、O、B、H和OH基团,并且其中,硼含量在4原子%至12原子%之间。
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