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公开(公告)号：CN113366141A
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN201980090261.8
申请日：2019-12-17
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
IPC: C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/32 , C23C16/455 , C23C16/503 , C23C16/513 , C23C16/54 , H01J37/32
Abstract: 本发明涉及一种金属基板，其包含具有包括在80与400nm之间的厚度、包含在5与30原子％之间的碳的基于氧化硅的层。本发明还包括一种用于通过PECVD在金属基板上沉积具有包括在80与400nm之间的厚度、包含在5与30原子％之间的碳的基于氧化硅的层的方法。
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公开(公告)号：CN114829670A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202080088728.8
申请日：2020-12-18
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
Inventor： G·阿恩尔特
IPC: C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/503 , C23C16/515 , C23C16/54
Abstract: 本发明涉及无应力透明氧化硅涂覆的聚合物基材。本发明进一步涉及一种用于使用包括至少一个空心阴极等离子体源的PECVD装置在聚合物基材上沉积基于无应力透明氧化硅的层的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114829670B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202080088728.8
申请日：2020-12-18
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
Inventor： G·阿恩尔特
IPC: C23C16/40 , C23C16/50 , C23C16/503 , C23C16/515 , C23C16/54
Abstract: 本发明涉及无应力透明氧化硅涂覆的聚合物基材。本发明进一步涉及一种用于使用包括至少一个空心阴极等离子体源的PECVD装置在聚合物基材上沉积基于无应力透明氧化硅的层的方法。
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公开(公告)号：CN114616373A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202080075300.X
申请日：2020-09-23
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
Inventor： G·阿恩尔特
IPC: D06M10/08 , D06M11/74 , C23C16/04 , C23C16/26 , C23C16/455 , C23C16/50 , D06M101/32 , D06M101/34
Abstract: 本发明涉及带有碳基涂层的织物基材并且涉及用于将疏水性碳基涂层沉积在织物基材上的空心阴极等离子体增强化学气相沉积方法。在某些实施例中，本发明在织物基材上提供了耐磨疏水性碳基涂层。
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公开(公告)号：CN114616373B
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202080075300.X
申请日：2020-09-23
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
Inventor： G·阿恩尔特
IPC: D06M10/08 , D06M11/74 , C23C16/04 , C23C16/26 , C23C16/455 , C23C16/50 , D06M101/32 , D06M101/34
Abstract: 本发明涉及带有碳基涂层的织物基材并且涉及用于将疏水性碳基涂层沉积在织物基材上的空心阴极等离子体增强化学气相沉积方法。在某些实施例中，本发明在织物基材上提供了耐磨疏水性碳基涂层。
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公开(公告)号：CN115349031A
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202180025224.6
申请日：2021-01-28
Applicant: 旭硝子欧洲玻璃公司
Inventor： G·阿恩尔特
Abstract: 本发明涉及一种用于用装饰性涂层系统涂覆基材的快速且有效的方法，该方法包括通过线性空心阴极型的第一等离子体源使该基材活化；使用线性空心阴极型的第二等离子体源在该基材的活化表面上沉积包括基于碳的层的底涂层子系统；通过物理气相沉积在该底涂层上沉积PVD涂层子系统，以及任选地使用线性空心阴极型的第三等离子体源沉积包括基于氧化硅的层的顶涂层子系统。本发明进一步涉及一种带有机械上耐久的装饰性涂层系统的基材，该装饰性涂层系统包括包含基于碳的层的底涂层、PVD涂层和任选的包含基于氧化硅的层的顶涂层。
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