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公开(公告)号：CN105340088B
公开(公告)日：2018-09-25
申请号：CN201480033276.8
申请日：2014-06-02
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 一种半导体发光装置，其特征在于，由半导体发光元件(100)及波长转换构件而构成，该半导体发光元件(100)具有将至少2层以上的半导体层(103)(105)与发光层(104)层叠而构成的层叠半导体层(110)，并发出第一光，该波长转换构件至少覆盖半导体发光元件(100)的一部分，吸收第一光的至少一部分，并发出波长与第一光不同的第二光，半导体发光元件(100)在构成半导体发光元件(100)的任一主面上，具备微细结构层作为构成要素，该微细结构层包含由朝面外方向延伸的多个凸部或凹部构成的点，微细结构层构成至少由点间的间距、点径或点高度中的任一个所控制的二维光子晶体(102)，且二维光子晶体(102)至少具有各为1μm以上的2个以上的周期。
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公开(公告)号：CN104210047B
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201410446851.9
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: H01L33/58 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/469 , H01L33/005 , H01L33/20 , H01L2924/0002 , H01L2933/0083 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0
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公开(公告)号：CN108028299A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680054272.7
申请日：2016-09-29
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: H01L33/22
CPC classification number: H01L33/22 , H01L21/0243 , H01L21/0254 , H01L33/007 , H01L33/16
Abstract: 本发明提供一种可高成品率地制造尤其相比现有技术具有优异的发光效率的半导体发光元件的半导体膜，以及使用其的半导体发光元件。本发明为在主面的一部分或整个面形成有凹凸结构(20)的光学基材，所述凹凸结构具备有规则的缺齿部。所述凹凸结构包括凸部(21)、凸部间底部(平坦部)(22)和在低于形成于该凸部间底部的主面的位置具有平坦面的凹部(23)(缺齿部)。此外，优选地，所述凸部以平均间距P0进行配置，所述缺齿部配置于正多边形的顶点或连结所述顶点间的所述正多边形的边上，所述正多边形的边长比平均间距P0更长。
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公开(公告)号：CN104205370B
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201380018450.7
申请日：2013-03-29
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 光学基板(1)在表面设置有凹凸结构(12)，所述凹凸结构(12)包括独立的多个凸部(131～134)以及设置于各凸部(131～134)之间的凹部的平均间隔Pave满足50nm≤Pave≤1500nm，且具有相对于平均凸部高度Have满足0.6Have≥hn≥0的凸部高度hn的凸部(133)以满足1/10000≤Z≤1/5的概率Z存在。若将光学基板(1)用于半导体发光元件中的话，通过使半导体层中的位错分散化并降低位错密度，能够改善内量子效率IQE，且利用光散射消除波导模式来提高光提取效率LEE，提高半导体发光元件的发光效率。(14)。凹凸结构(12)的相邻的凸部(131～134)间
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公开(公告)号：CN103299396A
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201280003345.1
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: H01L33/58 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/469 , H01L33/005 , H01L33/20 , H01L2924/0002 , H01L2933/0083 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0＜lcc＜1.0h式(2)0≤lcv≤0.05h
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103748699B
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201280039901.0
申请日：2012-08-30
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: H01L33/22 , C30B29/38 , G03F7/24 , H01L21/027
CPC classification number: H01L33/22 , B29C43/46 , B29C2043/464 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/2006 , G03F7/24 , H01L21/0237 , H01L21/0243 , H01L21/02458 , H01L21/0254 , H01L21/02658 , H01L33/007 , H01L51/5268 , Y10T428/24479
Abstract: 提供一种具有通过减少导体层中的错位缺陷数改善内量子效率IQE、并提高LED的发光效率的微细结构体的光学用基材。光学用基材（1）具有微细结构层（12），所述微细结构层（12）包含由从基材（11）主面向面外方向延伸的多个凸部13）构成的点，微细结构层（12）在基材（11）主面内的第一方向上具有多个点构成以间距Py排列而成的多个点列（13-1～13-N），在基材（11）主面内的与第一方向正交的第二方向上具有多个点以间距Px排列而成的多个点列，间距Py以及间距Px中的任意一方为纳米尺度的固定间隔，另一方
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公开(公告)号：CN115136144A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202180014276.3
申请日：2021-02-08
Applicant: 旭化成株式会社
IPC: G06K19/077 , H01Q1/38
Abstract: 一种透明天线，其具有透明基材、配置在前述透明基材上的天线部以及与该天线部电接合的接合部，前述接合部具有第一导电性图案和未形成该第一导电性图案的第一开口部，前述天线部具有第二导电性图案和未形成该第二导电性图案的第二开口部，前述第一导电性图案的表面自由能E1为60mJ/m2以下，前述第一开口部处的前述透明基材的表面自由能E0大于前述表面自由能E1。
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公开(公告)号：CN114051514A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202080047831.8
申请日：2020-07-01
Applicant: 旭化成株式会社
Abstract: 提供一种适合于“单分子酶测定”法的生物测定用微孔薄膜及其制造方法。一种生物测定用微孔薄膜，其至少由基材(11)和树脂层(12)构成，所述树脂层(12)设置在前述基材(11)的一个主表面上且表面具有微孔，构成前述基材(11)和前述树脂层(12)的树脂在波长350nm～800nm的各波长处的吸光系数为0.01μm‑1以下。
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公开(公告)号：CN104210046B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410446835.X
申请日：2012-06-18
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: H01L33/58 , B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/424 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H01L21/469 , H01L33/005 , H01L33/20 , H01L2924/0002 , H01L2933/0083 , H01L2924/00
Abstract: 本发明的目的在于为了在被处理体上形成高纵横比的微细图案，提供可容易地形成残留膜薄或无残留膜的微细图案的微细图案形成用积层体及微细图案形成用积层体的制造方法。本发明的微细图案形成用积层体(1)是用于在被处理体(200)上介由第1掩模层(103)形成微细图案(220)的微细图案形成用积层体(1)，其特征在于，具备在表面上具有凹凸结构(101a)的模具(101)和在凹凸结构(101a)上设置的第2掩模层(102)，第2掩模层(102)的距离(lcc)及凹凸结构(101a)的高度(h)满足下述式(1)，且距离(lcv)和高度(h)满足下述式(2)。式(1)0
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公开(公告)号：CN103249562A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201180059183.9
申请日：2011-12-08
Applicant: 旭化成株式会社
CPC classification number: G02B1/14 , C23C18/1216 , C23C18/122 , C23C18/1233 , C23C18/1245 , G02B1/10 , G02B1/105 , H01L31/02366 , Y02E10/50 , Y10T428/24537
Abstract: 本发明可以提供大面积并且高生产率地形成耐环境性、耐气候性、长期稳定性优异的微细凹凸结构的微细结构积层体以及使用该微细结构积层体制作微细结构积层体的方法，同时提供可以高生产率并大面积化地制造微细结构体的方法。本发明的微细结构积层体，其特征在于，具有基材，与所述基材的一个主要表面上设置的表面上具有微细凹凸结构的树脂层，与所述树脂层的所述微细凹凸结构上设置的包含具有与所述树脂层的所述微细凹凸结构对应形状的微细凹凸结构的溶胶凝胶材料的无机层，所述树脂层的所述固化物层侧区域中氟浓度(Es)高于所述树脂层中的平均氟浓度(Eb)。
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