公开(公告)号：CN104541204A

公开(公告)日：2015-04-22

申请号：CN201380042172.9

申请日：2013-09-11

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 玉田春仙 ,  木村伯世 ,  高崎俊彦

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/40 ,  G06F3/041

CPC classification number: G06F3/041 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0755 ,  G06F2203/04103

Abstract: 一种ITO蚀刻用感光性树脂组合物，其含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂、和硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂包含具有巯基烷基的硅烷化合物。

公开(公告)号：CN101592759B

公开(公告)日：2013-06-12

申请号：CN200910140019.5

申请日：2005-10-07

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 柴田智章 ,  牧野龙也 ,  落合雅美 ,  高桥敦之 ,  高崎俊彦

IPC: G02B6/12 ,  G02B6/138 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供对于具有高透明性和高耐热性、且能形成高精度厚膜的光导形成用树脂薄膜特别有用的光学材料用树脂组合物，以及使用该树脂组合物的光学材料用树脂薄膜和使用它的光导。本发明提供的柔性光导，使用1个芯层形成用树脂薄膜和2个包覆层形成用树脂薄膜而制成，其特征在于包覆层形成用树脂薄膜的至少之一是由包覆层形成用树脂和基材薄膜构成，该基材薄膜相对于芯层配置在包覆层的外侧，所述包覆层形成用树脂薄膜是在实施过粘接处理的基材薄膜上制膜包覆层形成用树脂。

公开(公告)号：CN104204948A

公开(公告)日：2014-12-10

申请号：CN201380015589.6

申请日：2013-03-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 山口正利 ,  高崎俊彦 ,  杉本靖 ,  富山健男 ,  江尻贵子 ,  山本和德 ,  川口卓 ,  濑里泰洋 ,  佐藤真弓

IPC: G03F7/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G06F3/041

CPC classification number: G06F3/041 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0755 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明公开了一种用于形成作为利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻时的掩模的抗蚀剂的感光性树脂组合物。该感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂以及(D)硅烷化合物，所述(B)光聚合性化合物包含(B1)具有不饱和基团和异氰脲酸环的化合物。

公开(公告)号：CN104541204B

公开(公告)日：2019-05-14

申请号：CN201380042172.9

申请日：2013-09-11

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 玉田春仙 ,  木村伯世 ,  高崎俊彦

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/40 ,  G06F3/041

Abstract: 一种ITO蚀刻用感光性树脂组合物，其含有粘合剂聚合物、光聚合性化合物、光聚合引发剂、和硅烷偶联剂，所述硅烷偶联剂包含具有巯基烷基的硅烷化合物。