晶片载放台
    1.
    发明公开
    晶片载放台 审中-实审

    公开(公告)号:CN119365973A

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202280008554.9

    申请日:2022-06-28

    Abstract: 晶片载放台10具备:陶瓷基材21,其上表面具有晶片载放面21a,且内置有电极22;第一冷却基材23,该第一冷却基材23是金属与陶瓷的复合材料制的或低热膨胀金属材料制的;金属接合层25,其将陶瓷基材21的下表面和第一冷却基材23的上表面接合;第二冷却基材30,其内部形成有冷媒流路35;散热片40,其配置于第一冷却基材23的下表面与第二冷却基材30的上表面之间;螺纹孔24,其在第一冷却基材23的下表面呈开口;贯通孔36,其设置于与螺纹孔24对置的位置,且沿着上下方向贯穿第二冷却基材30;以及螺纹部件50,其自第二冷却基材30的下表面被插入于贯通孔36,且被螺合于螺纹孔24。

    晶片载放台
    2.
    发明公开
    晶片载放台 审中-实审

    公开(公告)号:CN119585859A

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202280006007.7

    申请日:2022-08-10

    Abstract: 晶片载放台10具备:陶瓷基材20,其具有晶片载放面20a;加热器电极30,其植入于陶瓷基材20;平面形状的上方跳线层40,其设置于有别于加热器电极30的另一层;内部导通柱42,其将上方跳线层40和加热器电极30的一端连接;以及供电导通柱46,其与上方跳线层40连接。上方跳线层40处的内部导通柱42和供电导通柱46的中心间距离为50mm以上。

    陶瓷加热器
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113170539B

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN201980077623.X

    申请日:2019-12-23

    Abstract: 陶瓷加热器10具备陶瓷板20、主电阻发热体22和副电阻发热体23、25。主电阻发热体22是在陶瓷板20的内部设置于与晶片载置面20a平行的第一面P1上的线圈状的发热体。副电阻发热体23、25在陶瓷板20的内部设置于与第一面P1平行且位于第一面P1与晶片载置面20a之间的第二面P2上,是对基于主电阻发热体22的加热进行补充的二维形状的发热体。

    陶瓷加热器
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113056961A

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201980076037.3

    申请日:2019-12-25

    Abstract: 陶瓷加热器(10)具备陶瓷板(20)、主电阻发热体(22)以及副电阻发热体(24)。主电阻发热体(22)设置在陶瓷板(20)的内部,是从一对主端子(22a、22b)中的一方起按一笔画的要领进行布线后到达一对主端子(22a、22b)中的另一方的线圈。副电阻发热体(24)设置在陶瓷板(20)的内部,是对基于主电阻发热体(22)的加热进行补充的二维形状的发热体。

    晶片载放台
    5.
    发明公开
    晶片载放台 审中-实审

    公开(公告)号:CN119968700A

    公开(公告)日:2025-05-09

    申请号:CN202280007295.8

    申请日:2022-10-14

    Abstract: 晶片载放台10具备:陶瓷板20,其上表面至少具有晶片载放部22;冷却板30,其接合于陶瓷板20的下表面,且具有冷媒流路32;气体通用路径51b、52b、53b,其设置成比冷媒流路32更靠上方;气体导入路径51a、52a、53a,其从冷却板30的下表面分别通至各个气体通用路径51b、52b、53b;以及气体分配路径51e、52e、53e,其相对于各个气体通用路径51b、52b、53b而设置有多个。配置于陶瓷板20的最外周的气体分配路径53e设置于俯视不与冷媒流路32重叠的位置。

    晶片载放台
    6.
    发明公开
    晶片载放台 审中-实审

    公开(公告)号:CN119698691A

    公开(公告)日:2025-03-25

    申请号:CN202280006069.8

    申请日:2022-09-02

    Abstract: 晶片载放台(10)的上部基材(20)具备内置有电极(22)的陶瓷基材(21),在陶瓷基材(21)的上表面具有晶片载放面(21a)。下部基材(30)配置在上部基材(20)的下表面侧,具备制冷剂流路(35)。贯通孔(36)沿上下方向贯通下部基材(30)。突起(38)呈点状设置在下部基材(30)的整个上表面,与上部基材(20)的下表面抵接。散热片(40)具有插入突起(38)的突起插入孔(44),以在上部基材(20)和下部基材(30)之间被压缩的状态配置。螺纹孔(24)设置于上部基材(20)的下表面中与贯通孔(36)对置的位置,螺纹部件(50)从下部基材(30)的下表面插入贯通孔(36)而与螺纹孔(24)螺合。导热膏(60)介于突起(38)的侧面与散热片(40)的突起插入孔(44)的内周面之间。

    陶瓷加热器
    7.
    发明公开
    陶瓷加热器 审中-实审

    公开(公告)号:CN116744481A

    公开(公告)日:2023-09-12

    申请号:CN202211285014.3

    申请日:2022-10-20

    Abstract: 本发明提供一种陶瓷加热器,其容易使整个晶片载放面的温度变得均匀。陶瓷加热器(20)具备:陶瓷板(21),其表面具有晶片载放面;区段加热器,其与将陶瓷板(20)的表面分割为多个得到的区段分别对应地植入于陶瓷板;端子(27),其借助陶瓷板(21)的内部配线而与区段加热器的端部连接;端子集中区域(F1~F7),其中集中配置有多个端子(27);端子空缺区域(E1~E17),其中未配置端子。该陶瓷加热器(20)中,作为区段加热器,具备在与端子集中区域(F1~F7)对应的区段所设置的端子集中区域对应区段加热器、以及在与端子空缺区域(E1~E14)对应的区段所设置的端子空缺区域区段加热器。

    陶瓷加热器
    8.
    发明公开
    陶瓷加热器 审中-实审

    公开(公告)号:CN114916100A

    公开(公告)日:2022-08-16

    申请号:CN202111244168.3

    申请日:2021-10-25

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷加热器,其防止在制造时、使用时在陶瓷基体上产生裂纹。本发明的陶瓷加热器,具备埋设于陶瓷基体的内周侧区域的内周侧电阻发热体、埋设于陶瓷基体的外周侧区域的外周侧电阻发热体、对外周侧电阻发热体供电的外周侧供电端子、以及连接外周侧电阻发热体和外周侧供电端子的金属网制的跳线(36a、36b、37a、37b、38a、38b)。跳线(36a等)埋设于与设置有内周侧电阻发热体的平面、设置有外周侧电阻发热体的平面不同的跳线埋设面。跳线(36a等)由将跳线埋设面的金属网圆板分割成多个而成的网状电极构成。

    半导体制造装置用构件以及塞子
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114864435A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210096313.6

    申请日:2022-01-26

    Abstract: 本发明涉及半导体制造装置用构件以及塞子,抑制经由气体流路的绝缘击穿。半导体制造装置用构件(10)具备:陶瓷板(20),其在上表面具有晶片载置面(20a);塞子(40),其设置于陶瓷板(20)的下表面(20b)侧且具有致密质的主体部(45)和一边弯曲一边在厚度方向上贯通主体部(45)的气体流路部(46);气体放出孔(28),其在厚度方向上贯通陶瓷板(20)并与气体流路部(46)的上方连通;以及金属制的冷却板(60),其与陶瓷板(20)的下表面(20b)接合并具有从气体流路部(46)的下方供给气体的气体供给通路(64)。在塞子(40)中,气体流路部(46)的全长中的至少一部分区间是多孔质(47)。

    晶片载置台及其制法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111095521A

    公开(公告)日:2020-05-01

    申请号:CN201880056716.X

    申请日:2018-10-19

    Abstract: 本发明的晶片载置台(10),在具有晶片载置面(12a)的陶瓷基体(12)的内部,从离晶片载置面(12a)较近的一侧以与晶片载置面(12a)平行的方式埋设有第一电极(21)和第二电极(22)。晶片载置台(10)具备将第一电极(21)与第二电极(22)电导通的导通部(30)。导通部(30)是在第一电极(21)与第二电极(22)之间重叠多片与晶片载置面(12a)平行并由板状的金属网构成的圆形部件(32)而成。

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