光调制器用接合体、光调制器及光调制器用接合体的制造方法

    公开(公告)号:CN112612149B

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202011031274.9

    申请日:2020-09-27

    Abstract: 本发明涉及一种光调制器用接合体、光调制器及光调制器用接合体的制造方法。在将由铌酸锂等形成的光波导用材料与支撑基板接合而成的光调制器用接合体及光调制器中,抑制光波导用材料因退火处理而开裂,并且,改善光调制器对频率的光响应特性。光调制器用接合体(6)具备支撑基板(4);光波导用材料(7),其由选自由铌酸锂、钽酸锂及铌酸锂-钽酸锂构成的组中的材质形成,并设置于支撑基板(4)上;以及光波导(8),其存在于光波导材料(7)。支撑基板(4)由选自由氧化镁及镁-硅复合氧化物构成的组中的材质形成。

    接合体以及弹性波元件
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110945787B

    公开(公告)日:2023-06-02

    申请号:CN201880047171.6

    申请日:2018-08-21

    Abstract: 提供一种能够将由铌酸锂和/或钽酸锂构成的压电性材料层牢固地接合于由莫来石构成的支撑基板上的微结构。作为解决方案,提供一种具备支撑基板(3)以及压电性材料层(2)的接合体(1)。支撑基板(3)由莫来石构成,压电性材料层(2)的材质为LiAO3,其中,A为选自由铌和钽构成的组中的一种以上的元素。具备:沿着支撑基板(3)与压电性材料层(2)之间的界面而存在的界面层(4)、以及存在于界面层(4)与支撑基板(3)之间的支撑基板侧中间层(5)。界面层(4)以及支撑基板侧中间层(5)分别以选自由铌和钽构成的组中的一种以上的元素、氧、铝和硅作为主成分。

    接合体及弹性波元件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114144897A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202080029092.X

    申请日:2020-02-21

    Abstract: 本发明提供能够提高弹性波元件的Q值的接合体。接合体9A具备:支撑基板6、压电性材料基板1A、以及支撑基板与压电性材料基板之间的多层膜22。多层膜22具备按以下顺序具有第一层3、第二层7A、第三层3以及第四层7A的层叠结构2。第一层3及第三层3包含硅氧化物,第二层7A及第四层7B包含金属氧化物。第二层7A的折射率高于第一层3的折射率及第三层3的折射率。第二层7A的折射率与第四层7B的折射率不同。

    接合体及弹性波元件
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112272920B

    公开(公告)日:2021-11-16

    申请号:CN201980034943.7

    申请日:2019-04-17

    Abstract: 将包含单晶硅的支撑基板接合于压电性单晶基板而得到的接合体中,使用高电阻接合层,且使支撑基板与压电性单晶基板之间的接合强度得到提高。接合体5、5A具备:压电性单晶基板4、4A;支撑基板1,其包含单晶硅;接合层2A,其设置于支撑基板1与压电性单晶基板4、4A之间,且组成为Si(1-x)Ox(0.008≤x≤0.408);以及非晶质层8,其设置于支撑基板1与接合层2A之间,且含有硅原子、氧原子以及氩原子。非晶质层8的接合层2A侧端部中的氧原子的浓度高于接合层2A内的氧原子的平均浓度。

    接合体和弹性波元件
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111919385B

    公开(公告)日:2021-06-29

    申请号:CN201980018675.X

    申请日:2019-03-14

    Abstract: 提高由多晶陶瓷材料或单晶材料形成的支撑基板与压电性单晶基板的接合强度,并且提高Q值。接合体(5、5A)具备:由多晶陶瓷材料或单晶材料形成的支撑基板(1)、压电性单晶基板(4、4A)、以及设置在支撑基板与压电性单晶基板之间的接合层(2A)。接合层(2A)具有Si(1‑x)Ox(x为氧比率)的组成。氧比率从接合层(2A)的压电性单晶基板(4、4A)侧的端部向接合层(2A)的支撑基板(1)侧的端部增加或减少。接合层(2A)中的氧比率x的最大值为0.013以上0.666以下,氧比率x的最小值为0.001以上0.408以下。

    压电性单晶基板与支撑基板的接合体

    公开(公告)号:CN112088149A

    公开(公告)日:2020-12-15

    申请号:CN201980026646.8

    申请日:2019-02-13

    Abstract: 本发明在由铌酸锂等形成的压电性单晶基板1(1A)与支撑基板3的接合体8(8A)中,抑制加热时的接合体的翘曲。接合体8(8A)具备:支撑基板3;压电性单晶基板1(1A),所述压电性单晶基板1(1A)由选自由铌酸锂、钽酸锂以及铌酸锂-钽酸锂构成的组中的材质形成;以及非晶质层7,所述非晶质层7包含选自由铌和钽构成的组中的一种以上金属原子、构成支撑基板3的原子以及氩原子,且存在于支撑基板3与压电性单晶基板1(1A)之间。非晶质层7的中央部的氩原子的浓度高于非晶质层7的周缘部的氩原子的浓度。

    接合体和弹性波元件
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110463038B

    公开(公告)日:2020-05-22

    申请号:CN201880001047.6

    申请日:2018-03-22

    Abstract: 对于包括:包含多晶陶瓷材料或单晶材料的支撑基板、压电性单晶基板和在支撑基板与压电性单晶基板之间设置的接合层的接合体,提高接合层处的绝缘性,并且提高支撑基板与压电性单晶基板的接合强度。接合体5包括:支撑基板1、压电性单晶基板4和在支撑基板与压电性单晶基板之间设置的接合层2A。接合层2A具有Si(1‑x)Ox(0.008≤x≤0.408)的组成。

    接合体和弹性波元件
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109075758B

    公开(公告)日:2019-12-06

    申请号:CN201780013563.6

    申请日:2017-02-22

    Abstract: 在包含陶瓷的支撑基板上设置接合层,将接合层和压电性单晶基板接合时,使压电性单晶基板与接合层之间的接合强度提高,同时防止接合层与支撑基板之间的剥离。接合体8具有:包含陶瓷的支撑基板1;在支撑基板1的表面1a设置的接合层3A,接合层3A包含选自由莫来石、氧化铝、五氧化钽、氧化钛和五氧化铌构成的组中的一种以上的材质;和与接合层3A接合的压电性单晶基板6A。支撑基板1的表面1a的算术平均粗糙度Ra为0.5nm~5.0nm。

    弹性波装置
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105340178B

    公开(公告)日:2018-10-19

    申请号:CN201480036216.1

    申请日:2014-06-05

    Abstract: 一种弹性波装置(10),是端面反射型的弹性波装置,在压电基板(12)与支撑基板(14)相接合而成的近长方体状复合基板(15)中的压电基板(12)上,配置有一对相互插入的IDT电极(16)、(18)。压电基板(12)的侧面中的与弹性波传播方向正交的第1侧面(12a)的缺口尺寸,在弹性波波长λ的1/10以下。压电基板(12)的侧面中的与弹性波传播方向平行的第2侧面(12b)的缺口尺寸,大于第1侧面(12a)的缺口尺寸,例如在波长λ的1/2以上、50倍以下。

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