防着板支承部件及具有该防着板支承部件的离子源

    公开(公告)号:CN102867717B

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201210057513.7

    申请日:2012-03-06

    IPC分类号: H01J27/02

    摘要: 本发明提供防着板支承部件及具有该防着板支承部件的离子源,能提高将防着板向等离子体生成容器安装及将防着板从等离子体生成容器拆下时的工作效率。防着板支承部件(15)配置在等离子体处理装置及离子束照射装置中所使用的等离子体生成容器(4)内,具有至少一部分与等离子体生成容器(4)的内壁抵接的主体部(16)及从主体部(16)延伸设置的端部(17),在将防着板支承部件(15)组装在等离子体生成容器(4)上时,端部(17)从等离子体生成容器(4)的内壁离开。

    离子注入装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102800550B

    公开(公告)日:2015-08-26

    申请号:CN201210067360.4

    申请日:2012-03-14

    IPC分类号: H01J37/317 H01J37/304

    摘要: 本发明提供离子注入装置,其包括质量分离磁铁,即使在伴随基板尺寸的大型化,带状离子束的长度方向的尺寸增大的情况下,与以往的技术相比,该质量分离磁铁的耗电量小、磁极间的磁场分布均匀且尺寸小。离子注入装置包括:离子源,生成带状离子束;质量分离磁铁,具有一对磁极,该一对磁极隔着离子束的主平面相对设置,通过在磁极之间产生的磁场,使离子束的行进方向在离子束的长度方向上偏转;分析狭缝,使包含所希望的离子种类的离子束通过;处理室,配置有基板,通过分析狭缝后的离子束照射到该基板上。在磁极之间产生的磁场的方向倾斜地横穿通过质量分离磁铁内部的离子束的主平面。

    离子束照射装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109427526B

    公开(公告)日:2020-07-31

    申请号:CN201810532390.5

    申请日:2018-05-29

    摘要: 本发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P),束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S),防护罩(S)包括:前面防护罩(FS),具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H);后面防护罩(BS),配置在与前面防护罩(FS)相对的位置;侧面防护罩(SS),配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位,在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D),门(D)兼用作后面防护罩(BS)。

    质量分析电磁铁
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105575754B

    公开(公告)日:2018-06-26

    申请号:CN201510548657.6

    申请日:2015-08-31

    IPC分类号: H01J49/20

    摘要: 本发明提供一种质量分析电磁铁,其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9),使离子束(IB)向规定的方向偏转,利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子,在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上,分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。

    离子注入装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102800550A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201210067360.4

    申请日:2012-03-14

    IPC分类号: H01J37/317 H01J37/304

    摘要: 本发明提供离子注入装置,其包括质量分离磁铁,即使在伴随基板尺寸的大型化,带状离子束的长度方向的尺寸增大的情况下,与以往的技术相比,该质量分离磁铁的耗电量小、磁极间的磁场分布均匀且尺寸小。离子注入装置包括:离子源,生成带状离子束;质量分离磁铁,具有一对磁极,该一对磁极隔着离子束的主平面相对设置,通过在磁极之间产生的磁场,使离子束的行进方向在离子束的长度方向上偏转;分析狭缝,使包含所希望的离子种类的离子束通过;处理室,配置有基板,通过分析狭缝后的离子束照射到该基板上。在磁极之间产生的磁场的方向倾斜地横穿通过质量分离磁铁内部的离子束的主平面。

    狭缝电极和具有该狭缝电极的带电粒子束发生装置

    公开(公告)号:CN102683144A

    公开(公告)日:2012-09-19

    申请号:CN201110306371.9

    申请日:2011-10-11

    IPC分类号: H01J37/04 H01J37/32 H01J37/08

    摘要: 本发明提供狭缝电极和具有该狭缝电极的带电粒子束发生装置,当带电粒子束发生装置运转时,使狭缝状开口部的形状难以产生热变形。狭缝电极(1)包括:电极框体(2),具有开口部(3);以及多个电极单元(U),能装拆地安装在电极框体(2)上。各电极单元(U)包括:多根电极棒(5),并列设置在开口部(3)内;以及一组电极棒支承构件(6),隔着开口部(3)支承各电极棒(5)的长度方向的端部。

    离子源
    7.
    发明公开
    离子源 审中-实审

    公开(公告)号:CN115241032A

    公开(公告)日:2022-10-25

    申请号:CN202210210121.3

    申请日:2022-03-03

    IPC分类号: H01J37/08 H01J37/317

    摘要: 本发明提供结构简单且即使大型化的情况下材料费用也较低的离子源。离子源(IS2)具有:等离子体容器(1);多个平板状电极(2‑4),排列在从等离子体容器(1)引出离子束的方向上;以及筒状部件(6),位于抑制电极(4)的下游侧,平板状电极(2‑4)在离子束引出方向的最下游侧具有抑制电极(4),所述抑制电极(4)被施加有用于排斥电子的负电压。

    离子束照射装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109427526A

    公开(公告)日:2019-03-05

    申请号:CN201810532390.5

    申请日:2018-05-29

    摘要: 本发明提供一种能够使束电流测量器的维保操作简单化的离子束照射装置。该离子束照射装置(1)具有固定在离子束照射位置的束电流测量器(P),束电流测量器(P)包括测量部(C)和配置在测量部(C)周围的防护罩(S),防护罩(S)包括:前面防护罩(FS),具有使离子束(3)的一部分通向测量部(C)的开口(H);后面防护罩(BS),配置在与前面防护罩(FS)相对的位置;侧面防护罩(SS),配置在除了前面防护罩(FS)和后面防护罩(BS)以外的部位,在离子束照射装置(1)的真空室(8)的壁面上具有能够开闭的门(D),门(D)兼用作后面防护罩(BS)。

    防着板支承部件及具有该防着板支承部件的离子源

    公开(公告)号:CN102867717A

    公开(公告)日:2013-01-09

    申请号:CN201210057513.7

    申请日:2012-03-06

    IPC分类号: H01J27/02

    摘要: 本发明提供防着板支承部件及具有该防着板支承部件的离子源,能提高将防着板向等离子体生成容器安装及将防着板从等离子体生成容器拆下时的工作效率。防着板支承部件(15)配置在等离子体处理装置及离子束照射装置中所使用的等离子体生成容器(4)内,具有至少一部分与等离子体生成容器(4)的内壁抵接的主体部(16)及从主体部(16)延伸设置的端部(17),在将防着板支承部件(15)组装在等离子体生成容器(4)上时,端部(17)从等离子体生成容器(4)的内壁离开。

    质量分析电磁铁
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105575754A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201510548657.6

    申请日:2015-08-31

    IPC分类号: H01J49/20

    摘要: 本发明提供一种质量分析电磁铁,其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9),使离子束(IB)向规定的方向偏转,利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子,在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上,分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。