发明授权
- 专利标题: 质量分析电磁铁
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申请号: CN201510548657.6申请日: 2015-08-31
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公开(公告)号: CN105575754B公开(公告)日: 2018-06-26
- 发明人: 立道润一 , 土肥正二郎 , 西村一平
- 申请人: 日新离子机器株式会社
- 申请人地址: 日本京都府
- 专利权人: 日新离子机器株式会社
- 当前专利权人: 日新离子机器株式会社
- 当前专利权人地址: 日本京都府
- 代理机构: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司
- 代理商 周善来; 李雪春
- 优先权: 2014-224753 2014.11.04 JP
- 主分类号: H01J49/20
- IPC分类号: H01J49/20
摘要:
本发明提供一种质量分析电磁铁,其能抑制在离子束(IB)的质量分离方向以外的位置因离子束(IB)与分析管(9)的壁面碰撞而附着、堆积的堆积物混入目标物(5)中。质量分析电磁铁(2)具备在内侧区域形成离子束(IB)通道的分析管(9),使离子束(IB)向规定的方向偏转,利用质量的不同分离包含在离子束(IB)中的离子,在与离子束(IB)的前进方向和离子束(IB)的质量分离方向垂直的方向上,分析管(9)具有遮蔽离子束(IB)的端部的至少一个遮蔽构件(SH)。
公开/授权文献
- CN105575754A 质量分析电磁铁 公开/授权日:2016-05-11