光刻用涂布膜形成用组合物的制造方法

    公开(公告)号:CN113226511A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN201980082879.X

    申请日:2019-12-18

    Abstract: 本发明涉及一种包含向过滤器滤芯通液的工序的光刻用涂布膜形成用组合物的制造方法,所述过滤器滤芯的特征在于:其为多种过滤用基布层叠了的过滤器滤芯或多种过滤用基布卷绕于中空状内筒的过滤器滤芯,所述过滤用基布是在聚烯烃纤维上化学键合有金属吸附基的无纺布,所述过滤用基布包含无纺布层A和无纺布层B,所述无纺布层A由化学键合有作为金属吸附基的磺酸基的聚烯烃纤维制成,所述无纺布层B由化学键合有作为金属吸附基的选自氨基、N‑甲基‑D‑葡糖胺基、亚氨基二乙酸基、亚氨基二乙醇基、偕胺肟基、磷酸基、羧酸基和乙二胺三乙酸基中的至少一种基团的聚烯烃纤维制成。根据该制造方法,能够降低成为晶片上的微小缺陷的原因的金属杂质。

    有机溶剂的制造方法
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113574043A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202080019703.2

    申请日:2020-03-03

    Abstract: 提供在半导体装置制造中的光刻工序中,成为晶片上的微小缺陷的原因的、金属杂质被减少了的有机溶剂的制造方法、或减少被精制有机溶剂中金属的方法。一种有机溶剂的制造方法,包含向金属除去用过滤筒进行通液的工序,所述金属除去用过滤筒是在中空状内筒层叠或卷绕有多个种类的过滤用基布的过滤筒,所述金属除去用过滤筒的特征在于,所述过滤用基布为在聚烯烃纤维上化学结合有金属吸附基团的无纺布,所述过滤用基布包含无纺布层A和无纺布层B,所述无纺布层A由化学结合有磺酸基作为金属吸附基团的聚烯烃纤维构成,所述无纺布层B由化学结合有选自氨基、N‑甲基‑D‑葡糖胺基、亚氨基二乙酸基、亚氨基二乙醇基、偕胺肟基、磷酸基、羧酸基和乙二胺三乙酸基中的至少一种作为金属吸附基团的聚烯烃纤维构成。

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